專利名稱：大氣電漿處理裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
大氣電漿處理裝置技術(shù)領(lǐng)域[0001 ] 本實(shí)用新型涉及一種電漿技術(shù)，特別是涉及一種大氣電漿處理裝置。
技術(shù)背景[0002]現(xiàn)有的電漿處理裝置由兩平行電極板、一氣體入口及一電漿出口所組成，氣體進(jìn)入該氣體入口后，通過所述平行電極板之間的電場(chǎng)產(chǎn)生粒子碰撞后形成電漿噴出。[0003]所述電漿噴射常用于進(jìn)行薄膜形成、蝕刻、表面改質(zhì)、有機(jī)污染物去除、清洗、排水化、親水化等表面處理。[0004]現(xiàn)有的電漿處理裝置存在下列缺點(diǎn)[0005]一、從該氣體入口到該電漿出口之間，常因氣體流量不均勻，導(dǎo)致噴出的電漿密度不均勻，極易造成表面處理不完全，影響作業(yè)質(zhì)量。[0006]二、現(xiàn)有的電漿處理裝置不易實(shí)施于大幅寬的大氣電漿裝置，因?yàn)榇蠓鶎挼拇髿怆姖{裝置空間較大，會(huì)因流動(dòng)間隙過大導(dǎo)致氣體流量不均勻，使得噴出的電漿密度也不均勻，導(dǎo)致表面處理不完全，影響作業(yè)質(zhì)量。[0007]三、空間較大的氣室容易抑制氣體流動(dòng)速度，使得電漿的噴出速度較慢，影響作業(yè)效率。發(fā)明內(nèi)容[0008]本實(shí)用新型的目的在于提供一種可以使氣體流量均勻以提升作業(yè)質(zhì)量，可以實(shí)施于大幅寬的大氣電漿裝置，可以提高作業(yè)效率的大氣電漿處理裝置。[0009]本實(shí)用新型大氣電漿處理裝置包含一處理臺(tái)、至少一個(gè)氣體分流單元、一放電氣室、一對(duì)電極及一高壓電源，其特征在于[0010]所述氣體分流單元包括設(shè)置于該處理臺(tái)的一個(gè)緩沖氣室，及位于所述緩沖氣室內(nèi)的一個(gè)氣體流量均勻件，所述緩沖氣室具有一氣體入口及一氣體出口。[0011]該放電氣室設(shè)置于該處理臺(tái)并與所述氣體出口連接。[0012]所述電極分別位于該放電氣室兩側(cè)，所述電極被絕緣體包覆并與該高壓電源串連。[0013]本實(shí)用新型所述的大氣電漿處理裝置，該大氣電漿處理裝置還包含設(shè)置于該處理臺(tái)且位于所述緩沖氣室與該放電氣室之間的至少一個(gè)狹縫。[0014]本實(shí)用新型所述的大氣電漿處理裝置，該大氣電漿處理裝置設(shè)有兩個(gè)氣體分流單元，及包含一設(shè)置于該處理臺(tái)且位于所述氣體分流單元之間的分隔塊，該分隔塊具有至少一個(gè)位于所述狹縫內(nèi)的斜邊。[0015]本實(shí)用新型所述的大氣電漿處理裝置，所述氣體流量均勻件為多孔分流塊，該多孔分流塊具有多個(gè)小孔。[0016]本實(shí)用新型所述的大氣電漿處理裝置，所述氣體流量均勻件為分歧氣管塊，該分歧氣管塊內(nèi)具有多階分歧管，且位于一輸入口兩側(cè)的兩分歧管的長(zhǎng)度相同。[0017]本實(shí)用新型的有益效果在于通過所述氣體分流單元的氣體流量均勻件，可以使氣體均勻地流入該放電氣室，最后使氣體電漿化形成電漿均勻噴出，進(jìn)而可以提升作業(yè)質(zhì)量。


[0018]圖1是本實(shí)用新型大氣電漿處理裝置第一較佳實(shí)施例的示意圖；[0019]圖2是本實(shí)用新型大氣電漿處理裝置第二較佳實(shí)施例的示意圖；[0020]圖3是本實(shí)用新型大氣電漿處理裝置的一多孔分流塊的示意圖；[0021]圖4是本實(shí)用新型大氣電漿處理裝置的一分歧氣管塊的示意圖。
具體實(shí)施方式
[0022]
以下結(jié)合附圖及實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行詳細(xì)說明。[0023]要注意的是，在以下的說明內(nèi)容中，類似的元件是以相同的編號(hào)來表示。[0024]如圖1所示，本實(shí)用新型第一較佳實(shí)施例的大氣電漿處理裝置100包含一處理臺(tái) 1，及設(shè)置于該處理臺(tái)1的一氣體分流單元2、一狹縫3、一放電氣室4、一對(duì)電極5和一高壓電源9。[0025]該氣體分流單元2包括一緩沖氣室21及一位于該緩沖氣室21內(nèi)的氣體流量均勻件22。[0026]該緩沖氣室21具有一氣體入口 211及一氣體出口 212。[0027]該氣體流量均勻件22具有可以使氣體流入并均勻流出的使用效果，在本實(shí)用新型中，該氣體流量均勻件22可為如圖3所示的多孔分流塊22a，或如圖4所示的分歧氣管塊 22b。該多孔分流塊22a內(nèi)具有多個(gè)小孔23。該分歧氣管塊22b內(nèi)具有多階分歧管M，且位于一輸入口 25兩側(cè)的兩分歧管M的長(zhǎng)度L1、L2相同，較佳地，所有分流后的兩分歧管的長(zhǎng)度都相同。通過該多孔分流塊22a的多個(gè)小孔23的設(shè)計(jì)，或通過該分歧氣管塊22b的多階分歧管M的設(shè)計(jì)，當(dāng)氣體自該氣體入口 211進(jìn)入，流經(jīng)該氣體流量均勻件22，也就是該多孔分流塊2 或該分歧氣管塊22b，可以使氣體流量均勻地自該氣體出口 212流出。[0028]該放電氣室4設(shè)置于該處理臺(tái)1并與該氣體出口 212連接，且該放電氣室4具有一電漿出口 41。[0029]該狹縫3設(shè)置于該處理臺(tái)1且位于該緩沖氣室21的氣體出口 212與該電氣室4 之間。[0030]所述電極5分別設(shè)置于該處理臺(tái)1并位于該放電氣室4兩側(cè)，所述電極5被絕緣體51包覆并與該高壓電源9串連，可以使該放電氣室4內(nèi)產(chǎn)生電場(chǎng)。[0031]使用時(shí)，將欲電漿化的氣體自該氣體入口 211輸入，接著流入該氣體流量均勻件 22使氣體流量均勻地自該氣體出口 212流出，然后進(jìn)入該狹縫3再進(jìn)入該放電氣室4，最后通過該放電氣室4內(nèi)的電場(chǎng)使氣體電漿化形成電漿經(jīng)由該電漿出口 41噴出。因?yàn)樵摢M縫 3的空間較該氣體入口 211處的空間小，所以當(dāng)氣體進(jìn)入該狹縫3后，將加快速度進(jìn)入該放電氣室4，可以產(chǎn)生加快電漿噴出速度的效果。[0032]如圖2所示，本實(shí)用新型第二較佳實(shí)施例的大氣電漿處理裝置200包含一處理臺(tái) 1，及設(shè)置于該處理臺(tái)1的兩氣體分流單元2、一分隔塊6、兩狹縫7、一放電氣室4、一對(duì)電極5和一高壓電源9。[0033]所述氣體分流單元2呈分開地設(shè)置于該處理臺(tái)1，本第二較佳實(shí)施例將該分隔塊6 設(shè)置于該處理臺(tái)1且位于所述氣體分流單元2之間，使所述氣體分流單元2分開。[0034]本第二較佳實(shí)施例的氣體分流單元2與第一較佳實(shí)施例的氣體分流單元2相同， 包括一緩沖氣室21及一位于該緩沖氣室21內(nèi)的氣體流量均勻件22。該緩沖氣體21具有一氣體入口 211及一氣體出口 212。該氣體流量均勻件22具有可以使氣體流入并均勻流出的使用效果，該氣體流量均勻件22可為如圖3所示的多孔分流塊22a，或如圖4所示的分歧氣管塊2%。[0035]該放電氣室4設(shè)置于該處理臺(tái)1并與所述氣體出口 212連接，該放電氣室4具有一電漿出口 41。[0036]所述電極5分別設(shè)置于該處理臺(tái)1并位于該放電氣室4兩側(cè)，所述電極5被絕緣體51包覆且與該高壓電源9串連，可以使該放電氣室4內(nèi)產(chǎn)生電場(chǎng)。[0037]所述狹縫7設(shè)置于該處理臺(tái)1且分別位于所述緩沖氣室21的氣體出口 212與該電氣室4之間。[0038]該分隔塊6具有兩個(gè)分別位于所述狹縫7內(nèi)的斜邊61，用以引導(dǎo)氣體進(jìn)入該放電氣室4。[0039]使用時(shí)，將欲電漿化的氣體自所述氣體入口 211輸入，接著流入所述氣體流量均勻件22使氣體流量均勻地自所述氣體出口 212流出，然后進(jìn)入所述狹縫7并通過所述斜邊 61將氣體引導(dǎo)進(jìn)入該放電氣室4，最后通過該放電氣室4內(nèi)的電場(chǎng)使氣體電漿化形成電漿并經(jīng)由該電漿出口 41噴出。因?yàn)樗霆M縫7的空間較該氣體入口 211處的空間小，再搭配該分隔塊6的兩斜邊61具有可以引導(dǎo)氣體的功能，借此可以使氣體加快速度進(jìn)入該放電氣室4，產(chǎn)生加快電漿噴出速度的效果。[0040]值得說明的是，所述氣體分流單元2除了可以安裝于本實(shí)施新型大氣電漿處理裝置，也可以安裝于靜電消除器。[0041]通過以上說明可知，本實(shí)用新型大氣電漿處理裝置具有下述有益效果[0042]一、本實(shí)用新型通過所述氣體分流單元2的氣體流量均勻件22，可以使欲電漿化的氣體均勻地流入該放電氣室4，最后使氣體電漿化形成電漿并經(jīng)由該電漿出口 41均勻噴出，可以使表面處理完全，可以提升作業(yè)質(zhì)量。[0043]二、本實(shí)用新型具有可以使噴出的電漿密度較均勻的使用特性，可以實(shí)施于大幅寬的大氣電漿裝置。[0044]三、本實(shí)用新型通過所述狹縫的設(shè)計(jì)，可以使氣體加快速度進(jìn)入該放電氣室4，可以加快電漿的噴出速度，可以提高作業(yè)效率。
權(quán)利要求1.一種大氣電漿處理裝置，包含一處理臺(tái)、至少一個(gè)氣體分流單元、一放電氣室、一對(duì)電極及一高壓電源，其特征在于所述氣體分流單元包括設(shè)置于該處理臺(tái)的一個(gè)緩沖氣室，及位于所述緩沖氣室內(nèi)的一個(gè)氣體流量均勻件，所述緩沖氣室具有一氣體入口及一氣體出口 ； 該放電氣室設(shè)置于該處理臺(tái)并與所述氣體出口連接；所述電極分別位于該放電氣室兩側(cè)，所述電極被絕緣體包覆并與該高壓電源串連。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的大氣電漿處理裝置，其特征在于該大氣電漿處理裝置還包含設(shè)置于該處理臺(tái)且位于所述緩沖氣室與該放電氣室之間的至少一個(gè)狹縫。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的大氣電漿處理裝置，其特征在于該大氣電漿處理裝置設(shè)有兩個(gè)氣體分流單元，及一設(shè)置于該處理臺(tái)且位于所述氣體分流單元之間的分隔塊，該分隔塊具有至少一個(gè)位于所述狹縫內(nèi)的斜邊。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的大氣電漿處理裝置，其特征在于 所述氣體流量均勻件為多孔分流塊，該多孔分流塊具有多個(gè)小孔。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的大氣電漿處理裝置，其特征在于所述氣體流量均勻件為分歧氣管塊，該分歧氣管塊內(nèi)具有多階分歧管，且位于一輸入口兩側(cè)的兩分歧管的長(zhǎng)度相同。
專利摘要一種大氣電漿處理裝置，包含一處理臺(tái)、至少一個(gè)氣體分流單元、一放電氣室、一對(duì)電極及一高壓電源。所述氣體分流單元包括設(shè)置于該處理臺(tái)的一個(gè)緩沖氣室，及位于所述緩沖氣室內(nèi)的一個(gè)氣體流量均勻件，所述緩沖氣室具有一氣體入口及一氣體出口，該放電氣室設(shè)置于該處理臺(tái)并與所述氣體出口連接，所述電極分別位于該放電氣室兩側(cè)且被絕緣體包覆，所述電極與該高壓電源串連以使該放電氣室內(nèi)產(chǎn)生電場(chǎng)。借此，當(dāng)氣體自所述氣體入口進(jìn)入并通過所述氣體流量均勻件，可以使氣體均勻地流入該放電氣室，最后使氣體電漿化形成電漿均勻噴出，進(jìn)而可以提升作業(yè)質(zhì)量。
文檔編號(hào)H01J37/32GK202275797SQ201120403599
公開日2012年6月13日 申請(qǐng)日期2011年10月21日 優(yōu)先權(quán)日2010年12月14日
發(fā)明者林博鏞, 陳宏易, 黃俊銘 申請(qǐng)人:韶陽科技股份有限公司