專利名稱：薄膜形成方法、光學(xué)膜、偏振膜及圖像顯示方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種在一個(gè)基片地表面上形成一層或多層的方法和一種包括該層的光學(xué)膜，更具體地說，涉及包括使基片表面經(jīng)受在大氣壓力下或近似在大氣下的等離子放電處理以形成該層的方法及一種帶有由此形成的層的光學(xué)膜。另外，本發(fā)明涉及一種用在液晶顯示器、各種顯示器件、有機(jī)EL顯示器、等離子顯示器等中的光學(xué)膜；一種采用該光學(xué)膜的偏振片；及一種采用該光學(xué)膜或偏振片的圖像顯示器。
本發(fā)明的背景
已經(jīng)提出了用于防反射的各種技術(shù)，以增大透射率和對(duì)比度或使多余反射圖像在諸如光學(xué)透鏡、CRT、計(jì)算機(jī)或文字處理器的液晶顯示器件等之類的場(chǎng)中最少。作為用于防反射的技術(shù)，已知的一種技術(shù)把作為一個(gè)光學(xué)干涉層的一個(gè)多層的折射率和光學(xué)厚度調(diào)節(jié)到一個(gè)適當(dāng)值，并且減小在多層層與大氣空氣之間的界面處的光反射。這樣一個(gè)多層普通包括一個(gè)TiO2、ZrO2、Ta2O5等作為一個(gè)高折射率層；和一個(gè)SiO2、MgF2等作為一個(gè)低折射率層，并且這些層根據(jù)諸如濺射方法之類的采用真空處理的一種干式涂敷方法、一種真空蒸發(fā)方法或一種離子鍍方法成層。然而，真空處理，在要處理的材料具有大尺寸時(shí)，要求一個(gè)大規(guī)模的真空處理設(shè)備，這對(duì)于抽真空太昂貴和太耗時(shí)，導(dǎo)致生產(chǎn)率降低或不能連續(xù)生產(chǎn)。
作為用來制備一個(gè)防反射層的另一種方法，有一種其中諸如烷氧基鈦或烷氧基硅之類的烷氧基金屬涂敷在一個(gè)基片上、干燥及加熱以在基片上形成一個(gè)金屬氧化物層的方法。然而，這種方法要求諸如300℃之類太高溫度作為加熱溫度，并且可能導(dǎo)致基片的損壞。相反，公開在例如日本專利O.P.I.出版物No.8-75904中、把諸如100℃之類的較低溫度作為加熱溫度的方法，對(duì)于層準(zhǔn)備是耗時(shí)的。兩種方法都具有問題。
為了解決關(guān)于準(zhǔn)備時(shí)間和溫度的以上問題，有一種在日本專利O.P.I.出版物No.9-21902中描述的提議，其中在低溫下組合使用一種Ti、Zr、Ta或In的烷氧基和一種在分子中具有兩個(gè)或多個(gè)丙烯?；⒓谆；?、烯丙基或乙烯基的化合物，以制備一種高折射率材料。在日本專利O.P.I.出版物No.7-209503中公開有一種光學(xué)膜涂敷組合物，包括作為一種主要成分的有機(jī)硅化合物的共聚物，該有機(jī)硅化合物具有諸如乙烯基、烯丙基、丙烯?；蚣谆；惖目删酆匣鶊F(tuán)；和諸如烷氧基之類的可水解基，帶有一種可聚合的、未飽和單體，這借助于一種粘合樹脂成分和一種無機(jī)成分均勻地以分子級(jí)混合提供一個(gè)層。在該參考資料中另外有這樣的描述，上述組合物通過在100℃下加熱較長(zhǎng)時(shí)間或用電離輻射照射涂敷和聚合以形成一層膜。
另外，有一種在日本專利O.P.I.出版物No.8-295846和9-220791中公開的技術(shù)，其中包括活性有機(jī)金屬化合物和金屬氧化物或硅烷化合物的組合物通過加熱或電離輻射硬化，以制備一個(gè)防反射層。另外，有另一種在日本專利O.P.I.出版物No.5-270864、5-279598、6-11602、8-122501、8-297201、9-21902和9-25350中公開的技術(shù)，其中不包括活性有機(jī)金屬公合物的組合物采用電子束或紫外線作為電離輻射射線硬化，以制備一個(gè)防反射層。然而，在這些技術(shù)中有這樣的問題，有機(jī)成分的一部分保持未反應(yīng)，并且保持未反應(yīng)的成分隨時(shí)間變化。因此，生成的防反射層引起折射率的變化，并且逐漸失去防反射性能。
作為一種用來解決上述的、真空設(shè)備的使用導(dǎo)致生產(chǎn)率降低或在其中涂敷金屬氧化物通過能量的應(yīng)用硬化的方法中有機(jī)物質(zhì)保持的問題的方法，有一種在日本專利O.P.I.出版物No.11-133205、2000-185362、11-61406、2000-147209、及2000-121804中提出的方法，其中具有防反射性能的膜通過在大氣壓力下或在近似大氣壓力下的等離子放電處理形成。
然而，盡管根據(jù)以上提出的方法僅在小區(qū)域中能形成防反射膜，但在寬和長(zhǎng)的基片上難以形成均勻防反射膜，并且連續(xù)地形成具有恒定折射率和恒定光學(xué)層厚度的防反射膜極為困難。
本發(fā)明概述
本發(fā)明的一個(gè)目的在于，提供一種在一個(gè)基片上連續(xù)和以減小成本制造一個(gè)均勻薄多層的方法、和一種在表面帶有根據(jù)該方法形成的層的光學(xué)膜。
本發(fā)明的另一個(gè)目的在于，提供采用該光學(xué)膜的一種偏振片或一種圖像顯示器。
附圖的簡(jiǎn)要描述


圖1表示在本發(fā)明的層形成方法中使用的等離子放電設(shè)備的一個(gè)實(shí)施例的示意圖。
圖2表示包括一個(gè)轉(zhuǎn)動(dòng)電極一個(gè)固定電極用于本發(fā)明層形成方法的等離子放電設(shè)備的一個(gè)實(shí)施例的示意圖。
本發(fā)明的詳細(xì)描述
本發(fā)明的以上目的能通過如下構(gòu)造實(shí)現(xiàn)
1.一種形成一層或多層的方法，該方法包括步驟(a)把一個(gè)具有一個(gè)第一表面和一個(gè)在相對(duì)第一表面的側(cè)上的第二表面的基片，運(yùn)送到在彼此面對(duì)著的一個(gè)第一電極與一個(gè)第二電極之間形成的一個(gè)間隙，第二表面具有不大于0.9的動(dòng)摩擦系數(shù)；和(b)使基片的第一表面經(jīng)受等離子放電處理，以在大氣壓力下或近似在大氣壓力下在向間隙供給活性氣體的同時(shí)形成該層。
2.一種形成一層或多層的方法，該方法包括步驟，使一個(gè)基片的表面經(jīng)受等離子放電處理，該基片具有從10至60μm厚度和具有不小于1.4×102N/mm2的抗拉強(qiáng)度，以在大氣壓力下或近似在大氣壓力下，在彼此相對(duì)的一個(gè)第一電極與一個(gè)第二電極之間形成的一個(gè)間隙處，在向間隙供給反應(yīng)氣體的同時(shí)，形成該層。
3.一種形成一個(gè)第一層的方法，該方法包括步驟，使一個(gè)基片的表面或提供在一個(gè)基片上的一個(gè)第二層經(jīng)受等離子放電處理，以在大氣壓力下或近似在大氣壓力下，在彼此相對(duì)的一個(gè)第一電極與一個(gè)第二電極之間形成的一個(gè)間隙處，在向間隙供給反應(yīng)氣體的同時(shí)，形成該第一層，其中基片在23℃和80％RH下具有不大于4％的含水量。
4.一種形成一個(gè)第一層的方法，該方法包括步驟，使一個(gè)基片的表面或提供在一個(gè)基片上的一個(gè)第二層經(jīng)受等離子放電處理，以在大氣壓力下或近似在大氣壓力下，在彼此相對(duì)的一個(gè)第一電極與一個(gè)第二電極之間形成的一個(gè)間隙處，在向間隙供給反應(yīng)氣體的同時(shí)，形成該第一層，其中基片已經(jīng)在橫向伸展。
5.以上第3或4項(xiàng)的方法，其中提供在基片上的第二層是一個(gè)硬化樹脂層，其中每個(gè)具有一個(gè)烯屬未飽和雙鍵的一個(gè)單體或低聚物已經(jīng)聚合和硬化。
6.以上第1或5項(xiàng)任一項(xiàng)的方法，其中基片是纖維素酯膜。
7.以上第6項(xiàng)的方法，其中纖維素酯膜包括具有從2.55至2.95的總?；〈潭鹊睦w維素酯。
8.一種光學(xué)膜，具有根據(jù)第1至7項(xiàng)任一項(xiàng)的方法形成的一層或多層。
9.一種偏振片，采用第8項(xiàng)的光學(xué)膜作為保護(hù)膜。
10.一種圖像顯示器，采用以上第8項(xiàng)的光學(xué)膜。
下面將解釋本發(fā)明。
本發(fā)明提供一種其中具有減小層厚度的一個(gè)層或多個(gè)層形成在一個(gè)基片上的方法，該方法包括步驟，使基片表面在大氣壓力下或近似在大氣壓力下在把反應(yīng)氣體供給到形成在彼此相對(duì)的第一電極與第二電極之間的間隙的同時(shí)經(jīng)受等離子放電處理，并且本發(fā)明提供一種具有根據(jù)該方法形成的一個(gè)層或多個(gè)層的光學(xué)膜。
根據(jù)以上第1項(xiàng)的方法是一種其中一個(gè)層或多個(gè)層形成在一個(gè)基片上的方法，該方法包括步驟(a)把一個(gè)具有一個(gè)第一表面和一個(gè)在相對(duì)第一表面的側(cè)上的第二表面的基片，運(yùn)送到在彼此面對(duì)的一個(gè)第一電極與一個(gè)第二電極之間形成的一個(gè)間隙，第二表面具有不大于0.9的動(dòng)摩擦系數(shù)；和(b)使基片的第一表面經(jīng)受等離子放電處理，以在大氣壓力下或近似在大氣壓力下在向間隙供給活性氣體的同時(shí)形成該層。下文，把與要經(jīng)受等離子放電處理的第一表面相對(duì)的基片第二表面也稱作基片的近表面。上述的等離子放電處理稱作一種普通壓力等離子方法或一種大氣壓力等離子方法(下文，在大氣壓力下或近似在大氣壓力下的以上等離子放電處理也簡(jiǎn)單地縮寫為等離子放電處理)。上述方法是這樣一種方法，其中在大氣壓力下或近似在大氣壓力下、在相對(duì)電極之間形成的一個(gè)間隙處、在向間隙供給反應(yīng)氣體的同時(shí)、通過使基片表面經(jīng)受由放電產(chǎn)生的等離子體，在一個(gè)基片上形成一個(gè)層或多個(gè)層。當(dāng)該層或多個(gè)層連續(xù)地形成在一個(gè)長(zhǎng)基片上時(shí)，該方法盡管能以高速形成該層，但具有可能產(chǎn)生層厚度的不均勻性的問題。已經(jīng)進(jìn)行廣泛研究以便解決該問題，并且已經(jīng)發(fā)現(xiàn)，通過控制基片后表面相對(duì)于其上形成該層的表面的滑動(dòng)性，顯著使層厚度的不均勻性最小。即本發(fā)明者已經(jīng)發(fā)現(xiàn)，為了根據(jù)等離子放電處理在一個(gè)基片上形成一個(gè)均勻?qū)?，最好在運(yùn)送在相對(duì)電極之間的一個(gè)間隙的同時(shí)通過使基片的第一表面經(jīng)受等離子放電處理從而第二表面接觸在一側(cè)的電極，在一個(gè)基片上形成一個(gè)層或多個(gè)層，基片的第二表面相對(duì)要形成的層，并且具有不大于0.9的動(dòng)摩擦系數(shù)。超過0.9的動(dòng)摩擦系數(shù)常常降低平穩(wěn)運(yùn)送性，導(dǎo)致層厚度的不均勻。在本發(fā)明中，不大于0.9的動(dòng)摩擦系數(shù)提供穩(wěn)定的可運(yùn)送性，由此能得到具有一個(gè)均勻?qū)拥囊粋€(gè)層或多個(gè)層。動(dòng)摩擦系數(shù)在形成更均勻的層時(shí)最好是從0.2至0.6。帶有具有超過0.9的動(dòng)摩擦系數(shù)的表面的基片可能在接觸表面的電極上作Z字形運(yùn)動(dòng)，導(dǎo)致基片波動(dòng)或扭曲引起不均勻性的有害結(jié)果。
這里提及的動(dòng)摩擦系數(shù)能從相對(duì)于形成在彼此接觸的基片后表面的兩個(gè)之間的界面的測(cè)量得到。為了得到希望的動(dòng)摩擦系數(shù)，最好基片本身包含提供在基片上的顆?；蝾w粒包含層，以形成一個(gè)凹凸表面。以后將解釋具體細(xì)節(jié)。
通過在基片的后表面上提供顆粒，使在基片第一表面經(jīng)受等離子放電處理特別是對(duì)于接觸一個(gè)轉(zhuǎn)動(dòng)電極(基片的)的后表面時(shí)至此出現(xiàn)在放電部分處的不均勻性(缺陷)，如皺或折，最少。另外，使后表面具有落在要求范圍內(nèi)的動(dòng)摩擦系數(shù)的基片限制基片在轉(zhuǎn)動(dòng)電極上的Z字形運(yùn)送，并因此在基片上在較長(zhǎng)時(shí)間連續(xù)地形成一個(gè)層或多個(gè)層，提供一種具有高質(zhì)量的光學(xué)膜。
根據(jù)以上第2項(xiàng)的方法是一種其中一個(gè)均勻?qū)幽苄纬稍谝粋€(gè)甚至具有小厚度的基片上的方法。具有小厚度的基片具有皺折可能出現(xiàn)在等離子放電處理下的問題，但已經(jīng)證明，具有從10至60μm厚度和具有不小于1.4×102N/mm2的抗拉強(qiáng)度的基片克服該問題。小于1.4×102N/mm2的抗拉強(qiáng)度是希望的，因?yàn)椴痪鶆蛐钥赡馨l(fā)生。在本發(fā)明中基片的抗拉強(qiáng)度根據(jù)在JIS K7127-1989中定義的方法確定。在本發(fā)明中，基片的抗拉強(qiáng)度采用由Olyentech Co.，Ltd生產(chǎn)的拉伸試驗(yàn)機(jī)TENSILON RTA-100測(cè)量，條件是切成具有在該JIS中描述的試樣No.1相同尺寸的基片以100mm/min的拉伸速度拉動(dòng)。在本發(fā)明中，具有從10至60μm厚度的基片的抗拉強(qiáng)度希望不小于1.4×102N/mm2，不小于1.45×102N/mm2更好，及不小于1.5×102N/mm2最好。希望在縱(力學(xué))向的抗拉強(qiáng)度和在基片橫向的抗拉強(qiáng)度最好都不小于1.4×102N/mm2，并且最好除上述的之外，基片的抗拉強(qiáng)度基本上都相同。典型地，在橫向的抗拉強(qiáng)度希望在縱(力學(xué))向抗拉強(qiáng)度的±30％的范圍內(nèi)，在±15％的范圍內(nèi)更好，及在±10％的范圍內(nèi)最好。
希望把基片帶到與具有施加的特定張力的電極相接觸，并且經(jīng)受等離子放電處理以在基片上形成一個(gè)層或多個(gè)層，并且具有落在所述范圍內(nèi)的抗拉強(qiáng)度的基片的使用，即使基片是一個(gè)薄的，在基片表面上也能形成一個(gè)均勻?qū)樱峁┮环N具有高質(zhì)量的光學(xué)膜。
根據(jù)以上第3項(xiàng)的方法是一種包括如下步驟的方法，使一個(gè)在23℃和80％RH下具有不大于4％的含水量的基片經(jīng)受等離子放電處理，以在基片表面上形成一個(gè)層或多個(gè)層?；暮孔詈檬?.5至3％。本發(fā)明者已經(jīng)發(fā)現(xiàn)，特別是當(dāng)在23℃和80％RH下具有從0.5至4％的含水量的纖維素酯經(jīng)受等離子放電處理時(shí)，在纖維素酯膜表面上能形成具有減小層厚度不均勻性的一個(gè)層或多個(gè)層。一個(gè)纖維素酯膜普通包含少量的水。考慮到當(dāng)把比必需量多的水釋放到在等離子放電處理處的放電部分時(shí)，它在引起層厚度的不均勻性時(shí)起任何作用，盡管原因還不清楚。已經(jīng)發(fā)現(xiàn)，在23℃和80％RH下具有超過4％的含水量的基片往往產(chǎn)生層厚度的不均勻性或增大薄霧，導(dǎo)致有害結(jié)果。本發(fā)明在23℃和80％RH下具有從0.5至4％的含水量的纖維素酯膜上能以減小層厚度不均勻性形成一個(gè)均勻?qū)?。通過改變總?；〈潭?、?；姆N類、包含在它中的增塑劑或其含量，能調(diào)節(jié)纖維素酯膜的含水量。
以上第4項(xiàng)包括一種使已經(jīng)在橫向伸展的基片，例如纖維素酯膜，經(jīng)受等離子放電處理，以在基片表面上形成具有減小層厚度不均勻性的一個(gè)層或多個(gè)層的方法。已經(jīng)發(fā)現(xiàn)，根據(jù)一種溶液澆鑄膜制造方法的制備的纖維素酯膜，在干燥步驟特別是在橫向收縮，這是在膜放電處理下產(chǎn)生層厚度不均勻性的因素之一。相反，認(rèn)為在橫向伸展的纖維素酯膜由于其優(yōu)良的平度能帶到緊密地與一個(gè)電極相接觸，并因此，處理不均勻性(層厚度的不均勻性)難以在等離子放電處理下出現(xiàn)，導(dǎo)致均勻?qū)拥男纬?。在本發(fā)明的光學(xué)膜中使用的纖維素酯膜，希望是在橫向通過不小于1.03的因數(shù)伸展的纖維素酯膜，并且更希望是在橫向通過不小于1.03的因數(shù)、和在力學(xué)方向通過不小于1.03的因數(shù)伸展的纖維素酯膜。這樣一種纖維素酯膜能提供一種帶有具有減小層厚度不均勻性的一層或多層的光學(xué)膜。
以上第5項(xiàng)包括一種方法，在一個(gè)基片上提供一個(gè)通過聚合每個(gè)具有以后描述和硬化的烯屬未飽和雙鍵的單體或低聚物形成的硬化樹脂層，并且使生成的樹脂層經(jīng)受等離子放電處理，以在樹脂層表面上形成具有減小層厚度不均勻性的一個(gè)層或多個(gè)層。該方法對(duì)于在以上第3或4項(xiàng)中敘述的基片特別有效。硬化樹脂層最好通過UV光照射而硬化。
作為一種通過等離子放電處理形成具有減小層厚度不均勻性的一個(gè)層或多個(gè)層的方法，以上第1至4項(xiàng)的方法是有效的，但通過其組合，能得到一種具有一個(gè)更均勻?qū)拥墓鈱W(xué)膜(以上第8項(xiàng)的方法)。
其次，將詳細(xì)解釋本發(fā)明。
在本發(fā)明中基片的例子包括纖維素酯膜、聚酯膜、聚碳酸酯膜、聚苯乙烯膜、聚烯烴膜、纖維素型膜、及其它樹脂膜。纖維素酯膜的例子包括二乙酸纖維素膜、乙酸丁酸纖維素膜、乙酸-丙酸纖維素膜、乙酸苯二甲酸纖維素膜、三乙酸纖維素膜、及硝酸纖維素膜。聚酯的例子包括聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚二甲酸乙二醇酯、聚(1，4-二亞甲基亞環(huán)己基)對(duì)苯二甲酸酯、及包括它們作為結(jié)構(gòu)單元的共聚酯。聚碳酸酯膜的例子包括雙酚A聚碳酸酯膜。聚苯乙烯膜的例子包括間同立構(gòu)聚苯乙烯膜。聚烯烴膜的例子包括聚乙烯膜和聚丙烯膜。聚乙烯醇型膜的例子包括聚乙烯醇膜和乙烯乙烯基醇膜。纖維素型膜的例子包括賽璐玢膜。其它樹脂膜的例子包括降冰片烯樹脂膜、聚甲基戊烯膜、聚醚酮膜、聚酰亞胺膜、聚醚砜膜、聚砜膜、聚醚酮酰亞胺膜、聚酰胺膜、含氟樹脂膜、尼龍膜、聚甲基丙烯酸甲酯膜、丙烯?；?、多芳基化合物膜、聚偏二氯乙烯膜。
能使用可從這些膜材料的適當(dāng)混合物得到的膜。例如，也能使用包括諸如Zeonecks(由Nippon Zeon Co.，Ltd生產(chǎn))或ARTON(由Nippon Gosei Gomu Co.，Ltd生產(chǎn))之類的可買到材料的膜。通過適當(dāng)調(diào)節(jié)溶液澆鑄條件、熔化擠出條件、或在橫向或在力學(xué)方向的伸展條件，適用于本發(fā)明的基片甚至能從諸如每種具有高雙折射率的聚碳酸酯、聚丙烯酸酯、聚砜及聚醚砜之類的材料制備。本發(fā)明中的基片不特別限于上述那些。本發(fā)明中的基片最好是纖維素酯膜(以上第6項(xiàng))。
硬化樹脂層可以是具有各種功能的一個(gè)層，例如防眩層或透明硬涂層。
在上述膜中，纖維素酯膜特別希望用作本發(fā)明中的基片。
其次，將詳細(xì)解釋是特別希望用作本發(fā)明中的基片的纖維素酯膜材料的纖維素酯。
在本發(fā)明中的纖維素酯最好是采用其中纖維素的羥基的氫用2.55至2.95的一個(gè)?；貏e是具有2至4的碳原子數(shù)的?；〈睦w維素酯的膜。這樣一種纖維素酯的例子包括二乙酸纖維素、三乙酸纖維素、乙酸丁酸纖維素、及乙酸丙酸纖維素。當(dāng)然，三乙酸纖維素、乙酸丁酸纖維素、及乙酸丙酸纖維素是最好的。在這些希望的纖維素酯中，具有不小于1.6的乙?；〈潭鹊睦w維素酯是特別希望的。用于纖維素酯的原料不特別限制，并且包括皮棉、木漿(從針葉樹或闊葉樹得到)及洋麻。這些原料可以以任意量比率組合地使用。通過在諸如硫酸之類的質(zhì)子催化劑存在下在諸如乙酸之類的有機(jī)酸或諸如二氯甲烷之類的有機(jī)溶劑中用?；瘎缢狒?乙酸酐、丙酸酐、或丁酸酐)，酯化纖維素原料，制備纖維素酯。包含不同酸根的纖維素酯能根據(jù)在日本專利O.P.I.出版物No.10-45804中描述的方法制備。根據(jù)在ASTM-817-96中定義的方法能測(cè)量纖維素酯的?；〈潭?。
纖維素酯的數(shù)平均分子重量(Mn)最好是70,000至250,000，以提供在模壓膜中的良好機(jī)械強(qiáng)度、和最優(yōu)的添加劑粘度，并且80,000至15,000更好。
纖維素酯膜根據(jù)以后描述的一種一般叫做溶液澆鑄膜制造方法的方法制造。該方法包括步驟把來自一個(gè)壓力模的添加劑(纖維素酯溶液)澆鑄在一個(gè)金屬支撐(下文也簡(jiǎn)單地稱作金屬支撐)上用來澆鑄如環(huán)形金屬帶支撐(例如，不銹鋼帶)或轉(zhuǎn)動(dòng)金屬鼓支撐(例如，鍍鉻的鑄鐵鼓)以在金屬支撐上形成一個(gè)網(wǎng)膜(一個(gè)添加劑層)；從金屬支撐剝下網(wǎng)膜；及干燥以制造纖維素酯膜。
用來制備纖維素酯添加劑的溶劑最好是一種具有能夠溶解纖維素酯的適當(dāng)沸點(diǎn)的溶劑。溶劑的例子二氯甲烷、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸戊酯、丙酮、四氫呋喃、1，3-二氧戊環(huán)、1，4-二氧雜環(huán)己烷、環(huán)己酮、甲酸乙酯、2，2，2-三氟乙醇、2，2，3，3-四氟-1-丙醇、1，3-二氟-2-丙醇、1，1，1，3，3，3-六氟-2-甲基-2-丙醇、1，1，1，3，3，3-六氟-2-丙醇、2，2，3，3，3-五氟-1-丙醇、硝基乙烷、1，3-二甲基-2-咪唑啉酮、及乙酰乙酸甲酯。在這些中，諸如二氯甲烷之類的鹵化有機(jī)化合物、二氧戊環(huán)衍生物、乙酸甲酯、乙酸乙酯及丙酮是希望的。
在其下網(wǎng)膜從金屬支撐剝離的剝離張力最好不大于250N/m，并且在其下運(yùn)送網(wǎng)膜的運(yùn)送張力希望不大于300N/m，不大于250N/m較好，及不大于100至200N/m更好。剝離網(wǎng)膜最好在干燥步驟干燥，同時(shí)通過在張力架中施加張力在橫向伸展，以便能得到一種包括一個(gè)金屬氧化物層具有高耐久性的光學(xué)膜。
網(wǎng)膜在張力架中的伸展放大最好是1.01至1.5。伸展最好在膜的橫向和膜的縱向(雙軸向)都執(zhí)行。網(wǎng)膜在伸展下的殘余溶劑最好是重量的3至30％，以便能得到光學(xué)膜的高耐久金屬氧化物層。
這里提及的殘余溶劑含量采用如下公式表達(dá)
殘余溶劑含量(％)＝{(在加熱處理前網(wǎng)膜的重量-在加熱處理后網(wǎng)膜的重量)/在加熱處理前網(wǎng)膜的重量}×100
其中加熱處理代表在115℃下加熱網(wǎng)膜一小時(shí)。
在本發(fā)明中的纖維素酯膜最好包含增塑劑。增塑劑沒有特別限制，但增塑劑包括磷酸酯增塑劑、鄰苯二甲酸酯增塑劑、偏苯三酸酯增塑劑、苯均四酸酯增塑劑、甘醇酸酯增塑劑、檸檬酸酯增塑劑、及聚酯增塑劑。磷酸酯增塑劑的例子包括磷酸三苯基酯、磷酸三甲苯酯、磷酸甲苯·三苯酯、磷酸辛基二苯酯、磷酸二苯聯(lián)苯酯、磷酸三辛酯、及磷酸三丁酯。鄰苯二甲酸酯的例子包括鄰苯二甲酸二乙酯、鄰苯二甲酸二甲氧基乙基酯、鄰苯二甲酸二甲酯、鄰苯二甲酸二辛酯、鄰苯二甲酸二丁酯、鄰苯二甲酸二-2-乙基己基酯、及鄰苯二甲酸丁基芐基酯。偏苯三酸酯增塑劑的例子包括偏苯三酸三丁基酯、偏苯三酸三苯基酯、及偏苯三酸三甲基酯。苯均四酸酯增塑劑的例子包括苯均四酸四丁基酯、苯均四酸四苯基酯、及苯均四酸四乙基酯。甘油酯增塑劑的例子包括三醋精、和三丁精。甘醇酸酯增塑劑的例子包括甘醇酸乙基鄰苯二酰乙基酯、甘醇酸甲基鄰苯二酰乙基酯、及甘醇酸丁基鄰苯二酰乙基酯。其它羧酸酯的例子包括油酸丁酯、蓖麻醇酸甲基乙?；ァ⒐锒岫□?、及各種類的偏苯三酸酯。在這些增塑劑中，磷酸酯增塑劑和甘醇酸酯增塑劑是最好的。
這些增塑劑可以單獨(dú)或組合使用。
纖維素酯膜的增塑劑含量鑒于膜性能或可處理性，基于纖維素酯膜的重量最好是重量％的1至30％。
下面將解釋在本發(fā)明中的基片中使用的紫外線(UV)吸收劑。最好在本發(fā)明中的纖維素酯膜包含UV吸收劑，采用纖維素酯膜的圖像顯示器在它放置在室外時(shí)使出現(xiàn)的退化最小。
在本發(fā)明中的UV吸收劑最好是具有優(yōu)良吸收具有370nm或更小波長(zhǎng)的紫外光、并且具有減小吸收400nm或更大波長(zhǎng)的可見光的UV吸收劑。在本發(fā)明中使用的UV吸收劑包括羥基二苯酮化合物、苯并三唑化合物、水揚(yáng)酸酯化合物、二苯酮化合物、氰基丙烯酸酯化合物及鎳配位化合物，但不限于此。
苯并三唑型UV吸收劑的例子包括2-(2′-羥基-5′-甲基苯基)-苯并三唑、2-(2′-羥基-3′，5′-二-叔-丁基苯基)-苯并三唑、2-(2′-羥基-3′-叔-丁基-5′-甲基苯基)-苯并三唑、2-(2′-羥基-3′，5′-二-叔丁基苯基)-5-氯苯并三唑、2-(2′-羥基-3′-(3″，4″，5″，6″-四氫化鄰苯二甲酰亞氨甲基)-5′-甲基苯基)-苯并三唑、2，2-亞甲基雙(4-(1，1，3，3-四甲基丁基)-6-(2H-苯并三唑-2-基)酚)、2-(2′-羥基-3′-叔丁基-5′-甲基苯基)-5-氯苯并三唑、2-(2H-苯并三唑-2-基)-6-(直-鏈或分支十二烷基)-4-甲基酚、-3-[3-叔丁基-4-羥基-5-(氯-2H-苯并三唑-2-基)苯基]丙酸辛基酯、及-3-[3-叔-丁基-4-羥基-5-(5-氯-2H-苯并三唑-2-基)苯基]丙酸2-乙基己基酯。TINUVIN109、TINUVIN171、及TINUVIN326(每個(gè)由Ciba Specialty Co.，Ltd生產(chǎn))是可買到的，并且希望使用。
二苯酮型UV吸收劑也是對(duì)本發(fā)明有用的UV吸收劑之一。二苯酮型UV吸收劑的例子包括2，4-二羥基二苯酮、2，2′-二羥基-4-甲氧基二苯酮、2-羥基-4-甲氧基-5-磺基二苯酮、及雙(2-甲氧基-4-羥基-5-苯甲?；交淄?。
作為最好用在本發(fā)明光學(xué)膜中的UV吸收劑，最好使用具有高透明度、并且使偏振片或液晶的退化最小的苯并三唑或二苯酮型UV吸收劑。特別希望使用使有害著色最小的苯并三唑型UV吸收劑。UV吸收劑是最好的，它在纖維素酯膜制造期間不會(huì)漏出或揮發(fā)。
在本發(fā)明中，作為毛面劑的顆粒最好添加到基片上，以便調(diào)節(jié)基片后表面的動(dòng)摩擦系數(shù)。
對(duì)本發(fā)明有用的基片，當(dāng)它包含一種毛面劑時(shí)，能提供良好的可運(yùn)送性或容易纏繞的性質(zhì)。作為一種毛面劑，具有最小可能顆粒尺寸的顆粒是最好的。毛面劑顆粒包括無機(jī)細(xì)顆粒，如二氧化硅、二氧化鈦、氧化鋁、氧化鋯、碳酸鈣、高嶺土、滑石、燒結(jié)硅酸鈣、水合硅酸鈣、硅酸鋁、硅酸鎂、及磷酸鈣；和有機(jī)細(xì)顆粒，如聚甲基丙烯酸-丙烯酸甲酯樹脂粉末、丙烯?；揭蚁渲勰?、聚甲基丙烯酸甲酯樹脂粉末、硅樹脂粉末、聚苯乙烯樹脂粉末、聚碳酸酯樹脂粉末、苯胍胺樹脂粉末、蜜胺樹脂粉末、聚烯烴樹脂粉末、聚酯樹脂粉末、聚酰胺樹脂粉末、聚酰亞胺樹脂粉末及聚乙烯氟化物樹脂粉末。在本發(fā)明中使用的毛面劑顆粒不限于此，但最好是交聯(lián)聚合物顆粒。
在這些毛面劑中，氧化硅在調(diào)節(jié)動(dòng)摩擦系數(shù)或提供減小薄霧方面是最好的。諸如二氧化硅顆粒之類的顆粒常常用有機(jī)化合物，特別是用具有甲基的化合物，表面處理。這樣的表面顆粒處理顆粒在對(duì)膜給出減小薄霧方面是最好的。在表面處理中使用的有機(jī)化合物的例子包括鹵化硅烷、烷氧基硅烷(特別是甲基硅烷)、硅氮烷、及硅氧烷。
基片的顆粒含量最好是基于基片從重量的0.005至0.5％，并且從0.05至0.4％更好。顆粒的次級(jí)顆粒具有最好0.005至1.0μm的平均顆粒尺寸。具有較大平均顆粒尺寸的顆粒具有高滑動(dòng)性能，而相反，具有較小平均顆粒尺寸的顆粒具有良好的透明度。顆粒的主要顆粒具有希望不大于20nm、從5至16nm較好、及從5至12nm最好的平均顆粒尺寸。希望這些顆粒包含在基片中，以便在基片表面上產(chǎn)生0.01至1.0μm的波峰。還希望在基片表面上存在的、具有至少0.1μm高度的波峰的數(shù)量是每1000μm2從10至500。顆粒數(shù)量最好是基片截面每1000μm2面積5至500，該面積表示在基片截面中的10μm(離開基片表面的深度)×100μm(在垂直于深度方向的方向上的長(zhǎng)度)。上述波峰或顆粒數(shù)量通過觀察基片表面或截面的電子顯微鏡照片確定。
二氧化硅顆粒的例子包括例如Aerosll 200、200V、300、R972、R972V、R974、R202、R812、OX50、或TT600(每種由Nihon AerosilCo.，Ltd.生產(chǎn))，并且最好是Aerosll 200V、R972、R972V、R974、R202或R812。這些顆?？梢杂米髌鋬深惢蚨囝惖幕旌衔?。當(dāng)使用兩類或多類顆粒時(shí)，他們可以以任何量比率混合。種類或平均顆粒尺寸不同的兩種毛面劑，例如Aerosil200V和R972能以200V對(duì)R972從0.1∶99.9至99.9∶0.01的量比率使用。作為氧化鋯顆粒，能使用可買到的產(chǎn)品，例如每個(gè)由Nihon Aerosil Co.，Ltd.生產(chǎn)的Aerosil R976和R811。
有機(jī)顆粒的例子包括硅樹脂顆粒，如Tospearl 103、105、108、120、145、3210、或240，每種由Toray Co.Ltd.生產(chǎn)。
在本發(fā)明中，在本發(fā)明中的顆粒的平均初級(jí)顆粒尺寸采用透射型電子顯微鏡測(cè)量。即一百個(gè)顆粒的初級(jí)顆粒尺寸通過透射型電子顯微鏡在50,000到400,000的放大倍數(shù)下測(cè)量，并且其平均值定義為平均初級(jí)顆粒尺寸。
顆粒的視在比重希望是70克/升，從90至200克/升較好，及從100至200克/升最好。較高視在比重的顆粒最好用來制備具有高濃度的分散相、改進(jìn)薄霧或使聚集最小。這樣的顆粒用來制備在本發(fā)明中具有高固體濃度的涂料特別好。
例如，通過在空氣中在1,000至1,200℃下燒結(jié)氫和氣態(tài)四氯化硅的混合物，能制備具有不大于20nm的平均主要顆粒尺寸和不小于70克/升視在比重的二氧化硅顆粒。在本發(fā)明中提及的視在比重由如下公式計(jì)算
視在比重(克/升)
＝二氧化硅顆粒的重量(克)/二氧化硅顆粒的體積(升)
其中二氧化硅顆粒的體積是其中把一定量的二氧化硅顆粒放在混雜缸中的、并且采用混雜缸測(cè)量的體積，而二氧化硅顆粒的重量是放在混雜缸中的二氧化硅顆粒的重量。
作為制備對(duì)本發(fā)明有用的顆粒的分散相的方法和把分散相添加到涂料上的方法，舉例如下三種。
(方法A)
一種有機(jī)溶劑和顆粒在一個(gè)分散器中通過攪拌混合，并且分散以得到顆粒的分散相。把分散相添加到纖維素酯涂料，并且攪拌。
(方法B)
一種有機(jī)溶劑和顆粒在一個(gè)分散器中通過攪拌混合，并且分散以得到顆粒的分散相。獨(dú)立地，把少量纖維素酯通過攪拌溶解在一種有機(jī)溶劑中，并且添加有以上分散相和攪拌以得到一種顆粒添加溶液。生成的顆粒添加溶液在一個(gè)在線混合器中與纖維素酯涂料均勻地混合。
(方法C)
少量纖維素酯通過攪拌溶解在一種溶劑中，添加有顆粒，并且在分散器中分散以得到一種顆粒添加溶液。生成的顆粒添加溶液在一個(gè)在線混合器中與纖維素酯涂料混合。
方法A是希望的，因?yàn)槎趸桀w粒有效地分散在溶劑中，并且方法C是希望的，因?yàn)樵谌軇┲械姆稚⒍趸桀w粒難以重新聚集。方法B更是希望的，因?yàn)槎趸桀w粒能效地分散在溶劑中，并且在溶劑中分散的二氧化硅顆粒難以重新聚集。
(分散方法)
當(dāng)把二氧化硅顆粒分散在一種溶劑中以得到一種二氧化硅分散相時(shí)，分散相的二氧化硅濃度希望是重量的5至30％，重量的10至25％更好，及重量的15至20％最好。
在纖維素酯膜中的二氧化硅顆粒含量基于100份重量的纖維素酯，希望是重量的0.01至0.5份，是重量的0.05至0.2份較好，并且是重量的0.08至0.12份最好。顆粒的較高含量在動(dòng)摩擦系數(shù)方面優(yōu)良，并且相反，較低的顆粒含量在降低薄霧和使聚集出現(xiàn)最小方面優(yōu)良。
在分散相中使用的有機(jī)溶劑最好是低級(jí)醇。低級(jí)醇的例子包括甲醇、乙醇、丙醇、異丙醇、及丁醇。低級(jí)醇之外的溶劑沒有特別限制，并且用在纖維素酯涂料制備中的溶劑是最好的。
可以采用普通分散器。分散器主要?jiǎng)澐殖蓛煞N類型一種介質(zhì)分散器和一種無介質(zhì)分散器。二氧化硅顆粒最好由導(dǎo)致薄霧減小的無介質(zhì)分散器分散。引用作無介質(zhì)分散器的是球磨機(jī)、混砂機(jī)、紙漿磨機(jī)等。作為無介質(zhì)分散器，有超聲波型、離心型、高壓型等。在本發(fā)明中，高壓型分散器是希望的。高壓分散器是一種通過使通過把顆粒與溶劑混合制備的組合物以高速通入一個(gè)細(xì)管中產(chǎn)生諸如高剪切、高壓力等之類的特定條件的設(shè)備。當(dāng)使用高壓分散器時(shí)，在具有例如1至2,000μm直徑的細(xì)管內(nèi)部的最大壓力最好在至少9.8Mpa下，并且在至少19.6Mpa下更好。另外，此時(shí)，允許最大可實(shí)現(xiàn)速度不大于100米/秒以及熱傳遞速率不大于420kJ/小時(shí)的分散器是最好的。
上述高壓分散器包括由Microfluidics Corporation制造的超高壓分散器(具有商品名Microfluidizer)、和由Nanomizer Co.制造的Nanomizer。除這些之外列為設(shè)備的是Manton-Gaulin型高壓分散器，例如，由Izumi Food Machinery制造的Homogenizer、由Sanwa KikaiCo.，Ltd.制造的UHN-01等。
在本發(fā)明中，上述顆粒最好包含在纖維素酯膜中以便均勻地分布在厚度方向。更希望，顆粒包含在靠近膜表面布置的纖維素酯膜中。例如，希望，兩種涂料同時(shí)從單個(gè)模通過擠壓方法澆鑄在支撐上，從而包含顆粒的涂料布置在表面?zhèn)?，由此減小薄霧并且降低動(dòng)摩擦系數(shù)。另外，更希望，三種涂料同時(shí)澆鑄在支撐上，從而包含顆粒的兩種涂料都布置在表面?zhèn)取?br> 在本發(fā)明中，作為毛面劑的顆粒最好添加到表面上，以便調(diào)節(jié)基片后表面的動(dòng)摩擦系數(shù)。
當(dāng)相對(duì)在發(fā)明中形成的層把一個(gè)底涂層提供在基片的后表面上時(shí)，后涂層最好包含顆粒和粘合劑樹脂，以便調(diào)節(jié)底涂層表面的動(dòng)摩擦系數(shù)。動(dòng)摩擦系數(shù)能由顆粒尺寸、添加量或添加顆粒的材料調(diào)節(jié)。
在對(duì)本發(fā)明有用的底涂層中的顆粒包括無機(jī)化合物或有機(jī)化合物。種類、顆粒尺寸、視在比重或顆粒的分散方法與包含在基片中的顆粒以上指示的那些相同。
在底涂層中的顆粒含量基于100份重量的粘合劑樹脂希望是重量的0.01至1份，是重量的0.05至0.5份更好，并且是0.08到0.2份最好。較高顆粒含量降低動(dòng)摩擦系數(shù)，而相反，低顆粒含量降低薄霧并且使聚集的出現(xiàn)最少。
希望這些顆粒包含在底層中，以便在底層表面上產(chǎn)生0.01至1.0μm的波峰。還希望在底層上存在的、具有至少0.1μm高度的波峰的數(shù)量是每1000μm2從10至500。顆粒數(shù)量最好是帶有底層的基片截面每1000μm2面積5至500，該面積表示在帶有底層的基片截面中的10μm(離開底層表面的深度)×100μm(在垂直于深度方向的方向上的長(zhǎng)度)。上述波峰或顆粒數(shù)量通過觀察底層表面的電子顯微鏡照片或底層和基片的截面的電子顯微鏡照片確定。
用來形成底涂層的有機(jī)溶劑沒有特別限制，但由于底涂層能提供基片的抗起皺性能，所以能夠溶解或膨脹基片或用作基片材料的樹脂的有機(jī)溶劑是有效的。鑒于基片的起皺程度、基片材料的種類、基片材料與涂敷量的比例，適當(dāng)?shù)剡x擇溶劑。
用來形成底涂層的有機(jī)溶劑沒有特別限制，但包括苯、甲苯、二甲苯、二氧雜環(huán)己烷、丙酮、丁酮、N，N-二甲基甲酰胺、乙酸甲酯、乙酸乙酯、三氯乙烯、二氯甲烷、氯化乙烯、四氯乙烷、三氯乙烷、氯仿、N-甲基吡咯烷酮、及1，3-二甲基-2-咪唑啉酮。不溶解底涂層涂敷組合物的有機(jī)溶劑包括甲醇、乙醇、正丙醇、異丙醇、及正丁醇。
底涂層涂敷組合物的涂敷方法包括采用照相凹版式涂敷器、浸漬涂敷器、線錠涂敷器、反向涂敷器、及擠壓涂敷器等的那些。當(dāng)采用這些涂敷器涂敷底涂層時(shí)，層的涂敷液體厚度(也稱作濕潤(rùn)厚度)最好從1至100μm，并且從5至30μm更好。
用在底涂層中的樹脂的例子包括乙烯基型均聚物或共聚物，如氯乙烯/乙酸乙烯基酯共聚物、氯乙烯樹脂、乙酸乙烯基酯樹脂、乙酸乙烯基酯-乙烯醇共聚物、部分水解氯乙烯/乙酸乙烯基酯共聚物、氯乙烯/1，1二氯乙烯共聚物、氯乙烯/丙烯腈共聚物、乙烯/乙烯醇共聚物、氯化聚氯乙烯、乙烯/氯乙烯共聚物、及乙烯/乙酸乙烯基酯共聚物；纖維素酯樹脂，如硝酸纖維素、乙酸-丙酸纖維素、雙乙酸纖維素、三乙酸纖維素、乙酸鄰苯二甲酸纖維素、及乙酸-丁酸纖維素；馬來酸或丙烯酸的共聚物、丙烯酸酯的共聚物、丙烯腈/苯乙烯共聚物、氯化聚乙烯、丙烯腈/氯化乙烯/苯乙烯共聚物、甲基丙烯酸甲酯/丁二烯/苯乙烯共聚物、丙烯酸酯類樹脂、聚乙烯醇縮醛樹脂、聚乙烯醇縮丁醛樹脂、聚酯聚氨基酯樹脂、聚醚聚氨酯樹脂、聚碳酸酯聚氨酯樹脂、聚酯樹脂、聚醚樹脂、聚酰胺樹脂、氨基樹脂、諸如苯乙烯/丁二烯樹脂和丁二烯/丙烯腈樹脂之類的橡膠、硅樹脂、含氟樹脂聚甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸甲酯和丙烯酸甲酯的共聚物，但不限于此。諸如雙乙酸纖維素和乙酸-丙酸纖維素之類的纖維素酯樹脂是最好的。
上述的底涂層能提供不大于0.9的動(dòng)摩擦系數(shù)。
在本發(fā)明中使用的基片最好在基片上帶有一個(gè)通過聚合包含已經(jīng)聚合的至少一種烯屬未飽和化合物的組合物和硬化形成的硬化樹脂層。
作為通過聚合包含一種烯屬未飽和化合物的組合物和硬化形成的硬化樹脂層，希望使用通過硬化一種活性射線可硬化樹脂或一種加熱可硬化樹脂形成的一個(gè)硬化層，并且更希望使用一個(gè)活性射線可硬化樹脂層。
這里提及的活性射線可硬化樹脂層是指一個(gè)包含作為主要成分的能夠通過諸如UV光或電子束之類的活性射線照射硬化的樹脂的層。活性射線可硬化樹脂層的例子包括紫外(下文也稱作UV)線可硬化樹脂或電子束可硬化樹脂?；钚陨渚€可硬化樹脂可以是能由除UV線或電子束之外的活性射線硬化的樹脂。UV線可硬化樹脂包括UV線可硬化丙烯?；郯滨渲V線可硬化聚酯丙烯酸酯樹脂、UV線可硬化環(huán)氧丙烯酸酯樹脂、UV線可硬化聚醇丙烯酸酯樹脂及UV線可硬化環(huán)氧樹脂。其例子包括三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、雙三羥甲基丙烷四丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、雙季戊四醇六丙烯酸酯或烷基改性雙季戊四醇五丙烯酸酯。
UV線可硬化丙烯酰基聚氨酯樹脂包括容易通過使聚酯多羥基化合物與異氰酸酯單體或其預(yù)聚物反應(yīng)、并且然后使生成產(chǎn)品與具有羥基的丙烯酸酯，如丙烯酸2-羥基乙酯、甲基丙烯酸2-羥基乙酯(下文，丙烯酸酯也包括異丁烯酸酯)或丙烯酸2-羥基丙酯，反應(yīng)制備的那些(例如在日本專利O.P.I.出版物No.59-151110/1984中公開)。
UV線可硬化聚酯丙烯酸酯樹脂包括容易通過使聚酯多羥基化合物與丙烯酸2-羥基乙酯或丙烯酸2-羥基丙酯制備的那些(例如在日本專利O.P.I.出版物No.59-151110/1984中公開)。
UV線可硬化環(huán)氧丙烯酸酯樹脂的例子包括通過在活性稀釋劑和光引發(fā)劑存在下反應(yīng)環(huán)氧丙烯酸酯低聚物制備的那些(例如在日本專利O.P.I.出版物No.1-105738/1989中公開)。
其光引發(fā)劑包括苯偶姻或其衍生物、或乙酰苯、二苯酮、羥基二苯酮、Michler′s酮、α-戊基肟酯、噻噸酮或其衍生物、肟酮衍生物、二苯酮衍生物或噻噸酮衍生物。這些光引發(fā)劑可以與一種光敏劑一起使用。以上光引發(fā)劑也作為一種光敏劑工作。諸如正丁胺、三乙胺及三正丁基膦類之類的光敏劑能用在環(huán)氧丙烯酸酯的光化反應(yīng)中。
在分子中具有一個(gè)未飽和雙鍵的可聚合單體包括乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、丙烯酸芐酯、丙烯酸環(huán)己基酯、乙酸乙烯基酯、及苯乙烯。在分子中具有兩個(gè)未飽和雙鍵的可聚合單體包括二丙烯酸乙二醇酯、二丙烯酸丙二醇酯、二乙烯基苯、1，4-環(huán)己基二丙烯酸酯、二丙烯酸1，4-環(huán)己基二甲基酯、三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、及季戊四醇四丙烯酸酯。
可在市場(chǎng)上得到的紫外線可硬化樹脂包括ADEKA OPTOMERKR·BY系列KR-400、KR-410、KR-550、KR-566、KR-567、或BY-320B(每種由Asahi Denka Co.，Ltd.生產(chǎn))；Koei Hard A-101-KK、A-101-WS、C-302、C-401-N、C-501、M-101、M-102、T-102、D-102、NS-101、FT-102Q8、MAG-1-P20、AG-106、或M-101-C(每種由KoeiKagaku Co.，Ltd.生產(chǎn))；SEIKA BEAM PHC2210(S)、PHC X-9(K-3)、PHC2213、DP-10、DP-20、DP-30、P1000、P1100、P1200、P1300、P1400、P1500、P1600、或SCR900(每種由Dainichi Seika Kogyo Co.，Ltd.生產(chǎn))；KRM7033、KRM7039、KRM7130、KRM7131、UVCRYL29201、或UVCRYL29202(每種由Daicel·UCB Co.，Ltd.生產(chǎn))；RC-5015、RC-5016、RC-5020、RC-5031、RC-5100、RC-5102、RC-5120、RC-5122、RC-5152、RC-5171、RC-5180、或RC-5181(每種由Dainippon Ink and Chemicals Inc.生產(chǎn))；AUREX No.340 Clear(由Chugoku Toryo Co.，Ltd生產(chǎn))；SANRAD H-601(由SanyoChemical Industries，Ltd生產(chǎn))；SP-1509或SP1507(每種由ShowaKobunshi Co.，Ltd生產(chǎn))；RCC-15C(由Grace Japan Co.，Ltd生產(chǎn))；及ARONIX M-6100、M-8030、或M-8060(由Toa Gosei Co.，Ltd生產(chǎn))。
在本發(fā)明中使用的活性射線可硬化層能根據(jù)一種常規(guī)方法提供。作為用來通過光硬化反應(yīng)硬化UV線可硬化層以形成一個(gè)硬化層的光源，能使用能夠發(fā)射UV線的任何光源。光源的例子包括低壓水銀燈、中壓水銀燈、高壓水銀燈、超高壓水銀燈、炭弧燈、金屬鹵化物燈、及氙氣燈。盡管曝光量依據(jù)光源的種類而變化，但它可以是20-10,000mJ/cm2，并且是50-2,000mJ/cm2更好。具有在從近紫外線到可見波長(zhǎng)范圍中的吸收最大值的光敏劑被有效地使用。
用來制備UV線可硬化樹脂層的涂敷溶液的有機(jī)溶劑能適當(dāng)?shù)貜睦鐭N、醇、酮、酯、二元醇、其它溶劑或其混合物適當(dāng)?shù)剡x擇。最好使用這樣一種有機(jī)溶劑，它包含重量希望不大于5％而是重量的5至80％更好的丙二醇單烷基(具有1至4個(gè)碳原子的烷基)醚或丙二醇單烷基(具有1至4個(gè)碳原子的烷基)醚酯。
紫外線可硬化樹脂組合物的涂敷溶液能通過上述涂敷器涂敷。濕式涂敷厚度希望是0.1至30μm，并且是0.5至15μm更好。
紫外線可硬化樹脂組合物，在涂敷或干燥的同時(shí)或之后，用紫外線照射，并且鑒于硬化效率或可加工性，照射時(shí)間希望是0.5秒至5分鐘，并且是3秒至3分鐘更好。
硬化樹脂層能包含無機(jī)或有機(jī)細(xì)顆粒，以便防止阻塞或增大抗劃道阻力。細(xì)顆粒包括在以上毛面劑中指示的那些。這些顆粒具有最好從0.005至1μm的平均顆粒尺寸，并且從0.01至0.1μm更好。
在紫外線可硬化樹脂組合物中的顆粒的含量基于100份重量的紫外線可硬化樹脂組合物最好是的0.1至10份重量。
UV線硬化樹脂層可以是具有1至50nm中心線表面粗糙度Ra的透明硬涂層、或具有0.1至1μm中心線表面粗糙度Ra的防眩層，中心線表面粗糙度Ra在JIS B0601中定義。根據(jù)本發(fā)明，這些樹脂層能經(jīng)受等離子處理以在其表面上形成一個(gè)層或多個(gè)層，并且如上所述，在基片的不平表面上能形成一個(gè)均勻?qū)印Ｔ搶幼詈糜米骼缬梢粋€(gè)高折射率層、一個(gè)中折射率層或一個(gè)低折射率層組成的低反射分層的光學(xué)干擾層。根據(jù)本發(fā)明的方法希望在具有0.1至0.5μm中心線表面粗糙度Ra的防眩層表面上能形成一個(gè)均勻?qū)印?br> 本發(fā)明中的基片或在本發(fā)明中其上具一個(gè)涂層的基片，在平面內(nèi)具有最好0至1000nm的延遲R0作為光學(xué)性質(zhì)，并且在厚度方向上最好具有0至300nm的延遲Rt作為光學(xué)性質(zhì)。這里，R0(450)意味著在平面內(nèi)的延遲基于通過450nm光測(cè)量的三維折射率的測(cè)量，而R0(600)意味著在平面內(nèi)的延遲基于通過600nm光測(cè)量的三維折射率的測(cè)量。
在本發(fā)明的方法中在大氣下或在近似大氣下的等離子放電處理，由此形成一個(gè)層或多個(gè)層，采用如下等離子放電設(shè)備執(zhí)行。
關(guān)于在本發(fā)明方法中使用的一層或多層形成設(shè)備，下面將表示對(duì)本發(fā)明有用的等離子放電設(shè)備的例子，但本發(fā)明不限于此。
圖1表示在本發(fā)明層形成方法中使用的等離子放電設(shè)備的一個(gè)實(shí)施例的示意圖。在圖1中，等離子放電設(shè)備包括經(jīng)電壓施加件82和81分別連接到一個(gè)電源80上的一對(duì)轉(zhuǎn)動(dòng)電極10A和10B。轉(zhuǎn)動(dòng)電極10A和10B運(yùn)送最好為輥形式或環(huán)形帶形式的基片。圖1的電極是輥形電極。在成對(duì)電極之間形成的一個(gè)間隙是一個(gè)其中執(zhí)行放電的空隙，并且能引入基片F(xiàn)。在成對(duì)電極之間的間隙提供一個(gè)放電部分50。間隙保持在大氣壓力或在近似大氣壓力下。一種反應(yīng)氣體G從反應(yīng)氣體供給部分30供給到其中基片F(xiàn)的表面經(jīng)受等離子放電處理的間隙。從供給軸(未表示)纏開的或從以前過程運(yùn)送的基片F(xiàn)，經(jīng)一個(gè)導(dǎo)向輥20運(yùn)送到在運(yùn)送方向轉(zhuǎn)動(dòng)的轉(zhuǎn)動(dòng)電極10A以與其接觸，并且通過放電部分50，由此一個(gè)層或多個(gè)層形成在基片F(xiàn)的表面上。從放電部分50輸送的基片F(xiàn)允許繞U形彎曲輥11A、11B、11C和11D形成一個(gè)U形彎，運(yùn)送到與其接觸、在轉(zhuǎn)動(dòng)電極10A的相反方向上轉(zhuǎn)動(dòng)的轉(zhuǎn)動(dòng)電極10B，及再次允許通過放電部分50，其中基片F(xiàn)的表面進(jìn)一步經(jīng)受等離子放電處理，并且另一層再次形成在以前形成的層上。已經(jīng)用于放電處理的反應(yīng)氣體G，從氣體排出40作為廢氣G′排出。在圖1中沒有表明形成層。在表面上帶有一個(gè)形成層的基片F(xiàn)′經(jīng)一個(gè)導(dǎo)向輥21運(yùn)送到下個(gè)過程或到一個(gè)卷取軸(未表明)。因而，基片在放電部分50處與轉(zhuǎn)動(dòng)電極10A和10B相接觸地往復(fù)運(yùn)動(dòng)。盡管未表明，但諸如轉(zhuǎn)動(dòng)電極10A和10B、導(dǎo)向輥20和21、U形彎曲輥11A至11D、反應(yīng)氣體供給部分30、及氣體排出口40之類的器件最好裝在一個(gè)放電容器中，由此器件與外部隔離。盡管還沒有表明，但轉(zhuǎn)動(dòng)電極10A和10B具有其中其溫度由循環(huán)溫度控制介質(zhì)調(diào)節(jié)的結(jié)構(gòu)。
圖2表示等離子放電設(shè)備另一個(gè)實(shí)施例的示意圖。圖2表示包括對(duì)本發(fā)明的層形成方法有用的轉(zhuǎn)動(dòng)電極和固定電極的等離子放電設(shè)備的一個(gè)例子。在圖2中，等離子放電設(shè)備包括一個(gè)轉(zhuǎn)動(dòng)電極110和布置成與轉(zhuǎn)動(dòng)電極相對(duì)的多個(gè)固定電極111。來自供給軸(未表明)或以前過程的基片F(xiàn)經(jīng)導(dǎo)向輥120和軋輥122運(yùn)送到轉(zhuǎn)動(dòng)電極，并且進(jìn)一步在接觸轉(zhuǎn)動(dòng)電極110的同時(shí)與轉(zhuǎn)動(dòng)電極110的轉(zhuǎn)動(dòng)同步地運(yùn)送。在氣體產(chǎn)生器件131中產(chǎn)生的反應(yīng)氣體G經(jīng)一根氣體供給管130引入到在大氣壓力下或在近似大氣壓力下的一個(gè)等離子放電部分150處，其中在面對(duì)固定電極的基片表面上形成一個(gè)層或多個(gè)層。對(duì)于等離子產(chǎn)生能夠施加電壓的電源180，經(jīng)電壓施加件181和182連接到轉(zhuǎn)動(dòng)電極110和固定電極111上。轉(zhuǎn)動(dòng)電極110、固定電極111及放電部分150用等離子放電容器190覆蓋，并且與外部隔離。廢氣G′從布置在放電部分下部處一個(gè)氣體排出口140排出。經(jīng)受等離子放電處理的基片F(xiàn)′經(jīng)一個(gè)軋輥123和一個(gè)導(dǎo)向輥121運(yùn)送到下個(gè)過程或到卷取軸(未表明)。一個(gè)葉片124提供成與布置在基片F(xiàn)的進(jìn)口處的軋輥122相接觸，以便防止伴隨基片F(xiàn)的空氣進(jìn)入放電部分中，并且一個(gè)葉片125提供成與布置在基片F(xiàn)′的出口處的軋輥123相接觸，以便防止反應(yīng)氣體G或廢氣G′從放電部分逃逸。盡管還沒有表明，但轉(zhuǎn)動(dòng)電極110和固定電極111具有其中其溫度由循環(huán)溫度控制介質(zhì)調(diào)節(jié)的結(jié)構(gòu)。
如上所述，最好在本發(fā)明中，在與轉(zhuǎn)動(dòng)電極相接觸地運(yùn)送基片的同時(shí)使基片經(jīng)受等離子放電處理，由此一個(gè)層或多個(gè)層形成在基片表面上。
與正在運(yùn)送的基片相接觸的轉(zhuǎn)動(dòng)電極的表面要求具有高平滑度。轉(zhuǎn)動(dòng)電極的表面具有希望不大于10μm，不大于8μm更好，及不大于7μm最好，的最大表面粗糙度(Rmax)。這里，最大表面粗糙度是指在JIS B0601中定義的表面粗糙度。
在本發(fā)明中使用的電極表面希望用固體介電物質(zhì)覆蓋，并且還希望諸如金屬之類的導(dǎo)電堿金屬用固體介電物質(zhì)覆蓋。固體介電物質(zhì)的例子包括塑料，如聚四氟乙烯或聚對(duì)苯二甲酸乙酯；金屬氧化物，如玻璃、二氧化硅、氧化鋁、氧化鋯(ZrO2)、氧化鈦(TiO2)；及復(fù)雜氧化物，如鈦酸鋇。特別希望，通過把陶瓷熱噴涂在堿金屬上、和用無機(jī)材料密封陶瓷層執(zhí)行覆蓋。這里，諸如金屬之類的導(dǎo)電堿金屬的例子包括銀、鉑、不銹鋼、鋁、及鐵，并且在這些中，考慮到加工性能不銹鋼是最好的。用于襯里的材料包括硅酸鹽玻璃、硼酸鹽玻璃、磷酸鹽玻璃、鍺酸鹽玻璃、亞碲酸鹽玻璃、鋁酸鹽玻璃、及釩酸鹽玻璃。在這些中，考慮到加工性能最好使用硼酸鹽玻璃。
在本發(fā)明中，電極具有一種能夠借助于內(nèi)部的一個(gè)加熱或冷卻源選擇性地加熱或冷卻的結(jié)構(gòu)。當(dāng)電極是帶形式的時(shí)，他們能用來自后側(cè)的冷空氣冷卻。當(dāng)電極是輥形式的轉(zhuǎn)動(dòng)電極時(shí)，希望電極的外表面溫度或基片溫度通過把一種介質(zhì)供給到電極內(nèi)部而控制。作為介質(zhì)，最好使用諸如蒸餾水和油之類的絕緣材料。盡管在其下處理基片的溫度由于處理?xiàng)l件而不同，但最好從室溫至200℃，并且從室溫至120℃更好。必要的是不要把基片處理成產(chǎn)生基片溫度的不均勻。
在本發(fā)明中，考慮到固體介電物質(zhì)的厚度、施加的電壓或頻率、或采用等離子體的物體，確定在電極之間的間隙距離。在上述相對(duì)電極中，當(dāng)僅在一側(cè)的電極具有固體介電物質(zhì)，或在其兩側(cè)的電極具有固體介電物質(zhì)時(shí)，在前者中在電極與介電物質(zhì)之間的最小間隙距離、或在后者中在介電物質(zhì)之間的最小間隙距離，希望是從0.5至20mm，并且是1±0.5mm更好，以便產(chǎn)生均勻的等離子體。
在本發(fā)明中，把在氣體產(chǎn)生器件中產(chǎn)生的混合氣體從一個(gè)反應(yīng)氣體供給口以受控量的形式引入在相對(duì)電極之間的一個(gè)等離子放電部分。反應(yīng)氣體的濃度或量調(diào)節(jié)成必需的，但氣體最好以足以滿足基片運(yùn)送速度的速率供給到放電部分。氣體供給量或放電條件最好設(shè)置成，采用供給到放電部分的基本上全部量的氣體形成一個(gè)層或多個(gè)層。
為了防止環(huán)境空氣進(jìn)入放電部分或防止反應(yīng)氣體從放電部分逃逸，電極和運(yùn)送基片最好通過用一個(gè)罩包圍與外部隔離。在本發(fā)明中，在放電部分中的壓力保持在大氣壓下或近似在大氣壓下。這里，這里提及的近似大氣壓是指20kPa至110kPa的壓力。為了得到本發(fā)明的效果，壓力最好是93kPa至110kPa。
在對(duì)本發(fā)明有用的、包括彼此相對(duì)電極的等離子放電設(shè)備中，最好為了產(chǎn)生穩(wěn)定的等離子體，把電壓施加到連接到電源的一側(cè)的電極上以產(chǎn)生等離子體，而在另一側(cè)的電極接地。
適當(dāng)?shù)卮_定由高頻電源施加到電極上的電壓。例如，電壓可以是0.5至10kV，施加的頻率可以是1kHz至150MHz，而波形狀可以是脈沖形狀或正弦曲線形狀。特別是，從小于100kHz至50MHz的頻率提供一個(gè)最佳放電部分(放電空隙)。
在放電部分下的放電強(qiáng)度希望是從5至1000W·min./m2，并且是50至500W·min./m2更好。
等離子放電部分最好用例如一個(gè)Pyrex容器覆蓋，但如果保證與電極的絕緣，則可以使用金屬容器。例如，容器可以是用聚酰亞胺樹脂分層的鋁或不銹鋼、或用陶瓷熱噴涂以在表面上產(chǎn)生絕緣層的鋁或不銹鋼的容器。通過用防護(hù)材料包圍放電部分、轉(zhuǎn)動(dòng)電極或基片的運(yùn)送部分的側(cè)部，把反應(yīng)氣體適當(dāng)?shù)毓┙o到等離子放電部分，或者適當(dāng)?shù)嘏懦鰪U氣。
下面將解釋在形成一個(gè)層或多個(gè)層的本發(fā)明方法中使用的反應(yīng)氣體。
根據(jù)本發(fā)明方法用來形成一個(gè)層或多個(gè)層的反應(yīng)氣體最好包含惰性氣體。即反應(yīng)氣體最好包含惰性氣體與以后描述的反應(yīng)氣體的混合氣體。這里提及的惰性氣體是指在周期表中屬于族XVIII的元素，并且典型的是氦、氖、氬、氪、氙、或氡。在本發(fā)明中，希望使用氦或氬，并且使用氬更好。反應(yīng)氣體的惰性氣體含量最好不小體積的90％，以便得到穩(wěn)定的等離子體，并且是體積的90至99.99％更好。
惰性氣體用來產(chǎn)生穩(wěn)定的等離子體。反應(yīng)氣體在等離子體中電離或游離，并且累積或粘著在基片上以在基片表面上形成一個(gè)層或多個(gè)層。
在本發(fā)明中的反應(yīng)氣體能包含各類反應(yīng)氣體，由此具有各種功能的一個(gè)層或多個(gè)層形成在基片表面上。
采用例如一種有機(jī)含氟化合物或硅化合物作為反應(yīng)氣體，能形成防反射層的一個(gè)低折射率層。另外，采用包括Ti、Zr、In、Sn、Zn、Ge、Si、或其它金屬的一種有機(jī)金屬化合物，能形成一個(gè)金屬氧化物或金屬氮化物層，該層起防反射層、導(dǎo)電層或防靜電層的中或高折射率層的作用。采用有機(jī)含氟化合物，能形成一個(gè)防污層或一個(gè)低折射率層，而采用硅化合物，能形成一個(gè)氣體阻擋層或一個(gè)低折射率層。特別希望使用根據(jù)本發(fā)明的方法，以便制備一個(gè)是通過交替地層疊高或中折射率層和低折射率層制備的一個(gè)多層的防反射層。
根據(jù)本發(fā)明形成的層厚度最好在1nm至1000nm的范圍內(nèi)。
當(dāng)在本發(fā)明中的層形成在根據(jù)本發(fā)明的上述基片表面上時(shí)，層厚度提供在基片表面上，從而偏離平均厚度的厚度落在希望±8％、±5％較好、及±1％更好的范圍內(nèi)。
作為用在對(duì)本發(fā)明有用的反應(yīng)氣體中的有機(jī)含氟化合物，希望使用氟碳化合物氣體或氟代烴氣體。有機(jī)含氟化合物的例子包括氟碳化合物，如四氟碳、六氟碳、四氟乙烯、六氟丙烯、或八氟環(huán)丁烷；氟代烴化合物，如二氟甲烷、四氟乙烷、四氟丙烯、三氟丙烯或八氟環(huán)丁烷；氟代烴化合物的鹵化物，如一氯三氟甲烷、一氯二氟甲烷、或二氯四氟丁烷；及醇、酸或酮的氟化物。這些化全物可以單獨(dú)地或作為其兩種或多種的混合物使用。氟代烴氣體的例子包括二氟甲烷、四氟乙烷、四氟丙烯、及三氟丙烯，并且進(jìn)一步包括氟代烴化合物的鹵化物，如一氯三氟甲烷、一氯二氟甲烷、二氯四氟丁烷及醇、酸或酮的氟化物，但不限于此。這些化合物在分子中可以具有烯屬未飽和基。這些化合物可以單獨(dú)或地或作為其兩類或多類的混合物使用。當(dāng)有機(jī)含氟化合物用在對(duì)本發(fā)明有用的反應(yīng)氣體中時(shí)，在反應(yīng)氣體中的有機(jī)含氟化合物的含量希望是體積的0，01至10％，并且是體積的0，1至5％較好，以便通過等離子放電處理在基片形成一個(gè)均勻?qū)印?br> 當(dāng)在本發(fā)明中的有機(jī)含氟化合物是在普通溫度和普通壓力下的氣體時(shí)，它能象其在反應(yīng)氣體中那樣使用，其中本發(fā)明的方法能最容易地執(zhí)行。當(dāng)在本發(fā)明中的有機(jī)含氟化合物是在普通溫度和普通壓力下的液體或固體時(shí)，它可以用作氣體，其中它通過加熱或在減小壓力下氣化，或者以溶液的形式，其中它溶解在適當(dāng)?shù)娜軇┲小?br> 作為用于對(duì)本發(fā)明有用的反應(yīng)氣體的硅化合物，例如，最好制備一種有機(jī)金屬化合物，如二甲基甲硅烷或四甲基甲硅烷；金屬氫化物，如甲硅烷或乙硅烷；金屬鹵化物，如二氯硅烷、三氯硅烷、或四氟化硅；烷氧基硅烷，如四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、四丙氧基硅烷、二甲基二乙氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷、或乙基三乙氧基硅烷；或有機(jī)硅烷，但不限于此。另一種化合物可以添加到反應(yīng)氣體以改性或控制層性質(zhì)。當(dāng)在反應(yīng)氣體中使用作為反應(yīng)氣體的以上硅化合物時(shí)，硅化合物在反應(yīng)氣體中的含量希望是體積的0.01至10％，并且是體積的0.1至5％更好，以便通過等離子放電處理在基片上形成一個(gè)均勻?qū)印?br> 作為對(duì)于本發(fā)明有用的反應(yīng)氣體的有機(jī)金屬化合物沒有特別限制，但包括金屬化合物，如希望使用的Al、As、Au、B、Bi、Sb、Ca、Cd、Cr、Co、Cu、Fe、Ga、Ge、Hg、In、Li、Mg、Mn、Mo、Na、Ni、Pb、Pt、Rh、Se、Si、Sn、Ti、Zr、Y、V、W、或Zn。為了形成作為防反射層的高折射率層，希望使用鈦化合物。作為上述鈦化合物，最好使用例如有機(jī)金屬氨基化合物，如四二甲氨基鈦；金屬氫化物，如四氫化鈦或六氫化二鈦；金屬鹵化物，如二氯化鈦、三氯化鈦、或四氯化鈦；或金屬醇鹽，如四乙氧基鈦、四丙氧基鈦或四丁氧基鈦。在本發(fā)明中使用的鈦化合物不限于此。作為硅化合物或有機(jī)金屬化合物，考慮到處理希望使用金屬氫化物或金屬醇鹽化合物，并且使用金屬醇鹽化合物更好，因?yàn)樗粫?huì)腐蝕并且不會(huì)產(chǎn)生有害氣體。當(dāng)在對(duì)于本發(fā)明有用的反應(yīng)氣體中使用有機(jī)金屬化合物時(shí)，在反應(yīng)氣體中有機(jī)金屬化合物的含量希望是體積的0.01至10％，并且是體積的0.1至5％更好，以便通過等離子放電處理在基片上形成一個(gè)均勻?qū)印?br> 當(dāng)把硅化合物或鈦化合物引入到放電部分中時(shí)，它在普通溫度和普通壓力下可以是氣體、液體或固體的任一種。當(dāng)它在普通溫度和普通壓力下是氣體時(shí)，能按原樣使用它，而當(dāng)它在普通溫度和普通壓力下是液體或固體時(shí)，它能作為氣體使用，其中它通過在減小壓力下或超聲波應(yīng)用下加熱氣化。當(dāng)通過加熱氣化硅化合物或鈦化合物，并且使用時(shí)，能適當(dāng)?shù)厥褂媒饘俅见}，如在普通溫度和普通壓力下具有不大于200℃沸點(diǎn)的四乙氧基硅烷或四異丙醇化鈦，以便形成低反射疊層的一個(gè)層或多個(gè)層。以上金屬醇鹽可以用另一種有機(jī)溶劑稀釋。溶劑包括諸如甲醇、乙醇、已烷或其混合物之類的有機(jī)溶劑。
進(jìn)一步包含體積的0.1至10％量的氫的反應(yīng)氣體能顯著增大形成在基片上的層的硬度。
本發(fā)明光學(xué)膜的例子包括一種其中一個(gè)低折射率層和一個(gè)高折射率層層疊以形成一個(gè)防反射層的光學(xué)膜、或一種其中形成一個(gè)導(dǎo)電層或一個(gè)防靜電層的光學(xué)膜。
在本發(fā)明中，采用本發(fā)明中的多個(gè)等離子放電設(shè)備，一個(gè)多重層能連續(xù)地形成在基片上，由此能得到一種具有多重層而沒有不均勻度的光學(xué)膜。例如，當(dāng)制備一種在基片上帶有一個(gè)防反射層光學(xué)膜時(shí)，一個(gè)具有1.6至2.3的折射率的高折射率層和一個(gè)具有1.3至1.5折射率的低折射率層連續(xù)和有效地提供在基片上。低折射率層最好是通過在包含含氟化合物氣體中的等離子放電形成的含氟化合物包含層，或者是通過在包含諸如烷氧基硅烷之類的有機(jī)硅化合物的氣體中的等離子放電形成的硅氧化物包含層。高折射率層最好是通過在包含有機(jī)金屬化合物的氣體中的等離子放電形成的金屬氧化物包含層，例如，氧化鈦包含層或氧化鋯包含層。在本發(fā)明中的層不限于這些層，并且層的結(jié)構(gòu)不限于這些層的結(jié)構(gòu)。例如，最外層在大氣壓力或在近似大氣壓力下在包含含氟有機(jī)化合物的反應(yīng)氣體存在的情況下能經(jīng)受等離子放電處理，以形成一個(gè)防污層。
本發(fā)明的方法能形成一個(gè)沒有不均勻度的多重層，并且提供一種帶有均勻?qū)拥墓鈱W(xué)膜。因而，本發(fā)明能提供帶有具有各種功能的一個(gè)層或多個(gè)層的光學(xué)膜。
防靜電層或?qū)щ妼涌梢允前ń饘傺趸锛?xì)顆?；蚩山宦?lián)陽(yáng)離子聚合物的導(dǎo)電細(xì)顆粒、具有0。1至2μm厚度的層，或者是通過在大氣壓力下或在近似大氣壓力下的等離子放電處理產(chǎn)生的包括諸如氧化錫或氧化鋅之類的金屬氧化物的導(dǎo)電物質(zhì)包含層。
本發(fā)明的光學(xué)膜對(duì)偏振片保護(hù)膜特別有用，并且根據(jù)采用光學(xué)膜的常規(guī)方法能制備一種偏振片。光學(xué)膜帶有高均勻性的一個(gè)層或多個(gè)層，并且最好應(yīng)用于提供優(yōu)良顯示性能的各種圖像顯示器。
例子
本發(fā)明根據(jù)如下例子詳細(xì)描述，但不限于此。
例1
該例子1涉及第4、6、7、和8項(xiàng)。
涂料A的制備
(涂料組合物A)
二氯甲烷 370kg
乙醇 70kg
乙酸丙酸纖維素(乙酰
取代程度2.0，
丙酰取代程度0.8)100kg
乙醇酸乙基鄰苯二甲酰乙酯 7kg
TINUVIN3261kg
纖維素酯的?；〈潭雀鶕?jù)在ASTM-D817-96中定義的方法測(cè)量。
以上涂料組合物A的有機(jī)溶劑包括在一個(gè)密封容器中，添加有其它成分，并且在加熱的同時(shí)攪拌以得到一種溶液。生成溶液冷卻到一個(gè)要澆鑄在支撐上的溫度，允許隔夜站立，去泡，及采用由Azumi RoshiCo.，Ltd.生產(chǎn)的Azumi Roshi No.244過濾以得到涂料A。
乙酸纖維素丙酸膜的制備
乙酸纖維素丙酸膜根據(jù)溶液澆鑄膜制造方法制備。把涂料A在35℃的涂料溫度下均勻地澆鑄在30℃的環(huán)形不銹鋼帶支撐上以形成一個(gè)網(wǎng)膜。干燥網(wǎng)膜直到它能從支撐上剝離，并且然后從不銹鋼帶支撐上剝離。在剝離處，網(wǎng)膜殘余溶劑量是重量的35％。剝離的網(wǎng)膜在90℃下在一個(gè)張布架中干燥，同時(shí)在橫向按表1中所示的伸展放大率伸展，并且進(jìn)一步在由輥運(yùn)送的同時(shí)在120℃的干燥區(qū)內(nèi)干燥。因而，制備每個(gè)具有70μm厚度、1.3m寬度、及2000m長(zhǎng)度的纖維素酯膜1和2，并且分別指定為基片樣本1和2。纖維素酯膜1C以與纖維素酯膜1的相同方式制備，不同之處在于，不執(zhí)行伸展，并且指示為基片樣本1C。
光學(xué)膜的制備
采用圖2中表示的等離子放電設(shè)備，一個(gè)薄氧化鈦層(高折射率層)形成在基片樣本1、2和1C上。因而，得到光學(xué)膜樣本1、2和1C上。
作為轉(zhuǎn)動(dòng)電極，制備帶有固體介電物質(zhì)的滾動(dòng)電極，其中具有通過循環(huán)水調(diào)節(jié)溫度功能的不銹鋼套滾動(dòng)堿金屬借助于陶瓷的熱噴射覆蓋有1mm厚的氧化鋁層，覆蓋有四甲氧基硅烷，干燥，通過紫外線的照射硬化以執(zhí)行密封處理，并且進(jìn)一步經(jīng)受用于成品的垂直特別拋光。以與在以上滾動(dòng)電極中相同的方式制備帶有固體介電物質(zhì)的固定電極。滾動(dòng)電極和固定電極按圖2中所示布置。在兩個(gè)電極之間的間隙是1.5mm±0.1mm。用來產(chǎn)生放電等離子的電源是一個(gè)由NihonDenshi Co.Ltd.生產(chǎn)的一個(gè)高頻電源JRF-1000。等離子放電處理在13.56MHz下和在300W·min/m2的放電密度下執(zhí)行。轉(zhuǎn)動(dòng)電極借助于一個(gè)驅(qū)動(dòng)器件轉(zhuǎn)動(dòng)，并且其圓周速度與基片樣本的運(yùn)送速度同步。
采用用來形成高折射率層的如下反應(yīng)氣體組合物，分別由基片樣本1、2和1C連續(xù)地制備具有一個(gè)薄氧化鈦層的光學(xué)膜樣本1、2和1C。
其估計(jì)結(jié)果表示在表1中。
(用來形成高折射率層的組合物)
惰性氣體氬 體積的99.4％
反應(yīng)氣體四異丙氧基鈦
蒸汽(150℃液體用
氬氣起泡) 體積的0.1％
氫氣 體積的0.5％
(目視觀察估計(jì))
把樣本切成1.3m的寬度和50cm的長(zhǎng)度，并且其后表面經(jīng)受采用黑色噴涂以形成一個(gè)光吸收層的光吸收處理。目視觀察來自相對(duì)光吸收層的樣本表面的熒光燈光的反射，并且根據(jù)如下標(biāo)準(zhǔn)估計(jì)層不均勻度
A沒有觀察到不均勻度。
B觀察到輕微的不均勻度。
C觀察到不均勻度。
D觀察到明顯的不均勻度。
表1
(結(jié)果)
已經(jīng)證實(shí)，根據(jù)本發(fā)明的方法形成具有減小膜不均勻度的一個(gè)層或多個(gè)層。
例2
該例子2涉及第2、6、7、和8項(xiàng)。
涂料B的制備
(涂料組合物B)
二氯甲烷 380kg
乙醇 40kg
三乙酸纖維素(乙酰
取代程度2.92)100kg
磷酸三苯酯 11kg
二氧化硅顆粒
(顆粒尺寸0.01μm)0.12kg
TINUVIN326 1kg
以上涂料組合物B的有機(jī)溶劑包括在一個(gè)密封容器中，添加有其它成分，并且在加熱的同時(shí)攪拌以得到一種溶液。生成溶液冷卻到一個(gè)要澆鑄在支撐上的溫度，允許隔夜站立，去泡，及采用由Azumi RoshiCo.，Ltd.生產(chǎn)的Azumi Roshi No.244過濾以得到涂料B。
三乙酸纖維素膜的制備
三乙酸纖維素膜根據(jù)溶液澆鑄膜制造方法制備。把涂料B在35℃的涂料溫度下均勻地澆鑄在25℃的環(huán)形不銹鋼帶支撐上以形成一個(gè)網(wǎng)膜。干燥網(wǎng)膜直到它能從支撐上剝離，并且然后從不銹鋼帶支撐上剝離。在剝離處，網(wǎng)膜殘余溶劑量是重量的70％。剝離的網(wǎng)膜在90℃下在一個(gè)張布架中干燥，同時(shí)在橫向按1.03和1.10的伸展放大率伸展，并且進(jìn)一步在由輥運(yùn)送的同時(shí)在120℃的干燥區(qū)內(nèi)干燥。因而，制備每個(gè)具有60μm厚度的纖維素酯膜3和4，并且分別旨定為基片樣本3(在1.03的伸展放大下伸展)和4(在1.10的伸展放大下伸展)。纖維素酯膜3C以與纖維素酯膜3的相同方式制備，不同之處在于，在網(wǎng)膜剝離處，網(wǎng)膜殘余溶劑量是重量的20％，并且指定為基片樣本3C。
光學(xué)膜的制備
采用圖2中表示的等離子放電設(shè)備，一個(gè)薄氧化鈦層(高折射率層)以與例1類似的方式形成在基片樣本3、4和3C上。因而，分別由基片樣本3、4和3C制備具有薄氧化鈦層的光學(xué)膜樣本3、4和3C。
其估計(jì)結(jié)果表示在表2中
(抗拉強(qiáng)度的測(cè)量)
抗拉強(qiáng)度根據(jù)在JIS K7127-1989中定義的方法測(cè)量。以上得到的基片樣本的抗拉強(qiáng)度采用由Olyentech Co.Ltd.生產(chǎn)的抗拉試驗(yàn)機(jī)TENSILON RTA-100測(cè)量，條件是切成與在該JIS中描述的試樣No.1相同尺寸的基片以100mm/min的拉伸速度拉制。相對(duì)于力學(xué)方向(MD方向)和基片樣本的橫向(TD方向)進(jìn)行測(cè)量。
(在TD方向上層厚度變化的估計(jì))
與光學(xué)膜樣本3C相比，光學(xué)膜樣本3和4形成一個(gè)均勻?qū)印?br> 高折射率層的頻譜反射通過光譜儀TYPE U-4000(由HitachiSeisakusho Co.Ltd.生產(chǎn))在5°正常反射的條件下測(cè)量。為了防止在相對(duì)觀察者側(cè)的基片樣本的后表面處的光反射，使樣本的后表面表面粗糙，并且經(jīng)受采用黑色噴涂以形成一個(gè)光吸收層的光吸收處理。采用具有從400nm至700nm波長(zhǎng)的光測(cè)量生成樣本的反射性。由以上得到的反射光譜計(jì)算高折射率層的厚度。測(cè)量在TD方向上在高折射率層上在10cm間隔下十點(diǎn)的每一個(gè)的厚度，并且確定在TD方向上的層厚度平均值和與平均值的偏差。
(皺折不均勻度的目視觀察估計(jì))
把樣本切成1.3m的寬度和50cm的長(zhǎng)度，并且以后其后表面經(jīng)受采用黑色噴涂以形成一個(gè)光吸收層的光吸收處理。目視觀察來自相對(duì)光吸收層的樣本表面的熒光燈光的反射，并且根據(jù)如下標(biāo)準(zhǔn)估計(jì)皺折狀不均勻度
A沒有觀察到皺折狀不均勻度。
B觀察到輕微的皺折狀不均勻度。
C部分觀察到皺折狀不均勻度。
D觀察到明顯的皺折狀不均勻度。
表2
符號(hào)“*”代表高折射率層在TD方向上的平均層厚度和與平均層的偏差。
(結(jié)果)
已經(jīng)證明，從光譜反射測(cè)量判斷，在本發(fā)明中的光學(xué)膜樣本3和4具有不小于1.4×102N/mm2的抗拉強(qiáng)度，不產(chǎn)生皺折狀不均勻度，并且使層厚度的變化最小。
例3
該例子3涉及第3、6、7、和8項(xiàng)。
涂料C的制備
(涂料組合物C)
二氯甲烷 440kg
乙醇 35kg
三乙酸纖維素(乙酰
取代程度2.86)100kg
乙醇酸乙基鄰苯二甲酰乙酯 15kg
TINUVIN326 0.5kg
TINUVIN109 0.5kg
以上涂料組合物C的有機(jī)溶劑包括在一個(gè)密封容器中，添加有其它成分，并且在加熱的同時(shí)攪拌以得到一種溶液。生成溶液冷卻到一個(gè)要澆鑄在支撐上的溫度，允許隔夜站立，去泡，及采用由Azumi RoshiCo.，Ltd.生產(chǎn)的Azumi Roshi No.244過濾以得到涂料C。
三乙酸纖維素膜的制備
三乙酸纖維素膜根據(jù)溶液澆鑄膜制造方法制備。把涂料C在35℃的涂料溫度下均勻地澆鑄在30℃的不銹鋼帶支撐上以形成一個(gè)網(wǎng)膜。干燥網(wǎng)膜直到它能從支撐上剝離，并且然后從不銹鋼帶支撐上剝離。在剝離處，網(wǎng)膜殘余溶劑量是重量的40％。
剝離的網(wǎng)膜在90℃下在一個(gè)張布架中干燥，同時(shí)在橫向按1.05的伸展放大率伸展，并且進(jìn)一步在由輥運(yùn)送的同時(shí)在120℃的干燥區(qū)內(nèi)干燥。因而，制備具有50μm厚度的纖維素酯膜5，并且指定為基片樣本5。纖維素酯膜5C以與纖維素酯膜5的相同方式制備，不同之處在于，涂料C包含4kg的乙醇酸乙基鄰苯二甲酰乙酯而不是15kg的乙醇酸乙基鄰苯二甲酰乙酯，并且指定為基片樣本5C。
光學(xué)膜的制備
采用圖2中表示的等離子放電設(shè)備，一個(gè)薄氧化鈦層(高折射率層)以與例1類似的方式形成在基片樣本5和5C上。因而，分別由基片樣本5和5C制備具有薄氧化鈦層的光學(xué)膜樣本5和5C。
其估計(jì)結(jié)果表示在表3中
(目視觀察估計(jì))
處理光學(xué)樣本5和5C，并且以與例1中相同的方式估計(jì)層的不均勻度。
(薄霧)
薄霧根據(jù)JIS K7105測(cè)量。
(水份的測(cè)量)
把樣本切成10cm×10cm的尺寸，允許在23℃和80％RH下站立48小時(shí)，并且稱重。生成樣本的重量是W2。以后，把該樣本在120℃下干燥45分鐘，并且稱重，及其重量是W1。樣本的水份從如下公式得到
水份(％)＝{(W2-W1)/W1}×100
表3
已經(jīng)證明，與光學(xué)膜樣本5C相比，本發(fā)明采用具有重量水份含量3.0％的纖維素酯膜5(基片樣本5)的光學(xué)膜樣本5提供低的薄霧、和減小的不均勻度。
例4
該例子4涉及第1、5、6、7、和8項(xiàng)。
涂料D的制備
(涂料組合物D)
乙醇 35kg
AEROSIL200V 0.3kg
二氯甲烷 440kg
三乙酸纖維素(乙酰
取代程度2.89) 100kg
磷酸三苯酯 10kg
乙醇酸乙基鄰苯二甲酰乙酯 5kg
TINUVIN326 0.5kg
TINUVIN109 0.5kg
以上涂料組合物D的有機(jī)溶劑包括在一個(gè)密封容器中，添加有其它成分，并且在加熱的同時(shí)攪拌以得到一種溶液。生成溶液冷卻到一個(gè)要澆鑄在支撐上的溫度，允許隔夜站立，去泡，及采用由Azumi RoshiCo.，Ltd.生產(chǎn)的Azumi Roshi No.244過濾以得到涂料D。
三乙酸纖維素膜的制備
三乙酸纖維素膜根據(jù)溶液澆鑄膜制造方法制備。把涂料D在35℃的涂料溫度下均勻地澆鑄在30℃的不銹鋼帶支撐上以形成一個(gè)網(wǎng)膜。干燥網(wǎng)膜直到它能從支撐上剝離，并且然后從不銹鋼帶支撐上剝離。在剝離處，網(wǎng)膜殘余溶劑量是重量的40％。
剝離的網(wǎng)膜在85℃下在一個(gè)張布架中干燥，同時(shí)在橫向按1.06的伸展放大率伸展，并且進(jìn)一步在由輥運(yùn)送的同時(shí)在120℃的干燥區(qū)內(nèi)干燥。因而，制備具有50μm厚度并且包括毛面劑(AEROSIL200V)的纖維素酯膜6，并且指定為基片樣本6。關(guān)于樣本機(jī)械方向(MD方向)和橫向(TD方向)的抗接強(qiáng)度都不小于150N/mm2。在纖維素酯膜6的以上制備中，面對(duì)不銹鋼帶表面的纖維素酯膜表面指定為表面B，而相對(duì)表面B的膜表面指定為表面A。纖維素酯膜6C以與纖維素酯膜6相同的方式制備，不同之處在于，涂料D不包含AEROSIL200V，并且指定為基片樣本6C。
涂有諸如底涂層的一個(gè)層的基片樣本的制備
如下涂敷組合物(1)是涂敷在基片樣本6的表面A上的擠壓物以給出13μm的濕潤(rùn)厚度，并且在80℃的干燥區(qū)中干燥以形成一個(gè)底涂層。如下涂敷組合物(2)是涂敷在基片樣本6的表面B上的擠壓物以給出13μm的濕潤(rùn)厚度，并且在80℃的干燥區(qū)中干燥，及經(jīng)受在110mJ/cm2下的紫外光照射以形成具有3μm干燥厚度和12nm中心線平均表面粗糙度(Ra)的透明硬涂層。因而，得到基片樣本7。
以與基片樣本7相同的方式制備基片樣本8，不同之處在于使用如下涂敷組合物(3)代替涂敷組合物(2)以形成具有3μm的干燥厚度的防眩層。
下面表示用在以上基片樣本7和8及涂敷組合物(3)的制備方法中的涂敷組合物(1)、(2)、和(3)。
{涂敷組合物(1)(底涂層涂敷組合物)}
丙酮重量的30份
乙酸乙酯重量的45份
異丙醇 重量的10份
纖維素雙乙酸酯 重量的0.6份
0.2％二氧化硅顆粒丙酮
分散相 重量的0.04份
{涂敷組合物(2)(透明硬涂層涂敷組合物)}
雙季戊四醇六丙烯酸酯單體重量的60份
雙季戊四醇六丙烯酸酯二聚物 重量的20份
雙季戊醇四六丙烯酸酯三聚物
或高于三聚物的其聚合物重量的20份
二乙氧基二苯酮重量的4份
乙酸乙酯 重量的45份
甲基·乙基酮 重量的45份
異丙醇重量的60份
涂敷組合物(3)(防眩涂層涂敷組合物)的制備
乙酸乙酯 重量的45份
甲基·乙基酮 重量的45份
異丙醇重量的60份
Silycia431(平均顆粒尺寸
2.5μm，由Fuji Silysia
Chemical Co.，Ltd.生產(chǎn)) 重量的2份
AEROSIL200V(平均顆粒尺寸
12nm) 重量的5份
以上組合物在一種高速攪拌器TK Homomixer(由Tokushu KikaKogyo Co.，Ltd.生產(chǎn))中攪拌，并且進(jìn)一步在碰撞型分散器Mantongorin(由Gorin Co.，Ltd.生產(chǎn))中分散，及然后添加有如下UV可硬化溶液以得到一種涂敷組合物(3)。
(UV可硬化溶液)
雙季戊四醇六丙烯酸酯單體 重量的60份
雙季戊四醇六丙烯酸酯二聚物重量的20份
雙季戊四醇六丙烯酸酯三聚物
或高于三聚物的其聚合物重量的20份
二乙氧基二苯酮重量的4份
光學(xué)膜的制備
采用圖2中表示的等離子放電設(shè)備，一個(gè)氧化鈦層(高折射率層)以與例1類似的方式形成在基片樣本6和6C的表面B上、在基片樣本7的透明硬涂層上、及在基片樣本8的防眩層上。因而，分別由基片樣本6、6C、7、和8制備光學(xué)膜樣本6、6C、7、和8。
根據(jù)如下方法估計(jì)生成樣本，結(jié)果表示在表4中。
(動(dòng)摩擦系數(shù)的測(cè)量)
把生成基片樣本切成100mm×200mm的尺寸以得到一個(gè)第一件，并且切成750mm×100mm的尺寸以得到一個(gè)第二件。第二件疊加在第一件上，從而在要形成的層的相對(duì)側(cè)上的最外表面(基片樣本6或基片樣本7或8的底涂敷層的后表面)彼此接觸，并且把生成組合物放置在一個(gè)固定水平板上。具有200克重量的泡沫橡膠負(fù)載放置在生成材料上，粘結(jié)到上部件上，及在水平方向用力F拉制。測(cè)量借助于其負(fù)載開始運(yùn)動(dòng)的力F(kg)，并且由如下公式得到動(dòng)摩擦系數(shù)(μ)
F＝μ×W
其中W(kg)代表負(fù)載的重量，而F(kg)代表借助于其負(fù)載開始運(yùn)動(dòng)的力。
在MD方向?qū)雍穸茸兓墓烙?jì)
高折射率層的頻譜反射通過光譜儀TYPE U-4000(由HitachiSeisakusho Co.Ltd.生產(chǎn))在5°正常反射的條件下測(cè)量。為了防止在相對(duì)觀察者側(cè)的基片樣本的后表面處的光反射，使樣本的后表面表面粗糙，并且經(jīng)受采用黑色噴涂以形成一個(gè)光吸收層的光吸收處理。采用具有從400nm至700nm波長(zhǎng)的光測(cè)量生成樣本的反射性。由以上得到的反射光譜計(jì)算高折射率層的厚度。測(cè)量在TD方向上在高折射率層上在30cm間隔下十點(diǎn)的每一個(gè)的層厚度，并且確定層厚度平均值和與平均值的偏差。
表4
符號(hào)“*”代表高折射率層在MD方向上的平均層厚度和與平均層的偏差。
(結(jié)果)
基片樣本6本身包含一種毛面劑?；瑯颖?帶有在表面A上的一個(gè)毛面劑包含底涂敷層和在另一個(gè)表面B上的透明硬涂敷層?；?帶有在表面A上的一個(gè)毛面劑包含底涂敷層和在另一個(gè)表面B上的防眩層。基片樣本6、7、和8的每一個(gè)具有不大于0.9的動(dòng)摩擦系數(shù)。基片樣本6、7、和8經(jīng)受等離子放電處理以分別得到光學(xué)膜樣本6、7、和8。生成光學(xué)膜樣本6、7、和8提供均勻?qū)雍穸榷鴽]有在MD方向上的層厚度變化。
比較例1
涂料E的制備
(涂料組合物E)
二氯甲烷 440kg
乙醇 35kg
三乙酸纖維素(乙酰
取代程度2.86)100kg
磷酸三苯酯 8kg
TINUVIN326 0.5kg
TINUVIN328 0.5kg
以上涂料組合物E的有機(jī)溶劑包括在一個(gè)密封容器中，添加有其它成分，并且在加熱的同時(shí)攪拌以得到一種溶液。生成溶液冷卻到一個(gè)要澆鑄在支撐上的溫度，允許隔夜站立，去泡，及采用由Azumi RoshiCo.，Ltd.生產(chǎn)的Azumi Roshi No.244過濾以得到涂料E。
三乙酸纖維素膜的制備
三乙酸纖維素膜根據(jù)溶液澆鑄膜制造方法制備。把涂料E在35℃的涂料溫度下均勻地澆鑄在30℃的環(huán)形不銹鋼帶支撐上以形成一個(gè)網(wǎng)膜。干燥網(wǎng)膜直到它能從支撐上剝離，并且然后從不銹鋼帶支撐上剝離。在剝離處，濕潤(rùn)網(wǎng)膜殘余溶劑量是重量的20％。剝離的網(wǎng)膜在由輥運(yùn)送的同時(shí)在90至120℃的干燥區(qū)中干燥。因而，制備具有70μm厚度的纖維素酯膜7，并且指定為基片樣本9。
光學(xué)膜的制備
采用圖2中表示的等離子放電設(shè)備，一個(gè)薄氧化鈦層(高折射率層)以與例1類似的方式形成在基片樣本9上。因而，由基片樣本9制備具有薄氧化鈦層的光學(xué)膜樣本9。
根據(jù)如下估計(jì)生成基片樣本，并且結(jié)果表示在表5中。
(估計(jì))
以與例1相同的方式執(zhí)行對(duì)層不均勻度的目視觀察估計(jì)，以與例2相同的方式測(cè)量在TD方向的抗拉強(qiáng)度和層厚度變化并且觀察皺折不均勻度，以與例3相同的方式得到薄霧和水份，及以與例4相同的方式測(cè)量在MD方向上的動(dòng)摩擦系數(shù)和層厚度的變化。結(jié)果表示在表5中。
表5
符號(hào)“*”代表高折射率層在MD和TD方向上的平均層厚度和與平均層的偏差。
如由表7明白的那樣，采用非伸展纖維素酯膜的光學(xué)膜樣本No.9(比較例)具有70μm的厚度，并且具有1.3×102N/mm2的抗拉強(qiáng)度、5％重量的水份、及1.10的動(dòng)摩擦系數(shù)，落在本發(fā)明的范圍外，提供明顯的不均勻度和層厚度的巨大變化。
例5和比較例2
例4的光學(xué)膜樣本7和8、和比較例1的光學(xué)膜樣本9以與例1相同的方式經(jīng)受等離子放電處理，以在高折射率層上形成一個(gè)低折射率層(具有95nm的層厚度和1.46的折射率)，不同之處在于，使用用來形成一個(gè)低折射率層的如下反應(yīng)氣體組合物，而不是用來形成高折射率層的反應(yīng)氣體組合物。因而，分別從光學(xué)膜樣本7、8和9得到偏振片保護(hù)膜10、11、和12。
(用來形成低折射率層的組合物)
惰性氣體氬體積的98.2％
反應(yīng)氣體四甲氧基硅烷
蒸汽(用氬氣起泡)體積的0.3％
氫氣體積的1.5％
采用偏振片保護(hù)膜10、11、和12，制備偏振片1、2、和3。
偏振片的制備
采用偏振片保護(hù)膜10、11、和12，根據(jù)如下程序制備偏振片樣本1至3，并且估計(jì)。
1.偏振膜的制備
單軸伸展(在110℃下通過5的因數(shù))120μm厚的聚乙烯醇膜。把生成膜浸漬在一種包括0.075克碘、5克碘化鉀、和100克水的水溶液中60秒，另外在包括6克碘化鉀、7.5克硼酸、和100克水的水溶液中浸漬，用水沖洗，及干燥。因而，得到一種偏振膜。
2.偏振片的制備
根據(jù)如下程序1至5，層疊以上得到偏振膜和偏振片保護(hù)膜10、11、和12的每一個(gè)以得到一個(gè)偏振片樣本。
程序1切開偏振片保護(hù)膜以得到具有30cm(在力學(xué)方向上)×18cm(在橫向)尺寸的兩個(gè)試樣。把生成試樣浸漬在60℃下含水2摩爾/升氫氧化鈉溶液中90秒，用水沖洗，并且干燥。生成材料的低折射率層用可剝離保護(hù)膜層疊。因而，得到兩個(gè)偏振片保護(hù)膜樣本。
程序2把以上得到的偏振膜切成30cm(在力學(xué)方向上)×18cm(在橫向)的尺寸，并且浸漬在聚丙烯醇粘合劑(具有2％重量的固體含量)1至2秒以形成一個(gè)粘合劑層。
程序3柔軟地除去在程序2中制備的偏振膜上的粘合劑層的多余粘合劑。把一個(gè)偏振片保護(hù)膜樣本層疊到生成偏振膜的一個(gè)表面上，并且另外，通過粘合劑層(具有向外布置的低折射率層)把另一個(gè)偏振片保護(hù)膜樣本層疊在偏振膜的另一個(gè)表面上。因而，得到層疊樣本。
程序4通過人力壓輥把壓力施加到帶有偏振膜和在程序3中得到的偏振片保護(hù)膜樣本的層疊樣本上，以從層疊樣本的端部除去泡沫或多余粘合劑。由人力壓輥施加的壓力從20至30N/cm2，并且壓輥速度是2m/min。
程序5把在程序4中得到的樣本在干燥機(jī)中在80℃下干燥2分鐘。因而，分別采用偏振片保護(hù)膜樣本10、11、和12制備偏振片樣本1至3。
(液晶顯示器板樣本的制備)
剝離在可買到顯示板(由NEC Co.，Ltd.生產(chǎn)的彩色液晶顯示器MultiSync LCD1525J TYPE LA-1529HM)的液晶單元觀察者側(cè)的偏振板。以后，把偏振板樣本1至3的每一個(gè)疊加在液晶單元上，從而偏振方向與原始的一個(gè)相一致，以分別得到液晶顯示板樣本1、2、和3。
目視觀察偏振樣本1至3和液晶顯示板樣本1、2、和3，并且根據(jù)如下標(biāo)準(zhǔn)估計(jì)不均勻度
A沒有觀察到不均勻度。
B觀察到輕微的不均勻度。
C觀察到不均勻度。
D觀察到明顯的不均勻度。
結(jié)果表示在表6中。
表6
Inv.發(fā)明的，Comp.比較例
如由表6明白的那樣，采用本發(fā)明中的偏振板樣本1和2的液晶板樣本1和2(發(fā)明的)，與采用偏振片樣本1和2的液晶板樣本3(比較例的)相比，不提供不均勻度，呈現(xiàn)優(yōu)良的顯示性能。液晶板樣本3提供明顯的不均勻度。
本發(fā)明的效果
本發(fā)明提供一種根據(jù)在大氣壓力下或近似在大氣下的等離子放電在一個(gè)基片上連續(xù)和以減小成本制造一個(gè)均勻多重層的方法、一種在表面上帶有根據(jù)該方法形成的層的光學(xué)膜、及一種采用該光學(xué)膜的偏振片或圖像顯示器。
權(quán)利要求
1.一種形成一層或多層的方法，該方法包括步驟
(a)把一個(gè)具有一個(gè)第一表面和一個(gè)在相對(duì)第一表面的側(cè)上的第二表面的基片，運(yùn)送到在彼此面對(duì)著的一個(gè)第一電極與一個(gè)第二電極之間形成的一個(gè)間隙，第二表面具有不大于0.9的動(dòng)摩擦系數(shù)；和
(b)使基片的第一表面經(jīng)受等離子放電處理，以在大氣壓力下或近似在大氣壓力下在向間隙供給活性氣體的同時(shí)形成該層。
2.一種形成一層或多層的方法，該方法包括步驟
使一個(gè)基片的表面經(jīng)受等離子放電處理，該基片具有從10至60μm的厚度和具有不小于1.4×102N/mm2的抗拉強(qiáng)度，以在大氣壓力下或近似在大氣壓力下，在彼此相對(duì)的一個(gè)第一電極與一個(gè)第二電極之間形成的一個(gè)間隙處，在向間隙供給反應(yīng)氣體的同時(shí)，形成該層。
3.一種形成一個(gè)第一層的方法，該方法包括步驟
使一個(gè)基片的表面或提供在一個(gè)基片上的一個(gè)第二層經(jīng)受等離子放電處理，以在大氣壓力下或近似在大氣壓力下，在彼此相對(duì)的一個(gè)第一電極與一個(gè)第二電極之間形成的一個(gè)間隙處，在向間隙供給反應(yīng)氣體的同時(shí)，形成該第一層，其中基片在23℃和80％RH下具有不大于4％的含水量。
4.一種形成一個(gè)第一層的方法，該方法包括步驟
使一個(gè)基片的表面或提供在一個(gè)基片上的一個(gè)第二層經(jīng)受等離子放電處理，以在大氣壓力下或近似在大氣壓力下，在彼此相對(duì)的一個(gè)第一電極與一個(gè)第二電極之間形成的一個(gè)間隙處，在向間隙供給反應(yīng)氣體的同時(shí)，形成該第一層，其中基片已經(jīng)在橫向伸展。
5.根據(jù)權(quán)利要求3或4所述的方法，其中提供在基片上的第二層是一個(gè)硬化樹脂層，其中每個(gè)具有一個(gè)烯屬未飽和雙鍵的一個(gè)單體或低聚物已經(jīng)聚合和硬化。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至5任一項(xiàng)所述的方法，其中基片是纖維素酯膜。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其中纖維素酯膜包括具有從2.55至2.95的總?；〈潭鹊睦w維素酯。
8.一種光學(xué)膜，具有根據(jù)權(quán)利要求1至7任一項(xiàng)所述的方法形成的一層或多層。
9.一種偏振片，采用根據(jù)權(quán)利要求8所述的光學(xué)膜作為保護(hù)膜。
10.一種圖像顯示器，采用根據(jù)權(quán)利要求8所述的光學(xué)膜。
全文摘要
公開了一種形成一層或多層的方法，該方法包括步驟把一個(gè)具有一個(gè)第一表面和一個(gè)在相對(duì)第一表面的側(cè)上的第二表面的基片，運(yùn)送到在彼此面對(duì)著的一個(gè)第一電極與一個(gè)第二電極之間形成的一個(gè)間隙，第二表面具有不大于0.9的動(dòng)摩擦系數(shù)；和使基片的第一表面經(jīng)受等離子放電處理，以在大氣壓力下或近似在大氣壓力下在向間隙供給活性氣體的同時(shí)形成該層。
文檔編號(hào)C23C16/54GK1407131SQ0211616
公開日2003年4月2日 申請(qǐng)日期2002年4月22日 優(yōu)先權(quán)日2001年4月25日
發(fā)明者村上隆, 福田和浩 申請(qǐng)人:柯尼卡株式會(huì)社