專利名稱：對稱布置的真空獲得系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種對稱布置的真空獲得系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
現(xiàn)有的電子槍真空薄膜沉積系統(tǒng)，其真空腔體底部空間被電子槍及其供電部件、水冷部件等所占據(jù)，真空泵系統(tǒng)往往被安裝在真空腔體壁面的一側(cè)，如圖1、2所示，這樣放置的真空泵在腔體內(nèi)形成不對稱的流場，如圖3所示。因流場不對稱，導(dǎo)致腔體內(nèi)橫截面上的壓力分布不均勻從而影響薄膜沉積質(zhì)量。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種流場對稱、不影響成膜質(zhì)量的對稱布置的真空獲得系統(tǒng)。
為達(dá)到上述目的，本發(fā)明的技術(shù)解決方案為一種對稱布置的真空獲得系統(tǒng)，包括真空腔體，在所述真空腔體外側(cè)相對于所述真空腔體水平截面的幾何中心線對稱設(shè)置有若干個真空泵接口。
進(jìn)一步，在所述真空腔體底部沿徑向向外延伸有一盤狀腔體，該盤狀腔體連接一法蘭，在該法蘭邊緣，相對于所述真空腔體水平截面的幾何中心線對稱設(shè)置有若干個真空泵接口。
進(jìn)一步，在所述法蘭盤邊緣，以所述真空腔體水平截面的幾何中心為圓心周向均布有若干個真空泵接口。
進(jìn)一步，在所述真空腔體側(cè)壁相對于真空腔體水平截面的幾何中心線周向均勻設(shè)置有若干個真空泵接口。
由于本發(fā)明中真空泵接口設(shè)置于真空腔體底部法蘭盤的邊緣或真空腔體側(cè)壁，因此真空泵的安裝不影響電子槍及其它部件的安裝和布置，而且，真空泵接口的對稱布置或周向均勻布置保證了真空腔體內(nèi)流場的對稱分布，這種對稱流場使電子槍蒸發(fā)的氣體粒子在基片表面上沉積更加均勻。


圖1為目前普遍的真空獲得系統(tǒng)的主視圖；圖2為目前普遍的真空獲得系統(tǒng)的俯視圖；圖3為目前普遍的真空獲得系統(tǒng)內(nèi)的流場示意圖；圖4為本發(fā)明實施例一真空獲得系統(tǒng)主視圖；圖5為本發(fā)明實施例一真空獲得系統(tǒng)俯視圖；圖6為本發(fā)明實施例二真空獲得系統(tǒng)俯視圖；圖7為本發(fā)明真空腔體內(nèi)的流場示意圖；圖8為本發(fā)明實施例三真空獲得系統(tǒng)主視圖；圖9為本發(fā)明實施例三真空獲得系統(tǒng)俯視圖。
具體實施例方式如圖4、5所示實施例一，本發(fā)明對稱布置的真空獲得系統(tǒng)包括真空腔體1，真空腔體1底部沿徑向向外延伸有一盤狀腔體1’，該盤狀腔體1’連接一法蘭盤2，法蘭盤2上預(yù)設(shè)置有若干個電子槍和其它部件的接口及備用口3，在法蘭盤2邊緣相對于真空腔體1的水平截面的幾何中心線對稱設(shè)置有若干個真空泵接口4，在實施例一中設(shè)置了四個真空泵接口。
法蘭盤2可采用圖4、5所示實施例一中的長方形，或如圖6實施例二所示采用圓盤形或其他形狀。如圖6所示實施例二中，法蘭盤2為圓形，在圓形法蘭盤2上預(yù)設(shè)置有若干個電子槍和其它部件的接口及備用口3，在圓形法蘭盤2邊緣，以所述真空腔體1水平截面的幾何中心為圓心，周向均布有若干個真空泵接口4。
由于真空泵接口4設(shè)置于法蘭盤的邊緣，因此真空泵的安裝不影響電子槍及其它部件的安裝和布置，而且真空泵接口的對稱布置或周向均勻布置保證了真空腔體內(nèi)流場的對稱分布，如圖7所示，這種對稱流場可以使電子槍蒸發(fā)的氣體粒子在其上方的基片表面上沉積更加均勻。
如圖8、9所示實施例三，也是一種對稱布置的真空獲得系統(tǒng)形式，包括真空腔體1，在真空腔體1的側(cè)壁5上以所述真空腔體1水平截面的幾何中心為圓心，周向均布有若干個真空泵接口4，真空腔體1底部設(shè)置有若干個電子槍和其它部件的接口及備用口3。由于真空泵接口4設(shè)置于真空腔體側(cè)壁，因此真空泵的安裝不影響電子槍及其它部件在接口3的安裝和布置，而且真空泵接口的周向均勻布置保證了真空腔體內(nèi)流場的對稱分布，這種對稱流場可以使電子槍蒸發(fā)的氣體粒子在其上方的基片表面上沉積更加均勻。
權(quán)利要求
1.一種對稱布置的真空獲得系統(tǒng)，包括真空腔體，其特征在于在所述真空腔體外側(cè)相對于所述真空腔體水平截面的幾何中心線對稱設(shè)置有若干個真空泵接口。
2.如權(quán)利要求1所述的對稱布置的真空獲得系統(tǒng)，其特征在于在所述真空腔體底部沿徑向向外延伸有一盤狀腔體，該盤狀腔體連接一法蘭，在該法蘭邊緣，相對于所述真空腔體水平截面的幾何中心線對稱設(shè)置有若干個真空泵接口。
3.如權(quán)利要求2所述的對稱布置的真空獲得系統(tǒng)，其特征在于在所述法蘭盤邊緣，以所述真空腔體水平截面的幾何中心為圓心周向均布有若干個真空泵接口。
4.如權(quán)利要求1所述的對稱布置的真空獲得系統(tǒng)，其特征在于在所述真空腔體側(cè)壁相對于真空腔體水平截面的幾何中心線周向均勻設(shè)置有若干個真空泵接口。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種對稱布置的真空獲得系統(tǒng)，包括真空腔體，在所述真空腔體外側(cè)相對于所述真空腔體水平截面的幾何中心線對稱設(shè)置有若干個真空泵接口。由于本發(fā)明真空泵設(shè)置于底法蘭盤的邊緣或真空腔體側(cè)壁，因此真空泵的安裝不影響電子槍及其它部件的安裝和布置，而且真空泵接口的對稱布置或周向均勻布置保證了真空腔體內(nèi)流場的對稱分布，這種對稱流場使電子槍蒸發(fā)的氣體粒子在其上方的基片表面上沉積更加均勻。
文檔編號C23C14/00GK1766320SQ20051012404
公開日2006年5月3日 申請日期2005年11月28日 優(yōu)先權(quán)日2005年11月28日
發(fā)明者劉宏立, 樊菁, 舒勇華 申請人:中國科學(xué)院力學(xué)研究所