專利名稱：用于多個(gè)基板的固持器和具有該固持器的腔室的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種用于固定復(fù)數(shù)個(gè)基板的基板固持器和一種裝配有該基板固持器的腔室，且更特定地說(shuō)，涉及一種用于在位于單個(gè)腔室中的彼此獨(dú)立的復(fù)數(shù)個(gè)基板上執(zhí)行相同或不同處理的基板固持器和一種裝配有該基板固持器的腔室。
背景技術(shù)：
如圖1a和1b中所示，常規(guī)基板固持器包括一主基板固持器10、提供于該主基板固持器10中的次基板固持器11(基板裝配于其上)、安裝于該主基板固持器10下方以垂直舉起該主基板固持器10的提升桿12和用于排出形成于主基板固持器或次基板固持器中的氣體的通氣孔9。一般地說(shuō)，當(dāng)根據(jù)處理的進(jìn)展而有必要交換基板時(shí)，在將主基板固持器10舉起預(yù)定高度之后使用機(jī)器臂或機(jī)器指(未圖示)來(lái)交換裝配于次基板固持器上的基板。
如果將處理氣體供應(yīng)于各個(gè)基板上，則該等處理氣體會(huì)相互干擾。因此，污染物或不均勻沉積會(huì)出現(xiàn)在基板上，尤其在基板的邊緣部分上。特定地說(shuō)，當(dāng)通過(guò)使用至少兩種處理氣體在如此配置的復(fù)數(shù)個(gè)基板上執(zhí)行多層沉積時(shí)，通常有必要根據(jù)沉積處理的進(jìn)展而將該等基板轉(zhuǎn)移至另一腔室中。因此，存在一個(gè)問(wèn)題，即，基板的交換延遲了沉積處理。

發(fā)明內(nèi)容
因此，提出本發(fā)明來(lái)解決現(xiàn)有技術(shù)中的前述問(wèn)題。本發(fā)明的一個(gè)目的為提供一種基板固持器和一種裝配有該基板固持器的腔室，該基板固持器使得可能獨(dú)立執(zhí)行對(duì)于該等復(fù)數(shù)個(gè)基板中的每個(gè)基板而言可控的個(gè)別處理。
根據(jù)用于實(shí)現(xiàn)該目的的本發(fā)明的一個(gè)方面，提供一種用于固定復(fù)數(shù)個(gè)基板的基板固持器。該基板固持器包括用于注射氣簾氣體以將復(fù)數(shù)個(gè)基板彼此隔開(kāi)的復(fù)數(shù)個(gè)噴嘴。
該基板固持器可進(jìn)一步包括一用于將復(fù)數(shù)個(gè)基板彼此隔開(kāi)以獨(dú)立執(zhí)行處理的分隔物。
較佳地，復(fù)數(shù)個(gè)噴嘴可形成于鄰近該分隔物處或形成為環(huán)繞各個(gè)基板。
該基板固持器可進(jìn)一步包括一主基板固持器；提供于該主基板固持器中用于分別固定基板的次基板固持器和用于排出形成于該主基板固持器或該等次基板固持器中的氣體的通氣孔9。
根據(jù)用于實(shí)現(xiàn)該目的的本發(fā)明的另一方面，提供一腔室，其包括如上所述的基板固持器；一下腔室，基板固持器可旋轉(zhuǎn)地裝配于其底部；一用于覆蓋該下腔室的腔室蓋；和用于將處理氣體注射至固定于基板固持器上的各個(gè)基板上的復(fù)數(shù)個(gè)注射器。
根據(jù)用于實(shí)現(xiàn)該目的的本發(fā)明的一額外方面，提供一腔室，其包括一用于固定復(fù)數(shù)個(gè)基板的基板固持器；一下腔室，該基板固持器可旋轉(zhuǎn)地裝配于其底部；一用于覆蓋該下腔室的腔室蓋；用于將處理氣體注射至固定于基板固持器上的各個(gè)基板上的復(fù)數(shù)個(gè)注射器；和用于注射氣簾氣體以將復(fù)數(shù)個(gè)基板彼此隔開(kāi)的復(fù)數(shù)個(gè)噴嘴。
該基板固持器可包括一用于將復(fù)數(shù)個(gè)基板彼此隔開(kāi)的分隔物。較佳地，該分隔物比下腔室的側(cè)壁低。
較佳地，在該分隔物的上末端與腔室蓋之間提供一密封件。
更佳地，可將噴嘴安裝于基板固持器或腔室蓋中。


從與隨附圖式一起給出的較佳實(shí)施例的以下描述中將明顯看出本發(fā)明的以上和其它目的、特征和優(yōu)點(diǎn)，其中圖1a為一常規(guī)基板固持器的平面圖；圖1b為該基板固持器沿圖1a的線A-A的截面?zhèn)纫晥D；圖2a為根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例的基板固持器的平面圖；圖2b為根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例裝配有自上方可看出的圖2a的基板固持器的一腔室的部分剖示立體圖；圖3為根據(jù)本發(fā)明的另一實(shí)施例的一腔室的下腔室(自上方可看出)和腔室蓋(自下方可看出)的立體圖；圖4a為根據(jù)本發(fā)明的一額外實(shí)施例使用圖2b的下腔室的一腔室的下腔室(自上方可看出)和腔室蓋(自下方可看出)的立體圖；圖4b為圖4a的腔室的氣簾氣體供應(yīng)器的細(xì)節(jié)圖；圖5為根據(jù)本發(fā)明的另一額外實(shí)施例使用圖2b的下腔室的一腔室的下腔室(自上方可看出)和腔室蓋(自下方可看出)的立體圖；圖6和7為根據(jù)本發(fā)明的進(jìn)一步實(shí)施例的主基板固持器的立體圖；且圖8為根據(jù)本發(fā)明的另一進(jìn)一步實(shí)施例的下腔室的部分剖示立體圖。
具體實(shí)施例方式
下文將參看隨附圖式詳細(xì)描述根據(jù)本發(fā)明的基板固持器和腔室的較佳圖2a為根據(jù)本發(fā)明的一實(shí)施例的基板固持器的平面圖。圖2b為裝配有圖2a的基板固持器的腔室的立體圖。
主基板固持器10具有用于分別固定復(fù)數(shù)個(gè)基板(例如圖中所示的四個(gè)基板)的次基板固持器11和一用于將該等基板彼此隔開(kāi)的分隔物14。此分隔物14導(dǎo)致當(dāng)在各個(gè)基板上獨(dú)立執(zhí)行不同處理時(shí)該等不同處理互不干擾。此基板固持器可旋轉(zhuǎn)地裝配于下腔室26的底部。被腔室蓋20所覆蓋的下腔室26提供腔室的內(nèi)部空間。腔室蓋裝配有用于供應(yīng)處理氣體至腔室中的注射器13。特定地說(shuō)，如圖2b中所示，如果在分隔物14的上末端與腔室蓋20之間提供一密封件，則可能分別為各個(gè)基板控制溫度。因此，可將復(fù)數(shù)個(gè)基板分別占據(jù)的個(gè)別空間彼此隔開(kāi)，使得不同處理獨(dú)立執(zhí)行于各個(gè)基板上。
參看圖3，由于分隔物14在高度上稍低于下腔室的側(cè)壁，因此在分隔物的上末端與腔室蓋20之間提供有一間隙。隨著將腔室蓋20與下腔室26密封，為下一處理卸下基板(其中執(zhí)行于該腔室中的獨(dú)立處理完成)，且隨后在腔室中裝載一新基板。雖然用于裝載和/或卸下基板的機(jī)構(gòu)未展示于圖中，但是一般通過(guò)形成于下腔室側(cè)壁上的窗口來(lái)裝載和/或卸下基板。為此，有必要垂直移動(dòng)并旋轉(zhuǎn)主基板固持器。該間隙用于防止當(dāng)主基板固持器與覆蓋下腔室的腔室蓋一起垂直移動(dòng)時(shí)附著于主基板固持器的分隔物14的上末端與腔室蓋20發(fā)生碰撞。此外，由于當(dāng)主基板固持器10旋轉(zhuǎn)時(shí)分隔物14與主基板固持器10一起旋轉(zhuǎn)，因此應(yīng)使分隔物14與下腔室26的側(cè)壁間隔開(kāi)一預(yù)定間隙。然而，在此配置中，難以在復(fù)數(shù)個(gè)基板上獨(dú)立執(zhí)行各個(gè)處理。即，由于供應(yīng)至各個(gè)基板的處理氣體通過(guò)分隔物與腔室蓋之間和分隔物與下腔室的側(cè)壁之間的間隙相互干擾，因此其導(dǎo)致基板被污染。為防止該污染，腔室蓋具有噴嘴25，其用于注射氣簾氣體至下腔室中使得間隙被如圖3中所示的氣簾氣體阻斷，且因此獨(dú)立維持用于該等處理的個(gè)別空間。
圖4a、4b和5為根據(jù)本發(fā)明的腔室的兩個(gè)實(shí)施例的示意性立體圖，其包括一腔室蓋和一下腔室且導(dǎo)致各個(gè)處理獨(dú)立執(zhí)行于復(fù)數(shù)個(gè)基板上。參看圖4a，腔室蓋20裝配有對(duì)應(yīng)于各個(gè)基板而被定位的氣簾氣體注射器27。該等氣簾氣體注射器27中的每個(gè)注射器形成有用于注射(例如)氬(Ar)氣至腔室中的噴嘴25。形似一噴頭的氣簾氣體注射器27連接至一用于供應(yīng)氣簾氣體的次供應(yīng)管線17，其自主供應(yīng)管線16分支。氣簾氣體注射器27的每個(gè)注射器的噴嘴25環(huán)繞對(duì)應(yīng)基板注射氬氣。在圖5中所示的實(shí)施例中，腔室蓋具有用于環(huán)繞分隔物14而注射氣簾氣體的噴嘴。噴嘴25沿分隔物的形狀而安裝于腔室蓋20中，且注射氬氣于下腔室中的基板之間以使處理氣體互不干擾。
氬氣簾氣體用于使供應(yīng)至各個(gè)基板上的可互不相同的處理氣體的干擾最小化。使用氬氣簾氣體以將腔室的內(nèi)部空間分隔成被復(fù)數(shù)個(gè)基板所分別占據(jù)的個(gè)別空間，且因此在難以于實(shí)體上完全分隔腔室的內(nèi)部空間時(shí)能夠產(chǎn)生對(duì)應(yīng)于其的環(huán)境。即，如果形成了氬氣簾氣體的下降流，則氬氣簾氣體在基板之間流動(dòng)且充當(dāng)簾幕。因此，通過(guò)注射器而供應(yīng)的各個(gè)處理氣體存在于由氬氣簾氣體的下降流所形成的區(qū)域內(nèi)，其使得可能在各個(gè)基板上執(zhí)行獨(dú)立處理。當(dāng)連同分隔物一起使用氣簾氣體時(shí)，可進(jìn)一步改進(jìn)以上效果。同時(shí)，由于僅氣簾氣體而無(wú)需分隔物可稍微確保腔室中各個(gè)基板的獨(dú)立性，因此可以僅通過(guò)氣簾氣體而無(wú)需在主基板固持器上安裝分隔物而將基板彼此分隔開(kāi)。
圖6和7展示本發(fā)明的進(jìn)一步實(shí)施例，其包括一同時(shí)具有一分隔物和用于供應(yīng)氬氣簾氣體的噴嘴的主基板固持器。圖6中所示的實(shí)施例的基板固持器具有主基板固持器10，其包含分隔物14和環(huán)繞固定于每個(gè)次基板固持器的每個(gè)基板的復(fù)數(shù)個(gè)噴嘴25。圖7中所示的實(shí)施例的基板固持器具有主基板固持器10，其包含分隔物14和沿分隔物14的形狀而形成于該主基板固持器中的復(fù)數(shù)個(gè)噴嘴25。同時(shí)，由于僅氣簾氣體而無(wú)需分隔物可稍微確保各個(gè)基板的獨(dú)立性，因此可以僅通過(guò)氣簾氣體而無(wú)需在主基板固持器上安裝分隔物而將基板彼此分隔開(kāi)。如果在該等實(shí)施例的每種情況中都通過(guò)噴嘴25注射氬氣簾氣體，則處理氣體被供應(yīng)于由氬氣簾氣體所形成的各個(gè)區(qū)域中，使得可將獨(dú)立處理執(zhí)行于各個(gè)基板上。
參看圖8，其展示本發(fā)明的另一進(jìn)一步實(shí)施例，噴嘴安裝于腔室的內(nèi)側(cè)壁而非主基板固持器或腔室蓋中。在此一實(shí)施例中，亦將多個(gè)處理分別獨(dú)立執(zhí)行于復(fù)數(shù)個(gè)基板上。如上所建構(gòu)的本發(fā)明的基板固持器和腔室導(dǎo)致可將處理獨(dú)立執(zhí)行于復(fù)數(shù)個(gè)半導(dǎo)體基板上。因此，可容易地將多層沉積處理執(zhí)行于單個(gè)腔室中，且可廣泛選擇處理氣體。
如在本發(fā)明的實(shí)施例中，如果分隔物和主基板固持器一起旋轉(zhuǎn)，則由于可減少用于交換固定于次基板固持器上的基板的時(shí)間，因此增加了總產(chǎn)率。此外，由于沒(méi)有大量更改基板固持器的現(xiàn)有配置，因此可有效地節(jié)約用于制造本發(fā)明的基板固持器和腔室的成本。
雖然到目前為止已將包括主基板固持器、次基板固持器和形成于主基板固持器中的通氣孔的基板固持器作為本發(fā)明的實(shí)施例做了描述，但是本發(fā)明并不限于此而是由附加權(quán)利要求來(lái)加以界定。很明顯，所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員可在由權(quán)利要求所界定的本發(fā)明的范疇內(nèi)對(duì)其作出各種更改和變化。因此，本發(fā)明的真正范疇?wèi)?yīng)由附加權(quán)利要求的技術(shù)精神來(lái)加以界定。
本申請(qǐng)案含有涉及在2003年8月27日于韓國(guó)知識(shí)產(chǎn)權(quán)局(KoreanIntellectual Property Office)分別申請(qǐng)的韓國(guó)專利申請(qǐng)案第KR10-2003-0059527號(hào)的主旨，其全部?jī)?nèi)容以引用的方式并入本文中。
權(quán)利要求
1.一種用于固定復(fù)數(shù)個(gè)基板的基板固持器，其包括用于注射氣簾氣體以將該等復(fù)數(shù)個(gè)基板彼此分隔開(kāi)的復(fù)數(shù)個(gè)噴嘴。
2.如權(quán)利要求1所述的基板固持器，其進(jìn)一步包括一用于將該等復(fù)數(shù)個(gè)基板彼此分隔開(kāi)的分隔物。
3.如權(quán)利要求2所述的基板固持器，其中該等復(fù)數(shù)個(gè)噴嘴形成于鄰近該分隔物處。
4.如權(quán)利要求1所述的基板固持器，其中該等復(fù)數(shù)個(gè)噴嘴形成為環(huán)繞該等各個(gè)基板。
5.如權(quán)利要求1所述的基板固持器，其包括一主基板固持器；提供于該主基板固持器中的次基板固持器，該等次基板固持器分別固定該等基板；和用于排出形成于該主基板固持器或該等次基板固持器中的氣體的通氣孔。
6.一種腔室，其包括如權(quán)利要求1至5中任一權(quán)利要求所述的基板固持器；一下腔室，該基板固持器可旋轉(zhuǎn)地裝配于其底部；一用于覆蓋該下腔室的腔室蓋；和用于注射處理氣體至固定于該基板固持器上的該等各個(gè)基板上的復(fù)數(shù)個(gè)注射器。
7.一種腔室，其包括一用于固定復(fù)數(shù)個(gè)基板的基板固持器；一下腔室，該基板固持器可旋轉(zhuǎn)地裝配于其底部；一用于覆蓋該下腔室的腔室蓋；用于注射處理氣體至固定于該基板固持器上的該等各個(gè)基板上的復(fù)數(shù)個(gè)注射器；和用于注射氣簾氣體以將該等復(fù)數(shù)個(gè)基板彼此分隔開(kāi)的復(fù)數(shù)個(gè)噴嘴。
8.如權(quán)利要求7所述的腔室，其中該基板固持器包括一用于將該等復(fù)數(shù)個(gè)基板彼此分隔開(kāi)的分隔物。
9.如權(quán)利要求8所述的腔室，其中該分隔物比該下腔室的一側(cè)壁低。
10.如權(quán)利要求8或9所述的腔室，其中一密封件提供于該分隔物的一上末端與該腔室蓋之間。
11.如權(quán)利要求8或9所述的腔室，其中該等噴嘴安裝于該基板固持器中。
12.如權(quán)利要求8或9所述的腔室，其中該等噴嘴安裝于該腔室蓋中。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種用于在位于一單個(gè)腔室中的彼此獨(dú)立的復(fù)數(shù)個(gè)基板上執(zhí)行相同或不同處理的基板固持器和一種裝配有該基板固持器的腔室。根據(jù)本發(fā)明，提供一種用于固定復(fù)數(shù)個(gè)基板的基板固持器。該基板固持器包括用于注射氣簾氣體以將該等復(fù)數(shù)個(gè)基板彼此分隔開(kāi)的復(fù)數(shù)個(gè)噴嘴。
文檔編號(hào)C23C16/458GK1598048SQ200410057328
公開(kāi)日2005年3月23日 申請(qǐng)日期2004年8月27日 優(yōu)先權(quán)日2003年8月27日
發(fā)明者崔政煥, 樸景雄 申請(qǐng)人:周星工程股份有限公司