掃描電子顯微鏡的制作方法
【專利摘要】掃描電子顯微鏡 是涉及一種電子顯微鏡的改進(jìn)。 本發(fā)明提供一種信噪比較高且立體感強(qiáng)的一種 掃描電子顯微鏡 。本發(fā)明包括物鏡，其結(jié)構(gòu)要點(diǎn)是：物鏡設(shè)置在主機(jī)上方，物鏡上方依次設(shè)置有掃描線圈、聚光鏡和電子槍、掃描線圈通過掃描信號(hào)發(fā)生器與顯示器相連，主機(jī)通過放大器與顯示器相連。
【專利說明】掃描電子顯微鏡

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明是涉及一種電子顯微鏡的改進(jìn)。

【背景技術(shù)】
[0002]隨著科學(xué)技術(shù)的發(fā)展進(jìn)步，人們不斷需要從更高的微觀層次觀察、認(rèn)識(shí)周圍的物質(zhì)世界。細(xì)胞、微生物等微米尺度的物體直接用肉眼觀察不到，顯微鏡的發(fā)明解決了這個(gè)問題。目前，納米科技成為研究熱點(diǎn)，集成電路工藝加工的特征尺度進(jìn)人深亞微米，所有這些更加微小的物體光學(xué)顯微鏡也觀察不到，必須使用電子顯微鏡。但是一般的電子顯微鏡信噪比較小，信號(hào)強(qiáng)度弱，且立體感差。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明就是針對上述問題，提供一種信噪比較高且立體感強(qiáng)的一種掃描電子顯微鏡。
[0004]為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采用如下技術(shù)方案，本發(fā)明包括物鏡，其結(jié)構(gòu)要點(diǎn)是:物鏡設(shè)置在主機(jī)上方，物鏡上方依次設(shè)置有掃描線圈、聚光鏡和電子槍、掃描線圈通過掃描信號(hào)發(fā)生器與顯示器相連，主機(jī)通過放大器與顯示器相連。
[0005]作為一種優(yōu)選方案，作為一種優(yōu)選方案，物鏡分為左物鏡和右物鏡；兩個(gè)物鏡的效果更好。
[0006]本發(fā)明有益效果。
[0007]本發(fā)明包括物鏡，物鏡設(shè)置在主機(jī)上方，物鏡上方依次設(shè)置有掃描線圈、聚光鏡和電子槍、掃描線圈通過掃描信號(hào)發(fā)生器與顯示器相連，主機(jī)通過放大器與顯示器相連。掃描電鏡的的景深大，因而可以獲得信噪比高的、高倍率的、立體感強(qiáng)的、直觀的顯微圖像。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0008]為本發(fā)明所解決的技術(shù)問題、技術(shù)方案及有益效果更加清楚明白，以下結(jié)合附圖及【具體實(shí)施方式】，對本發(fā)明進(jìn)行進(jìn)一步詳細(xì)說明。應(yīng)當(dāng)理解，此處所描述的【具體實(shí)施方式】僅僅用以解釋本發(fā)明，并不用于限定本發(fā)明。
[0009]圖1是本發(fā)明的結(jié)構(gòu)圖。
[0010]圖中1為顯不器、2為放大器、3為掃描信號(hào)發(fā)生器、4為主機(jī)、5為物鏡、6為掃描線圈、7為電子槍、8為聚光鏡。

【具體實(shí)施方式】
[0011 ] 如圖所示，本發(fā)明包括物鏡5，物鏡5設(shè)置在主機(jī)4上方，物鏡5上方依次設(shè)置有掃描線圈6、聚光鏡8和電子槍7、掃描線圈6通過掃描信號(hào)發(fā)生器3與顯示器1相連，主機(jī)4通過放大器2與顯示器1相連。
[0012]作為一種優(yōu)選方案，物鏡5分為左物鏡和右物鏡；兩個(gè)物鏡的效果更好。
[0013]掃描電鏡最基本，最有代表意義，也是分析檢測用得最多的就是它的二次電子襯度像。二次電子是樣品中原子的核外電子在人射電子的激發(fā)下離開該原子而形成的，因而在樣品中的平均自由程也小，只有在近表面約十納米量級(jí)，二次電子才能逸出表面被接收器接收并用于成像。電子束與樣品相互作用涉及的范圍成“梨”形。在近表面區(qū)域，人射電子與樣品的相互作用才剛剛開始，束斑直徑還來不及擴(kuò)展，與原人射電子束直徑比，變化還不大，相互作用發(fā)射二次電子的范圍小，有利于得到比較高的分辨率。目前，商品掃描電鏡的分辨率已經(jīng)達(dá)到一納米。加上掃描電鏡的的景深大，因而可以獲得高倍率的、立體感強(qiáng)的、直觀的顯微圖像。這是掃描電鏡獲得廣泛應(yīng)用的最主要原因。二次電子的產(chǎn)額與樣品表面的形狀有關(guān)，它對應(yīng)的像類同于人們?nèi)粘ξ矬w形貌的觀察，所以常常叫做形貌襯度像。二次電子的產(chǎn)額比較高，有利于提高成像的信噪比。二次電子信號(hào)的上述特點(diǎn)決定了它對應(yīng)的顯微像的種種優(yōu)越特性，使它得到廣泛的應(yīng)用。另一方面，二次電子信號(hào)的上述種種特點(diǎn)，也給分析檢測帶來一些問題二次電子形貌襯度不同于普通的光學(xué)成像的襯度。有時(shí)，光學(xué)顯微鏡看得到的，日常經(jīng)驗(yàn)認(rèn)為可能看得到的，在二次電子形貌襯度像上卻看不到。如集成電路芯片的觀察。芯片表面的鈍化層是光學(xué)透明的，透過鈍化層，金屬連線與介質(zhì)層的顏色及對光線的反射能力差別都很大，所以用光學(xué)顯微鏡觀察時(shí)，它們都能一一清晰成像。二次電子襯度則不同，它的信息深度小，透不了鈍化層，只在淺表面，獲得的像只反映鈍化層表面的高低起伏。即使通過刻蝕，去除了鈍化層再觀察，二次電子襯度反映的也不是顏色及光反射能力的差別，而只是高低不平的形貌差別。如果進(jìn)一步要分析檢測芯片的剖面多層結(jié)構(gòu)，通過直接觀察研磨、拋光獲得的剖面樣品，看到的主要是剖面加工損傷形貌，真正的多層結(jié)構(gòu)看不到，只有通過選擇性腐蝕，將多層結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)化為形貌差別才能實(shí)現(xiàn)所需的分析檢測。
[0014]以上內(nèi)容是結(jié)合具體的優(yōu)選實(shí)施方式對本發(fā)明作的進(jìn)一步詳細(xì)說明，不能認(rèn)定本發(fā)明的具體實(shí)施只局限于這些說明，對于本發(fā)明所屬【技術(shù)領(lǐng)域】的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本發(fā)明構(gòu)思的前提下，還可以做出若干簡單推演或替換，都應(yīng)當(dāng)視為屬于本發(fā)明所提交的權(quán)利要求書確定的保護(hù)范圍。
【權(quán)利要求】
1.掃描電子顯微鏡包括物鏡(5),其特征在于物鏡(5)設(shè)置在主機(jī)(4)上方,物鏡(5)上方依次設(shè)置有掃描線圈(6)、聚光鏡(8)和電子槍(7)、掃描線圈(6)通過掃描信號(hào)發(fā)生器(3)與顯示器(I)相連，主機(jī)(4)通過放大器(2)與顯示器(I)相連。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掃描電子顯微鏡，其特征在于物鏡(5)分為左物鏡和右物鏡。
【文檔編號(hào)】H01J37/28GK104465287SQ201310417650
【公開日】2015年3月25日 申請日期:2013年9月14日 優(yōu)先權(quán)日:2013年9月14日
【發(fā)明者】李征, 杜周, 譚思祥 申請人:李征