專利名稱：立式熱處理裝置的制作方法
技術(shù)領域：
本發(fā)明涉及立式熱處理裝置。
背景技術(shù)：
在半導體裝置的制造中，在被處理體例如半導體晶片上具有施以例如氧化、擴散、CVD、退火等各種熱處理的工序，作為用于執(zhí)行這些工序的熱處理裝置之一使用可一次對多枚晶片進行熱處理的立式熱處理裝置。
在該立式熱處理裝置，配備收容多枚晶片用于熱處理的處理容器的同時，設置覆蓋該處理容器周圍的筒狀加熱器。傳統(tǒng)的加熱器在筒狀絕熱材料內(nèi)周設置加熱元件構(gòu)成。
然而，在上述立式熱處理裝置，由于加熱元件和絕熱材料一體形成，在產(chǎn)生加熱元件變差或斷線等故障的情況下，不能只更換加熱元件，存在所謂必須更換加熱器全體的問題。另一方面，也提出配備可單個地更換的多個加熱元件的設備作為加熱器，然而，通常在立式熱處理裝置，對于從收容加熱器的筐體一側(cè)進行維護的構(gòu)造，而在對位于筐體內(nèi)另一側(cè)(反對側(cè))的加熱元件進行更換或保養(yǎng)等維護作業(yè)的情況下，存在所謂操作性即維護性非常差的問題。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是考慮上述各點而作的，其目的是提供可容易進行加熱元件的更換等的維護作業(yè)，謀求提高維護性的立式熱處理裝置。
為了達到上述目的，本發(fā)明的立式熱處理裝置的特征為，配備下述部件，即收容多個被處理體用于熱處理的處理容器，和覆蓋該處理容器周圍的筒狀加熱器，和設置該加熱器的加熱器設置部，和可從一側(cè)維護地收容上述加熱器的筐體；上述加熱器具有可單個地更換的多個加熱元件，在上述加熱器設置部上設置可旋轉(zhuǎn)支持加熱器的旋轉(zhuǎn)支持機構(gòu)。
根據(jù)本發(fā)明，在對位于立式熱處理裝置筐體內(nèi)另一側(cè)的加熱元件進行更換等維護作業(yè)的情況下，使加熱器旋轉(zhuǎn)，使維護位置來到筐體內(nèi)一側(cè)，可以容易進行維護操作，謀求提高維護性。
本發(fā)明的立式熱處理裝置可以具有對通過上述旋轉(zhuǎn)支持機構(gòu)可旋轉(zhuǎn)地支持的加熱器的旋轉(zhuǎn)加以固定的固定部件。根據(jù)本發(fā)明，可以通過固定部件使加熱器不以規(guī)定角度旋轉(zhuǎn)那樣地加以固定。
本發(fā)明的立式熱處理裝置，上述旋轉(zhuǎn)支持機構(gòu)可以具有升降上述加熱器的升降部件，和可旋轉(zhuǎn)地支持上述加熱器的支持部件。根據(jù)本發(fā)明，可以通過升降部件使加熱器上升或下降，可以通過支持部件支持加熱器。據(jù)此，可以舉起加熱器，可旋轉(zhuǎn)地支持，落下加熱器，可以固定旋轉(zhuǎn)。
本發(fā)明的立式熱處理裝置，上述升降部件是螺絲式升降部件或流體壓力式升降部件，上述支持部件可以由球體、滾子、含有特氟隆的低磨擦部件的任一種構(gòu)成。根據(jù)本發(fā)明，通過簡單的構(gòu)造可以舉起重量大的加熱器，容易旋轉(zhuǎn)，謀求提高維護性。
根據(jù)本發(fā)明的立式處理裝置，上述支持部件配置在同一圓周上，在上述加熱器的底部上優(yōu)選設置與上述支持部件卡合的環(huán)狀導向溝槽。根據(jù)本發(fā)明，可以使加熱器沿其周向可靠且容易地旋轉(zhuǎn)，謀求提高維護性。
本發(fā)明的立式熱處理裝置其特征為，配備下述部件，即收容多個被處理體，用于熱處理的處理容器，和覆蓋該處理容器周圍的筒狀加熱器，和設置該加熱器的加熱器設置部，和可從一側(cè)維護地收容上述加熱器的筐體；上述加熱器具有可單個地更換的多個加熱元件，在上述加熱器設置部上設置可旋轉(zhuǎn)支持加熱器的旋轉(zhuǎn)支持機構(gòu)，上述加熱器在水冷結(jié)構(gòu)的筒狀覆蓋體的內(nèi)周上配備多個加熱元件，各加熱元件的端子部貫通覆蓋體，向外周突出，與連接器連接。根據(jù)本發(fā)明，與加熱元件的端子部貫通覆蓋體而向外周突出，具有加熱器的旋轉(zhuǎn)支持機構(gòu)相適應，使加熱元件更換等的維護變得容易，謀求提高維護性。
本發(fā)明的立式熱處理裝置在上述加熱器的覆蓋體的外周面上設置連接器支持部件，在上述連接器支持部件上優(yōu)選固定上述連接器。本發(fā)明的立式熱處理器裝置在上述加熱器的覆蓋體的外周面上設置連接器支持部件，在上述連接器的支持部件上可以對上述連接器和上述加熱元件端子部的固定件加以固定。
根據(jù)本發(fā)明，在連接器支持部件上，固定連接器或?qū)B接器和固定件加以固定，使取出或安裝加熱元件的端子部變得容易。
本發(fā)明的立式熱處理裝置，其特征為，在上述加熱器的覆蓋體的外周面上設置從上述加熱器向徑向外方向大體水平地突出的環(huán)狀連接器支持部件，在上述連接器支持部件上固定上述連接器或/及上述加熱元件端子部的固定件。根據(jù)本發(fā)明，因為使連接器支持部件從加熱器的覆蓋體的外周面向加熱器徑向外方大體水平地突出，所以可以容易地對固定的連接器或加熱元件的端子部固定件進行取出、安裝的作業(yè)。


圖1是示出本發(fā)明的實施方式的立式熱處理裝置的縱截面圖。
圖2是示出旋轉(zhuǎn)支持機構(gòu)構(gòu)成的概略截面圖。
圖3是示出千斤頂部件構(gòu)成的放大截面圖。
圖4是千斤頂部件的底面圖。
圖5是示出通過旋轉(zhuǎn)支持機構(gòu)可旋轉(zhuǎn)地支持加熱器、通過固定部件固定加熱器的構(gòu)成的放大截面圖。
圖6是作為支持部件示出具有滾子的旋轉(zhuǎn)支持機構(gòu)構(gòu)成的概略截面圖。
圖7是作為支持部件示出具有特氟隆的旋轉(zhuǎn)支持機構(gòu)構(gòu)成的概略截面圖。
具體實施例方式
以下，根據(jù)附圖詳述本發(fā)明的實施方式。圖1是示出本發(fā)明的實施方式的立式熱處理裝置的縱截面圖。圖2是示出旋轉(zhuǎn)支持機構(gòu)(旋轉(zhuǎn)支持組合體)構(gòu)成的概略截面圖。圖3是示出千斤頂部件構(gòu)成的放大截面圖，圖4是千斤頂部件的底面圖。在圖2，左半部分示出加熱器的固定狀態(tài)，右半部分示出千斤頂部件托起加熱器的狀態(tài)。
在圖1，1是立式熱處理裝置，該立式熱處理裝置具有形成外圍的筐體11，在該筐體11內(nèi)上方收容被處理體，例如半導體晶片W，設置用于實施規(guī)定處理例如氧化處理的立式熱處理爐2。該熱處理爐2主要由以下部件構(gòu)成，即以下部作為爐口3開口的縱長的處理容器，例如石英制反應管4，和開閉該反應管4爐口3的、可升降的蓋體5，按照覆蓋上述反應管4周圍那樣設置的、可將反應管(爐)4內(nèi)控制加熱到規(guī)定溫度例如300-1200℃的加熱器6。
在上述筐體11內(nèi)，也如圖2所示，經(jīng)架臺29，水平地設置用于設置構(gòu)成熱處理爐2的反應管4或加熱器6的例如SUS制的基座板(加熱器設置部)7。在基座板7上形成用于從下方向上方插入反應管4的開口部7a。上述加熱器6從筐體11的一側(cè)面可維護地加以收容。在筐體11的一側(cè)面上設置用于進行加熱器維護的維護口11a，該維護口11a通常通過未圖示的蓋閉塞。
反應管4是例如石英制的，在圖示例(實施例)由單層管形成。在該反應管4的下端部上形成外向的法蘭部4a，通過由法蘭保持部件8把該法蘭部4a保持在基座板7的下部，反應管4在從下方向上方插通基座板7的開口部7a的狀態(tài)保持。為了清洗等，反應管4從基座板7向下方取出。
在反應管4的法蘭部4a上設置把處理氣體或清潔用惰性氣導入反應管4內(nèi)的多個氣體導入管9。氣體供給系統(tǒng)的配管與這些氣體導入管9連接。反應管4的頂部逐漸縮徑，在該頂部形成L字形排氣口10，在該排氣口10上連接有對反應管4內(nèi)可減壓控制的真空泵或具有壓力控制閥等的排氣系統(tǒng)的配管(省略圖示)。
在比上述筐體11內(nèi)的基座板7還下方的位置上，把在蓋體5上設置的熱處理用載置艙16搬入(裝載)熱處理爐(即反應管4)2內(nèi)，從熱處理爐2搬出(缷載)，或者設置用于進行晶片W對載置艙11移載的作業(yè)領域(裝載區(qū)域)12。在該作業(yè)領域12設置應進行載置艙16的搬入、搬出使蓋體5進行升降的升降機構(gòu)13。
上述蓋體5例如是SUS制的，經(jīng)多個緩沖機構(gòu)，例如彈簧14，在保持板15上保持，該保持板15與上述升降機構(gòu)13連接。蓋體5這樣構(gòu)成，以便與爐口3的開口端抵接，密閉爐口3。在蓋體5的下部中央部上設置用于使載置艙16旋轉(zhuǎn)的載置艙旋轉(zhuǎn)機構(gòu)20。
上述載置艙16例如是石英制的，配備以下部件，即以水平狀態(tài)、上下方向空開間隔多段支持大口徑例如直徑300mm的多枚例如75-100枚程度的晶片W的載置艙主體17，和與用于使該載置艙主體沿晶片周方向旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)機構(gòu)20的轉(zhuǎn)軸20連接的一個支柱的腳部18；一體地形成這些載置艙主體17和腳部18。在上述腳部18上形成法蘭部19，用螺絲使該法蘭部19與旋轉(zhuǎn)機構(gòu)20的旋轉(zhuǎn)軸部連結(jié)。
在上述蓋體5上固定作為爐口保溫裝置的爐口加熱機構(gòu)21。該爐口加熱機構(gòu)21主要由以下部件構(gòu)成，即按照覆蓋蓋體5上面那樣地載置的環(huán)狀覆蓋板22，和在該覆蓋板22上，沿著周方向以合適間隔豎立設置的多個支柱23，和在這些支柱23的上端部上水平地懸掛設置的面狀發(fā)熱電阻體24，在該發(fā)熱電阻體24的下方以合適間隔在支柱23上設置的多枚例如2枚遮熱板25。
上述覆蓋板22、支柱23以及遮熱板22例如是石英制的，通過覆蓋板22保護蓋體5上面免受具有腐蝕性的處理氣體侵蝕。在上述發(fā)熱電阻體24以及遮熱板25上設置包含載置艙16的法蘭部19的腳部18貫通的貫通孔26。從保持板15氣密地貫通蓋體5的狀態(tài)下，設置用于導通供電給上述發(fā)熱電阻體24的電纜的導通管27。在上述覆蓋板22上，在圖示例上雙重設置覆蓋上述法蘭部19周圍以及上方的環(huán)狀遮熱蓋28。這些遮熱蓋28例如是石英制的，按照可以容易裝卸那樣分成二半形成。
另一方面，上述加熱器6主要由下述部件構(gòu)成，即水冷構(gòu)造的筒狀優(yōu)選圓筒狀的覆蓋體30，和在該覆蓋體30的內(nèi)周上可單個更換地設置的多個加熱元件31。覆蓋體30一體地在下端部具有環(huán)狀的底板部30a、在上端部具有環(huán)狀的頂板部30b。從該頂板部30b中央的開口部32突出反應管4的排氣口10。覆蓋體30優(yōu)選例如是SUS制的。在覆蓋體30上例如螺旋狀等地設置用于流通冷部水的通水路33。
加熱元件31是由通過以縱長形狀編入作為電阻發(fā)熱體的碳纖維束，并把它封入石英管內(nèi)而形成的碳加熱器構(gòu)成，在兩端具有端子部34。作為加熱元31使用下列部件，即沿著覆蓋體30內(nèi)周的上下方向設置的主加熱元件31a，和在覆蓋體30內(nèi)周的上部設置的上部加熱元件31b，和在覆蓋體30內(nèi)周的下部設置的下部加熱元件31c，和在頂板部30b的開口部32上設置的頂部加熱元件31d。上部加熱元件31b呈蛇行狀形成，下部加熱元件3 1c以及頂部加熱元件31d呈螺旋狀形成。
各加熱元件31配設在覆蓋體30的內(nèi)周，各加熱元件31的端子部34沿徑向貫通覆蓋體向外周突出，與連接器35連接。在上述覆蓋體30的外周面的上部和下部上設置環(huán)狀凸緣狀部件(連接器支持部件)36，在該凸緣狀部件36上安裝用于連接端子部34的連接器35的同時，安裝用于支持固定端子部34的中途部分的固定件37。連接器35經(jīng)電纜38電連接供電部。
在進行位于筐體11內(nèi)另一側(cè)的加熱元件更換等維護作業(yè)時，為了使加熱器6旋轉(zhuǎn)，以便使維護處來到筐體11內(nèi)的一側(cè)(維護口11a一側(cè))，以容易進行維護作業(yè)，在作為加熱器設置部的基座板7上設置可旋轉(zhuǎn)地支持加熱器6的旋轉(zhuǎn)支持機構(gòu)(旋轉(zhuǎn)支持組合體)40。該旋轉(zhuǎn)支持機構(gòu)40由下列部件構(gòu)成，即頂起落下加熱器6底部(底板部30a的下面)的多個例如4個螺絲式千斤頂部件41，和可旋轉(zhuǎn)地支持在各千斤頂部件41的上部可旋轉(zhuǎn)地設置的加熱器6的底部的球體42(支持部件)。
千斤頂部件41如圖3～圖4所示主要由，如下部件構(gòu)成，即在下端部上具有使旋轉(zhuǎn)工具卡合的例如六角的卡合部43a的絲杠部(升降部件)43，和可上下方向移動地螺合該絲杠部43的托架部44，和在絲杠部43的上端部上経球體支持部(軸承)45，可旋轉(zhuǎn)地設置的球體42(支持部件)。托架部44通過多個例如3個螺絲46可裝卸地安裝在基座板7的下面。上述千斤頂部件41由于在絲杠部43的前端部上可旋轉(zhuǎn)地配備球體42，所以可以稱為所謂圓珠筆(ballpen)型旋轉(zhuǎn)支持機構(gòu)。
在上述基座板7上卡合法蘭部44的筒狀上端部的同時，設置允許包含球體42的球體支持部45的升降移動的穴部47。上述球體支持部45設置在絲杠部43的前端部(上端部)上，在球體42一部分從該球體支持部45的上端部突出的狀態(tài)下，球體42旋轉(zhuǎn)自如地支持在球體支持部45內(nèi)。在上述托架部44上形成球體42不從基座板7的上面突出地收容包含球體42的球體支持部45的收容凹部48。也可以常時設置上述千斤頂部件41，也可以只在維護加熱器6時安裝使用。
千斤頂部件41優(yōu)選是例如SUS制的。此外，上述托架部部44的上端側(cè)外周部上形成法蘭44a，該法蘭部44a用螺絲46安裝固定在基座板7的下面。這種情況下，為了不取出螺絲46而可取出千斤頂部件41，在法蘭部44a上在與基座板7螺接著的螺絲46對應的位置上設置螺絲46的頭部46a可插通的孔部19，和在允許螺絲46從該孔部49向周方向相對移動(即托架部部44的轉(zhuǎn)動)的同時，設置螺絲46頭部46a未插通的長穴部49a。
為了使加熱器6沿其周方向(圍繞軸心)穩(wěn)定地旋轉(zhuǎn)且可轉(zhuǎn)動地支持，上述千斤頂部件41(正確說，支持部件的球體42)配置在以加熱器6的軸心為中心的同一圓周上(即與加熱器同心的圓上)，在加熱器6的底部設置卡合上述千斤頂部件41球體42的環(huán)狀導向溝槽50。該導向溝槽50在與加熱器6同心的圓上環(huán)狀地形成。導向溝槽50優(yōu)選是截面呈V字形的溝槽。
上述加熱器6通常通過從下方擰入的固定螺絲51固定在基座板7上，在加熱器6維護時取出固定螺絲51，也可以通過旋轉(zhuǎn)工具使千斤頂部件41的絲杠43旋轉(zhuǎn)，使加熱器6只從基座板7托起規(guī)定高度h即可。據(jù)此，可容易地轉(zhuǎn)動加熱器。圖1中，39是應當在加熱器上部覆蓋與排氣口10之間的開口部32而設置的、以環(huán)狀分成2半結(jié)構(gòu)的遮熱材料。
在進行更換加熱元件31的維護時，從基座板7取出反應管4，從加熱器6內(nèi)向下方拔取，移至其它場所。而且，例如在對圖1的左側(cè)即與筐體11的維護口11a的反對側(cè)的加熱元件引進行更換時，由于在加熱器6的背后，所以手難以觸及，操作性極差。
因此，取出在基座板7上固定加熱器6的固定螺桿51，通過構(gòu)成加熱器6的旋轉(zhuǎn)支持機構(gòu)40的千斤頂部件41，頂起加熱器6(抬上)。這時，在構(gòu)成千斤頂部件41的絲杠部43的下端的卡合部43a上卡住螺絲扳手等的轉(zhuǎn)動工具，使絲杠部43旋轉(zhuǎn)，通過螺絲傳送作用使絲杠部43上升移動即可。據(jù)此，千斤頂部件上端的球體與加熱器6底部導向溝槽50卡合，頂起加熱器6的底部，可以使重量大的加熱器6容易從基座板7上頂起。
操作整個千斤頂部件41，使加熱器6水平地升起，通過手動使加熱器6旋轉(zhuǎn)，以便使圖1左側(cè)的加熱元件31來到右側(cè)的維護口11a。由于在千斤頂部件41的上部配備球體42，所以可以平滑且容易地使加熱器6旋轉(zhuǎn)。使應更換的加熱元件31來到圖1的右側(cè)，該加熱元件31的端子部34從凸緣狀部36的固定件37及連接器35取出，使該加熱元件31從加熱器6內(nèi)、即覆蓋體30的內(nèi)側(cè)取出，而且，也可以更換為新的加熱元件，這樣，可以容易地進行加熱元件更換等維護。
根據(jù)從以上構(gòu)成形成的立式熱處理裝置1，配備以下部件，即作為收容多枚晶片w用于熱處理的處理容器的反應管4，和覆蓋該反應管4周圍的筒狀加熱器6，和設置該加熱器6的基座板7(加熱器設置部)，和從一側(cè)可維護地收容上述加熱器6的筐體11；由于上述加熱器6具有可單個地更換的多個加熱元件31，在上述基座板7上，設置可轉(zhuǎn)動地支持加熱器的旋轉(zhuǎn)支持機構(gòu)40，所以在進行位于筐體11內(nèi)另一側(cè)的加熱元件31更換等的維護作業(yè)時，使加熱器6轉(zhuǎn)動，以便維護處來到筐體11內(nèi)的一側(cè)，可以容易地進行作業(yè)，謀求提高維護性。
這種情況下，上述加熱器6在水冷構(gòu)造的筒狀覆蓋體30的內(nèi)周上配備多個加熱元件31，各加熱元件31的端子部34貫通覆蓋體30，向外周突出，與連接器35連接。如圖1所示，凸緣狀部件36從覆蓋體30的外周面沿著加熱器6的徑向外方大體水平地延伸，由于在其表面上整齊排列有連接器35和加熱元件的固定件37，所以在覆蓋體30的外側(cè)通過從連接器35向外取出端子部34，可以很容易地從覆蓋體30的內(nèi)側(cè)取出加熱元件31。與該取出的容易性和配備加熱器6的旋轉(zhuǎn)支持機構(gòu)相關(guān)，使加熱元件31的更換等的維護變得容易，謀求提高維護性。
由于上述旋轉(zhuǎn)支持機構(gòu)40由升起降下加熱器6底部的多個螺絲式千斤頂部件41，和可旋轉(zhuǎn)地支持在各千斤頂部件41的上部可轉(zhuǎn)動地設置的加熱器6的底部的球體42構(gòu)成，所以能以簡單的構(gòu)造升起重量大的例如340kg左右的加熱器6，容易地轉(zhuǎn)動，謀求提高維護性。此外，上述千斤頂部件41配置在同一圓周上，由于在加熱器6的底部上設置與上述千斤頂部件41的球體42卡合的環(huán)狀導向溝槽50，所以可以使加熱器6沿其周方向可靠容易地轉(zhuǎn)動，謀求提高維護性。
其次，闡述本發(fā)明的其它實施方式。
在圖1～4的實施方式，旋轉(zhuǎn)支持機構(gòu)40可以升起降下加熱器6的底部，在通常運轉(zhuǎn)時，使絲杠部43下降，如圖2的左半部分所示地固定加熱器6，在進行加熱器元件31更換等的維護時，升起絲杠部43，可使加熱器6轉(zhuǎn)動。
與此相反，本發(fā)明作成不升降旋轉(zhuǎn)支持機構(gòu)的結(jié)構(gòu)，一方面常時地支持加熱器6，另一方面，在正常運轉(zhuǎn)或必須維護時，可以固定加熱器6的旋轉(zhuǎn)。在圖5示出固定加熱器6的旋轉(zhuǎn)的固定部件的一例。
在圖5，在覆蓋體30的底板部30a和基座板7上設置可以匹配的多個孔，在使規(guī)定孔匹配的狀態(tài)下，作為固定部件的螺栓60插通覆蓋體30的底板部30a和底板7。在圖5，旋轉(zhuǎn)支持機構(gòu)40是可以升降球體42的構(gòu)造，然而，旋轉(zhuǎn)支持機構(gòu)40也可以是可旋轉(zhuǎn)支持加熱器6然而不升降支持部件的構(gòu)造。在圖5，作為固定部件用螺栓60，使螺栓60插通在覆蓋體30的底板部30a和基座板7上設置的孔，然而，固定部件可以是本領域普通技術(shù)人員能做的任意的固定部件。例如，也可以在覆蓋體30的底板部30a和基座板7之間打入楔形部件。
在圖1～4的實施方式，可旋轉(zhuǎn)地支持加熱器6的底部的支持部件由球體42形成。
只要支持部件可以旋轉(zhuǎn)地支持加熱器6，則本領域普通技術(shù)人員可以作成能任意地制作的替代裝置。例如支持部件可以作成如圖6所示那樣的滾子61。這時，在覆蓋體30的底板部30a的底面上優(yōu)選設置對滾子61導向的導向溝槽62。此外，支持部件可以作成圖7所示那樣的低摩擦部件63。作為低磨擦部件可以使用例如特氟隆(Teflon)63。特氟隆63優(yōu)選通過支持體保持在周圍，頂面優(yōu)選與覆蓋體30的底板部30a的底面抵接。即使在這種情況下，在底板部30a的底面上也優(yōu)選設置對特氟隆63導向的導向溝槽64。
在以上各實施方式，可旋轉(zhuǎn)地支持加熱器的支持部件(球體42，滾子61，特氟隆63一體地設置在升降加熱器的升降部件(絲杠部43)的上部。可是，支持部件(球體42，滾子61，特氟隆63和升降部件(絲杠部43)可以作成單個部件。這時，支持部件可旋轉(zhuǎn)地支持加熱器6，升降部件可以升降加熱器6。
在以上各實施方式，千斤頂部件41是由絲杠部43和托架部44構(gòu)成的螺絲式千斤部件，然而，也可以是通過流體壓力式，例如油壓對升降機構(gòu)進行升降的機構(gòu)。
在圖1～4的實施方式，支持連接器37的連接器支持部件由環(huán)狀凸緣部件36形成，然而連接器支持部件可以作成任意形狀，例如加熱器6的覆蓋體周圍向加熱器的徑向突出的任意形狀的板。
以上依靠附圖詳述了本發(fā)明的實施方式，然而本發(fā)明并不限于上述的實施方式，在不脫離本發(fā)明的要點范圍，可進行種種設計變更等。例如，作為熱處理裝置也可以這樣構(gòu)成，以便在氧化處理之外，進行CVD處理、擴散處理、退火處理。作為上述載置艙材質(zhì)除石英外也可以是例如碳化硅或多晶硅(Si)等。作為被處理體除半導體晶片外，也可以是例如LCD基板或石英等。反應管也可以作成內(nèi)管和外管的雙重構(gòu)造。作為爐口保溫部件也可以是保溫筒。
權(quán)利要求
1.一種立式熱處理裝置，其特征為，具有收容多個被處理體、用于熱處理的處理容器；覆蓋該處理容器的筒狀加熱器；設置該加熱器的加熱器設置部；和從一側(cè)可維護地收容所述加熱器的筐體，所述加熱器具有可單個地更換的多個加熱元件，在所述加熱器設置部設有可旋轉(zhuǎn)地支持加熱器的旋轉(zhuǎn)支持機構(gòu)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的立式熱處理裝置，其特征為，具有對通過所述旋轉(zhuǎn)支持機構(gòu)可旋轉(zhuǎn)地支持的加熱器的旋轉(zhuǎn)加以固定的固定部件。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的立式熱處理裝置，其特征為，所述旋轉(zhuǎn)支持機構(gòu)具有升降所述加熱器的升降部件；和可旋轉(zhuǎn)地支持所述加熱器的支持部件。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的立式熱處理裝置，其特征為，所述升降部件是螺絲式升降部件或流體壓力式升降部件，所述支持部件由球體、滾子、含有特氟隆的低摩擦部件的任一種形成。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的立式熱處理裝置，其特征為，所述支持部件在同一圓周上配置，在所述加熱器底部上設置與所述支持部件卡合的環(huán)狀導向溝槽。
6.一種立式熱處理裝置，其特征為，具有收容多個被處理體、用于熱處理的處理容器；覆蓋該處理容器周圍的筒狀加熱器；設置該加熱器的加熱器設置部；和從一側(cè)可維護地收容所述加熱器的筐體，所述加熱器具有可單個更換的多個加熱元件，在所述加熱器設置部設置可旋轉(zhuǎn)地支持加熱器的旋轉(zhuǎn)支持機構(gòu)，所述加熱器在水冷構(gòu)造的筒狀覆蓋體的內(nèi)周上配備多個加熱元件，各加熱元件的端子部貫通覆蓋體而向外周突出，與連接器連接。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的立式熱處理裝置，其特征為，在所述加熱器的覆蓋體外周面上設置連接器支持部件，在所述連接器支持部件上固定所述連接器。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的立式熱處理裝置，其特征為，在所述加熱器的覆蓋體外周面上設置連接支持部件，在所述連接器支持部件上固定所述連接器和所述加熱元件端子部的固定件。
9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的立式熱處理裝置，其特征為，在所述加熱器的覆蓋體外周面上設置從所述加熱器向徑向外方大體水平地突出的環(huán)狀連接器支持部件，在所述連接器支持部件上固定所述連接器或/和所述加熱元件端子部的固定件。
全文摘要
本發(fā)明提供容易進行加熱元件的更換等的維護操作，謀求提高維護性的立式熱處理裝置，其特征為，配備以下部件即收容多個被處理體(W)、用于熱處理的處理容器(4)，和覆蓋該處理容器(4)周圍的筒狀加熱器(6)，和設置該加熱器6的加熱器設置部(7)，和從一側(cè)可維護地收容所述加熱器(6)的筐體(11)，所述加熱器(6)可單個更換地具有多個加熱元件(31)，在所述加熱器設置部(7)上設置可旋轉(zhuǎn)地支持加熱器6的旋轉(zhuǎn)支持機構(gòu)(40)。
文檔編號C23C16/46GK1618120SQ0282791
公開日2005年5月18日 申請日期2002年11月29日 優(yōu)先權(quán)日2002年4月12日
發(fā)明者門部雅人, 中尾賢, 山賀健一 申請人:東京毅力科創(chuàng)株式會社