專利名稱:鋯寶石的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型屬于寶石技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種鋯寶石。它解決了現(xiàn)有技術(shù)設(shè)計(jì)不合理等問題。本鋯寶石包括鋯寶石本體，在鋯寶石本體的一面設(shè)有ZrO2材料鍍膜層，在ZrO2材料鍍膜層遠(yuǎn)離鋯寶石本體的一面設(shè)有SiO2材料鍍膜層，在SiO2材料鍍膜層遠(yuǎn)離ZrO2材料鍍膜層的一面設(shè)有AF材料鍍膜層。本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)在于：實(shí)用性強(qiáng)。
【專利說明】
鋯寶石
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實(shí)用新型屬于寶石技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種鋯寶石。
【背景技術(shù)】
[0002]目前，現(xiàn)有的多媒體裝置上多會設(shè)置一些觸控按鍵。觸控按鍵包括指紋解鎖鍵等等?，F(xiàn)有的指紋解鎖鍵，操作時(shí)在指紋解鎖鍵上會產(chǎn)生指紋、贓物和印跡等等，其次，抗劃傷能力較低，使用壽命較短且實(shí)用性差。
[0003]中國專利其公開號CN102707356A公開了一種彩色濾光片的制作方法、彩色濾光片以及顯示裝置，涉及顯示領(lǐng)域。所述的彩色濾光片的制作方法，包括:獲取一彩色濾光片基板;在彩色濾光片基板上涂覆一層第一感光材料，形成第一感光材料的涂層;在第一感光材料的涂層上涂覆第二感光材料，形成第二感光材料的涂層;對所述彩色濾光片基板上的所述第一感光材料的涂層、所述第二感光材料的涂層進(jìn)行曝光、顯影，在所述彩色濾光片基板上形成隔墊物;所述隔墊物為臺階結(jié)構(gòu)，并且所述第一感光材料形成的下臺階的寬度大于所述第二感光材料形成的上臺階的寬度。
[0004]可以看出，上述專利的濾光片能夠提高顯示裝置的顯示效果的穩(wěn)定性。
[0005]但是，上述的方案未能解決上述的技術(shù)問題，另外，其結(jié)構(gòu)復(fù)雜且不易制造，折射率較差。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0006]本實(shí)用新型的目的是針對上述問題，提供一種能夠提高折射率且延長使用壽命，實(shí)用性更強(qiáng)的可控硅安全控制電路。
[0007]本實(shí)用新型的另外一個(gè)目的是針對上述問題，提供一種結(jié)構(gòu)簡單且更實(shí)用的可控硅安全控制電路。
[0008]為達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型采用了下列技術(shù)方案:本鋯寶石加工工藝包括如下步驟:
[0009]A、備料:制備鋯寶石本體、Zr02材料、Si02材料和AF材料；
[0010]B、抽真空:將鋯寶石本體放入鍍膜腔體傘架中，關(guān)門抽真空，然后旋轉(zhuǎn)工件盤，鍍膜腔體內(nèi)在常溫下抽真空且鍍膜腔體內(nèi)被抽真空后鍍膜腔體內(nèi)的真空度為8.0E_4Pa;
[0011 ] C、鍍層:將Zr02材料、Si02材料和AF材料分別放入相應(yīng)的蒸發(fā)源中，蒸發(fā)源與鍍膜腔體連通，相應(yīng)的蒸發(fā)源分別通過蒸發(fā)工藝依次將Zr02材料、Si02材料和AF材料鍍在鋯寶石本體上，g卩，在鋯寶石本體上形成Zr02材料鍍膜層、Si02材料鍍膜層和AF材料鍍膜層，制得鋯寶石成品；設(shè)置了 Zr02材料鍍膜層、Si02材料鍍膜層和AF材料鍍膜層能夠使結(jié)構(gòu)更加緊湊，同時(shí)，進(jìn)一步提高了牢靠度。
[0012]D、取料:入氣開門，將制得鋯寶石成品取出。
[0013]通過上述的工藝可以具有以下優(yōu)點(diǎn):
[0014]1、操作時(shí)不會產(chǎn)生指紋、贓物、印跡；
[0015]2、如果有灰塵、贓物、印跡出現(xiàn)在表面時(shí)，很容易擦拭干凈；
[0016]3、具有極強(qiáng)的抗劃傷效果，莫氏硬度高達(dá)9H。
[0017]4、提高了光線透過率，透過率98%以上，亮度增強(qiáng)，成像清晰。
[0018]在上述的鋯寶石加工工藝中，在上述的A步驟中，所述的Zr02材料、Si02材料和AF材料均呈固態(tài)結(jié)構(gòu)。
[0019]優(yōu)化方案，在上述的錯(cuò)寶石加工工藝中，在上述的C步驟中，在錯(cuò)寶石本體上形成Zr02材料鍍膜層后間隔Imin然后再在Zr02材料鍍膜層上形成Si02材料鍍膜層，Zr02材料鍍膜層上形成Si02材料鍍膜層后間隔Imin然后再在Si02材料鍍膜層形成AF材料鍍膜層。
[0020]在上述的鋯寶石加工工藝中，在上述的C步驟中，當(dāng)將Zr02材料、Si02材料和AF材料分別放入相應(yīng)的蒸發(fā)源中后，蒸發(fā)源內(nèi)的相應(yīng)電子槍打擊所述的Zr02材料、Si02材料和AF材料，通過蒸發(fā)源使均呈固態(tài)的Zr02材料、Si02材料和AF材料轉(zhuǎn)變?yōu)橐簯B(tài)Zr02材料、液態(tài)Si02材料與液態(tài)AF材料，然后又轉(zhuǎn)變?yōu)闅鈶B(tài)Zr02材料、氣態(tài)Si02材料與氣態(tài)AF材料，再然后轉(zhuǎn)變?yōu)橐簯B(tài)Zr02材料、液態(tài)Si02材料與液態(tài)AF材料，最后轉(zhuǎn)變?yōu)殄冊阡唽毷倔w上的Zr02材料鍍膜層、Si02材料鍍膜層和AF材料鍍膜層。
[0021 ]本鋯寶石包括鋯寶石本體，在鋯寶石本體的一面設(shè)有Zr02材料鍍膜層，在Zr02材料鍍膜層遠(yuǎn)離鋯寶石本體的一面設(shè)有Si02材料鍍膜層，在Si02材料鍍膜層遠(yuǎn)離Zr02材料鍍膜層的一面設(shè)有AF材料鍍膜層。
[0022]在上述的鋯寶石加工工藝中，所述的Si02材料鍍膜層厚度小于Si02材料鍍膜層的厚度，所述的Si02材料鍍膜層厚度小于AF材料鍍膜層的厚度。
[0023]與現(xiàn)有的技術(shù)相比，本鋯寶石加工工藝的優(yōu)點(diǎn)在于:1、設(shè)計(jì)更合理，結(jié)構(gòu)簡單且易于加工制造。2、工藝簡單且易于操控，大幅提高了產(chǎn)品的適用范圍和實(shí)用性。操作時(shí)不會產(chǎn)生指紋、贓物、印跡;如果有灰塵、贓物、印跡出現(xiàn)在表面時(shí)，很容易擦拭干凈;3、具有極強(qiáng)的抗劃傷效果。
【附圖說明】

[0024]圖1是本實(shí)用新型提供的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0025]圖中，鋯寶石本體1、2抑2材料鍍膜層2、5102材料鍍膜層3^?材料鍍膜層4。
【具體實(shí)施方式】
[0026]以下是實(shí)用新型的具體實(shí)施例并結(jié)合附圖，對本實(shí)用新型的技術(shù)方案作進(jìn)一步的描述，但本實(shí)用新型并不限于這些實(shí)施例。
[0027]實(shí)施例一
[0028]如圖1所示，本鋯寶石加工工藝包括如下步驟:
[0029]A、備料:制備鋯寶石本體1、Zr02材料、Si02材料和AF材料；
[0030]B、抽真空:將鋯寶石本體I放入鍍膜腔體傘架中，關(guān)門抽真空，然后旋轉(zhuǎn)工件盤，鍍膜腔體內(nèi)在常溫下抽真空且鍍膜腔體內(nèi)被抽真空后鍍膜腔體內(nèi)的真空度為8.0E_4Pa;
[0031 ] C、鍍層:將Zr02材料、Si02材料和AF材料分別放入相應(yīng)的蒸發(fā)源中，蒸發(fā)源與鍍膜腔體連通，相應(yīng)的蒸發(fā)源分別通過蒸發(fā)工藝依次將Zr02材料、Si02材料和AF材料鍍在鋯寶石本體I上，g卩，在鋯寶石本體I上形成Zr02材料鍍膜層2、Si02材料鍍膜層3和AF材料鍍膜層4，制得鋯寶石成品；
[0032]D、取料:入氣開門，將制得鋯寶石成品取出。
[0033]在上述的A步驟中，所述的Zr02材料、Si02材料和AF材料均呈固態(tài)結(jié)構(gòu)。
[0034]在上述的C步驟中，在鋯寶石本體I上形成Zr02材料鍍膜層2后間隔Imin然后再在Zr02材料鍍膜層2上形成Si02材料鍍膜層3，Zr02材料鍍膜層2上形成Si02材料鍍膜層3后間隔Imin然后再在Si02材料鍍膜層3形成AF材料鍍膜層4。進(jìn)一步地，在上述的C步驟中，當(dāng)將Zr02材料、Si02材料和AF材料分別放入相應(yīng)的蒸發(fā)源中后，蒸發(fā)源內(nèi)的相應(yīng)電子槍打擊所述的Zr02材料、Si02材料和AF材料，通過蒸發(fā)源使均呈固態(tài)的Zr02材料、Si02材料和AF材料轉(zhuǎn)變?yōu)橐簯B(tài)Zr02材料、液態(tài)Si02材料與液態(tài)AF材料，然后又轉(zhuǎn)變?yōu)闅鈶B(tài)Zr02材料、氣態(tài)Si02材料與氣態(tài)AF材料，再然后轉(zhuǎn)變?yōu)橐簯B(tài)Zr02材料、液態(tài)Si02材料與液態(tài)AF材料，最后轉(zhuǎn)變?yōu)殄冊阡唽毷倔wI上的Zr02材料鍍膜層2、Si02材料鍍膜層3和AF材料鍍膜層4。
[0035]本鋯寶石包括鋯寶石本體I，在鋯寶石本體I的一面設(shè)有Zr02材料鍍膜層2，在Zr02材料鍍膜層2遠(yuǎn)離鋯寶石本體I的一面設(shè)有Si02材料鍍膜層3，在Si02材料鍍膜層3遠(yuǎn)離Zr02材料鍍膜層2的一面設(shè)有AF材料鍍膜層4。進(jìn)一步地，這里的Si02材料鍍膜層3厚度小于Si02材料鍍膜層3的厚度，所述的Si02材料鍍膜層3厚度小于AF材料鍍膜層4的厚度。
[0036]本文中所描述的具體實(shí)施例僅僅是對本實(shí)用新型精神作舉例說明。本實(shí)用新型所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對所描述的具體實(shí)施例做各種各樣的修改或補(bǔ)充或采用類似的方式替代，但并不會偏離本實(shí)用新型的精神或者超越所附權(quán)利要求書所定義的范圍。
[0037]盡管本文較多地使用了鋯寶石本體l、Zr02材料鍍膜層2、Si02材料鍍膜層3、AF材料鍍膜層4等術(shù)語，但并不排除使用其它術(shù)語的可能性。使用這些術(shù)語僅僅是為了更方便地描述和解釋本實(shí)用新型的本質(zhì);把它們解釋成任何一種附加的限制都是與本實(shí)用新型精神相違背的。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種鋯寶石，其特征在于，包括鋯寶石本體(I)，在鋯寶石本體(I)的一面設(shè)有Zr02材料鍍膜層(2)，在Zr02材料鍍膜層(2)遠(yuǎn)離鋯寶石本體(I)的一面設(shè)有Si02材料鍍膜層(3)，在Si02材料鍍膜層(3)遠(yuǎn)離Zr02材料鍍膜層(2)的一面設(shè)有AF材料鍍膜層(4)。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鋯寶石，其特征在于，所述的Si02材料鍍膜層(3)厚度小于Si02材料鍍膜層(3)的厚度，所述的Si02材料鍍膜層(3)厚度小于AF材料鍍膜層(4)的厚度。
【文檔編號】C23C14/08GK205710920SQ201620190642
【公開日】2016年11月23日
【申請日】2016年3月11日
【發(fā)明人】葛文志
【申請人】溫嶺市現(xiàn)代晶體有限公司