括第一對引導輥66和68，所述第一對引導輥位于兩個測量輥34和36的上游(或下游)、并由主體20支撐，以便以可圍繞平行于測量輥的轉(zhuǎn)動軸線zl和z2的各自的轉(zhuǎn)動軸線空轉(zhuǎn)地轉(zhuǎn)動。引導輥66被安裝成使其轉(zhuǎn)動軸線相對于主體20固定，而引導輥68通過彈簧加載的推動構件70而被彈性地推向引導輥66。推動構件70在連接引導輥66和68的轉(zhuǎn)動軸線的方向上作用在支撐本體72上，支撐本體72可轉(zhuǎn)動地支撐引導輥68、并且圍繞與前述方向隔開的一軸線鉸接于主體20。優(yōu)選地，定位裝置進一步包括第二對引導輥74和76，第二對引導輥放置在所述兩個測量輥34和36的下游(或上游)、并由主體20支撐，以便可圍繞平行于測量輥的轉(zhuǎn)動軸線zl和z2的各自的轉(zhuǎn)動軸線空轉(zhuǎn)地轉(zhuǎn)動。引導輥74安裝成使其轉(zhuǎn)動軸線相對于主體20固定，而引導輥76通過彈簧加載的推動構件78被彈性地推向引導輥74。推動構件78在連接引導輥74和76的轉(zhuǎn)動軸線的方向上作用在支撐件本體80上，支撐件本體80可轉(zhuǎn)動地支撐引導輥76、并圍繞與前述方向隔開的一軸線鉸接于主體20。優(yōu)選地，第一對引導輥中的輥66和68的轉(zhuǎn)動軸線和第二對引導輥中的輥74和76的軸線被定位在距一橫向平面的距離相同的距離處，所述橫向平面穿過I方向且垂直于切線t延伸。
[0032]因此，被傳送通過第一托架12的處于彎曲下的工件M按如下順序移動:位于第一對引導輥66和68之間、位于所述兩個測量輥34和36之間、以及位于第二對引導輥74和76之間。由于與輥相關聯(lián)的彈性裝置(用于第一對引導輥66和68的推動構件70、用于所述兩個測量輥34和36的彈簧58以及用于第二對引導輥68的推動構件78)的作用，輥被保持為與處于彎曲下的工件M的內(nèi)弧表面Si和外弧表面Se接觸。如可從圖4和圖5 (圖4和5分別涉及工件未被彎曲的狀態(tài)以及工件被彎曲的狀態(tài))之間的比較注意到的，所述兩對引導棍66、68和74、76確保了第一托架12相對于工件M的如上所限定的正確定位，而所述兩個測量輥34和36根據(jù)工件的彎曲半徑而沿方向y移動。
[0033]可通過下列的方式獲得通過上述測量單元對傳送(特別是在彎曲之后的傳送)的測量、以及對彎曲半徑的測量。
[0034]由于測量輥34和36的半徑是已知的，所以借助于編碼器50和52對這些輥的轉(zhuǎn)動角度的測量允許均獲得對工件在內(nèi)弧表面Si (測量輥34和編碼器50)上和外弧表面Se (測量輥36和編碼器52)上的傳送的測量。這些測量值的算術平均值給出了工件M在工件的縱向軸線X處的傳送的值。
[0035]就涉及彎曲半徑的測量而言，圖7的方案示出了，借助于第一測量輥34和相關聯(lián)的編碼器50測量工件M在內(nèi)弧表面SiI的傳送(標示為C J、以及借助于第二測量輥36和相關聯(lián)的編碼器52測量工件M在外弧表面SJ:的傳送(標示為C J、以及借助于感應式位移傳感器60測量測量輥34和36的軸線之間的距離、并因此測量工件的橫向尺寸(標示為A)允許基于下面的等式獲得彎曲半徑R1:
[0036]Ri= A/(C e/C-1) ο
[0037]第一托架12還設置有標記裝置82 (圖2和3)，所述標記裝置布置成在處于彎曲下的工件M的表面(在所示的實例中，該表面為外弧表面SJ上產(chǎn)生可光學地檢測的標記。標記裝置82(該標記裝置僅部分地和示意性地示出在附圖中)本身是已知類型的，并且因此將不作詳細描述。
[0038]由標記裝置82在工件M上所產(chǎn)生的標記通過光學檢測裝置84來檢測，光學檢測裝置被機載地安裝于第二托架14上。如已在上面陳述的，第二托架14通過保持裝置(鋼帶18)連接于第一托架12，保持裝置被設置成用于將該托架保持在給定的固定距離處，所述給定的固定距離是沿平行于工件M的縱向軸線X的方向測量的。
[0039]參考圖8和圖9，第二托架14包括主體86，該主體86除了承載上述的光學檢測裝置84之外還承載定位裝置，該定位裝置被布置為以這樣的方式限定主體86相對于處于彎曲下的工件M的定位、并且從而限定光學檢測裝置84相對于處于彎曲下的工件M的定位，所述方式為:在具有恒定彎曲半徑的彎曲期間，在這些軸線之間的交點中光學檢測裝置84的光軸(標示為y。)基本上垂直于相切于工件的縱向軸線X的切線t。類似于在第一托架12中，在第二托架14中，定位裝置也包括一對引導輥88和90。引導輥88和90由主體86支撐，以便可圍繞各自的固定轉(zhuǎn)動軸線空轉(zhuǎn)地轉(zhuǎn)動，所述固定轉(zhuǎn)動軸線被定向為垂直于彎曲平面。此外，引導輥88和90鄰接抵靠處于彎曲下的工件M的內(nèi)弧表面Si (或可替代地，抵靠外弧表面Se)。定位裝置進一步包括至少一個彈簧加載的反作用構件92，該反作用構件鄰接抵靠工件的相對表面。在圖9所示的實施例中，設置有兩個反作用構件92，該兩個反作用構件被制成為閘瓦(shoes，制動箍，包套)，但是，還可設想的是，僅提供一個反作用構件和/或?qū)⑺鲋辽僖粋€反作用構件制成為輥。
[0040]因為提供了這樣的光學檢測裝置，S卩，該光學檢測裝置被放置在距離標記裝置一給定的固定距離(該給定的固定距離是平行于工件的縱向軸線測量的)處并且能夠檢測由標記裝置在處于彎曲下的工件上產(chǎn)生的標記，所以，測量單元能夠以高精度檢測在彎曲之后的傳送的間隔(intervals)，所述傳送的間隔等于上述距離，并且因此可提高對在彎曲之后的傳送的測量的精度(特別是在非常長的工件的情況下)。
[0041]如上面已經(jīng)陳述的，本發(fā)明的該進一步方面，S卩，標記裝置和光學檢測裝置(所述標記裝置和光學檢測裝置通過合適的保持裝置而被保持為距彼此一給定距離處)的提供還可應用到這樣的測量單元，即，該測量單元被布置成用于測量在彎曲之后的傳送，該測量單元的類型不同于在上面參照圖2至圖7描述的類型，例如，可應用于僅具有一個測量輥以及具有測量裝置的測量單元，該僅一個測量輥被保持為與工件的內(nèi)弧表面接觸表面或與工件的外弧表面接觸，所述測量裝置被布置成用于測量所述測量輥關于其轉(zhuǎn)動軸線的角度位置。
[0042]當然，在本發(fā)明的原理保持不變的情況下，實施例和結(jié)構細節(jié)可以相對于僅作為非限制實例而被描述和圖示的實施例和結(jié)構細節(jié)進行較大改變，因此，這些改變不脫離所附權利要求書中所限定的保護范圍。
【主權項】
1.一種測量單元(10)，所述測量單元用于在工件(M)借助于彎曲機在給定彎曲平面中被彎曲的同時測量所述工件的彎曲半徑(Ri)和傳送(Ci, C；)， 所述測量單元(10)包括第一托架(12)，所述第一托架被布置成連接于所述彎曲機、并且所述第一托架由處于彎曲下的所述工件(M)通過，其中所述第一托架(12)包括: 主體(20)， 一對支撐本體(30，32)，所述一對支撐本體由所述主體(20)承載， 一對測量輥(34，36)，每個測量輥均安裝在各自的支撐本體(30，32)上，以使得每個測量輥均圍繞各自的轉(zhuǎn)動軸線(zl，z2)空轉(zhuǎn)地轉(zhuǎn)動，所述測量輥(34，36)的所述轉(zhuǎn)動軸線(zl，z2)彼此平行并垂直于所述彎曲平面， 第一測量裝置(50，52)，所述第一測量裝置被布置成用于提供所述測量輥(34，36)中的每一個關于各自的轉(zhuǎn)動軸線(zl，z2)的角度位置的信號指示， 引導裝置(28)，所述引