等離子顯示屏用前基板及包括其的等離子顯示屏的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明提供了一種等離子顯示屏用前基板及包括其的等離子顯示屏。該前基板包括玻璃基板(11)，設(shè)置在所述玻璃基板朝向后基板的側(cè)面上的介質(zhì)層(15)，以及設(shè)置在所述介質(zhì)層(15)朝向后基板的側(cè)面上的介質(zhì)保護(hù)膜(16)，其特征在于，還包括多個(gè)前基板電極(17)，所述前基板電極(17)呈長(zhǎng)條狀，設(shè)置在所述玻璃基板(11)和所述介質(zhì)層(15)之間，該前基板電極(17)由黑色導(dǎo)電材料制成。本發(fā)明提供的等離子顯示屏用前基板上的前基板電極(17)，在等離子顯示屏放電發(fā)光過程中作為掃描電極和保持電極的同時(shí)，部分或全部取代了黑BUS電極、黑條、黑色障壁頂提高黑色表現(xiàn)力、增加對(duì)比度的作用，從而簡(jiǎn)化了等離子顯示屏的生產(chǎn)工藝流程，降低了生產(chǎn)成本。
【專利說明】等離子顯示屏用前基板及包括其的等離子顯示屏
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及等離子顯示屏領(lǐng)域，尤其是涉及一種等離子顯示屏用前基板電極及包括其的等離子顯示屏。
【背景技術(shù)】
[0002]等離子顯示器(rop)是利用氣體放電現(xiàn)象產(chǎn)生視覺顯示的平板顯示器。PDP顯示器由前基板和后基板及其上的許多微細(xì)結(jié)構(gòu)組成。請(qǐng)參考圖1至圖2，前基板一般包括前玻璃基板11、透明ITO電極12、黑BUS電極13、白BUS電極14、黑條、前基板介質(zhì)層15以及介質(zhì)保護(hù)膜16 ;后基板一般包括后玻璃基板21、尋址電極22、后基板介質(zhì)層23、障壁24、熒光粉(涂覆在障壁格子表面)以及黑色障壁頂25。當(dāng)給PDP顯示器加上電壓，充斥在前、后基板之間的工作氣體會(huì)產(chǎn)生紫外光，從而激發(fā)紅、綠、藍(lán)三基色熒光粉發(fā)出可見光。
[0003]在PDP顯示器中，為了提高黑色表現(xiàn)力、增加對(duì)比度，需要用到黑色材料，如黑BUS電極、黑條、黑色障壁頂?shù)?，這些材料都只是為了提高對(duì)比度而存在，對(duì)放電發(fā)光沒有任何有益的幫助，不光浪費(fèi)材料、動(dòng)力、設(shè)備、人工費(fèi)用，還會(huì)降低PDP屏的性能，甚至黑BUS電極還會(huì)稍稍提高放電電壓。另外，這些結(jié)構(gòu)的制作工序繁多，還會(huì)降低PDP屏的良品率，在生產(chǎn)線上，會(huì)導(dǎo)致大量的不必要的損失。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明旨在提供一種等離子顯示屏用前基板及包括其的等離子顯示屏，前基板上設(shè)置有由黑色導(dǎo)電材料制成的前基板電極，該前基板電極在等離子顯示屏放電發(fā)光過程中作為掃描電極和保持電極的同時(shí)，部分或全部取代了黑BUS電極、黑條、黑色障壁頂提高黑色表現(xiàn)力、增加對(duì)比度的作用，從而簡(jiǎn)化了等離子顯示屏的生產(chǎn)工藝流程，降低了生產(chǎn)成本。
[0005]本發(fā)明提供了一種等離子顯示屏用前基板，包括玻璃基板，設(shè)置在玻璃基板朝向后基板的側(cè)面上的介質(zhì)層，以及設(shè)置在介質(zhì)層朝向后基板的側(cè)面上的介質(zhì)保護(hù)膜，上述前基板還包括多個(gè)前基板電極，前基板電極呈長(zhǎng)條狀，設(shè)置在玻璃基板和介質(zhì)層之間，前基板電極由黑色導(dǎo)電材料制成。
[0006]進(jìn)一步地，前基板電極的第一側(cè)與玻璃基板接觸，與第一側(cè)相反的第二側(cè)全部由
介質(zhì)層覆蓋。
[0007]進(jìn)一步地，前基板還包括白BUS電極，白BUS電極呈長(zhǎng)條狀，設(shè)置在前基板電極與介質(zhì)層之間。
[0008]進(jìn)一步地，白BUS電極沿前基板電極的延伸方向延伸，且白BUS電極的寬度小于前基板電極的寬度，前基板電極的第一側(cè)與玻璃基板接觸，與第一側(cè)相反的第二側(cè)部分由介
質(zhì)層覆蓋。
[0009]進(jìn)一步地，白BUS電極和前基板電極沿寬度方向的一個(gè)側(cè)邊相對(duì)齊。
[0010]進(jìn)一步地，多個(gè)前基板電極中每?jī)蓚€(gè)構(gòu)成一組，每組中的兩個(gè)前基板電極的沿寬度方向的外側(cè)邊與相應(yīng)的白BUS電極相對(duì)齊。
[0011]進(jìn)一步地,上述黑色導(dǎo)電材料選用CuO或石墨。
[0012]進(jìn)一步地，上述前基板電極的厚度為0.01 μ m?5 μ m。
[0013]進(jìn)一步地，前基板電極的可見光透過率大于95%。
[0014]進(jìn)一步地，前基板電極采用電子束蒸發(fā)法或磁控濺射法制作。
[0015]根據(jù)本發(fā)明的另一方面，提供了一種等離子顯示屏，包括上述前基板和與前基板相對(duì)設(shè)置的后基板，該后基板上的障壁的頂部不設(shè)置黑色障壁頂，而是與前基板上的介質(zhì)保護(hù)膜相接觸。
[0016]本發(fā)明提供的由黑色導(dǎo)電材料制成的等離子顯示屏用前基板，其上的前基板電極，在等離子顯示屏放電發(fā)光過程中作為掃描電極和保持電極的同時(shí)，部分或全部取代了黑BUS電極、黑條、黑色障壁頂提高黑色表現(xiàn)力、增加對(duì)比度的作用，從而簡(jiǎn)化了等離子顯示屏的生產(chǎn)工藝流程，降低了生產(chǎn)成本。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0017]說明書附圖用來提供對(duì)本發(fā)明的進(jìn)一步理解，構(gòu)成本發(fā)明的一部分，本發(fā)明的示意性實(shí)施例及其說明用于解釋本發(fā)明，并不構(gòu)成對(duì)本發(fā)明的不當(dāng)限定。在附圖中:
[0018]圖1示出了現(xiàn)有技術(shù)中等離子顯示屏前基板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0019]圖2示出了現(xiàn)有技術(shù)中等離子顯示屏后基板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0020]圖3示出了根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的等離子顯示屏前基板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0021]圖4示出了根據(jù)本發(fā)明第二實(shí)施例的等離子顯示屏前基板的結(jié)構(gòu)示意圖；以及
[0022]圖5示出了根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的等離子顯示屏后基板的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0023]下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對(duì)本發(fā)明的實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行詳細(xì)的說明，但如下實(shí)施例以及附圖僅是用以理解本發(fā)明，而不能限制本發(fā)明，本發(fā)明可以由權(quán)利要求限定和覆蓋的多種不同方式實(shí)施。
[0024]在本發(fā)明的一種典型實(shí)施方式中，如圖3所示，提供了一種等離子顯示屏用前基板，包括玻璃基板11，設(shè)置在玻璃基板朝向后基板的側(cè)面上的介質(zhì)層15，以及設(shè)置在介質(zhì)層15朝向后基板的側(cè)面上的介質(zhì)保護(hù)膜16，上述前基板還包括多個(gè)前基板電極17，前基板電極17呈長(zhǎng)條狀，設(shè)置在玻璃基板11和介質(zhì)層15之間，前基板電極17由黑色導(dǎo)電材料制成。該使用黑色導(dǎo)電材料制成的前基板電極17，部分或全部取代了黑BUS電極、黑條、黑色障壁頂提高黑色表現(xiàn)力、增加對(duì)比度的作用，從而簡(jiǎn)化了等離子顯示屏的生產(chǎn)工藝流程，降低了生產(chǎn)成本
[0025]前基板電極17的第一側(cè)與玻璃基板11接觸，與第一側(cè)相反的第二側(cè)全部由介質(zhì)
層15覆蓋。
[0026]前基板還包括白BUS電極14，白BUS電極14呈長(zhǎng)條狀，設(shè)置在前基板電極17與介質(zhì)層15之間。白BUS電極14沿前基板電極17的延伸方向延伸，且白BUS電極14的寬度小于前基板電極17的寬度，前基板電極17的第一側(cè)與玻璃基板11接觸，與第一側(cè)相反的第二側(cè)部分由介質(zhì)層15覆蓋。白BUS電極14和前基板電極17沿寬度方向的一個(gè)側(cè)邊相對(duì)齊。多個(gè)前基板電極17中每?jī)蓚€(gè)構(gòu)成一組，每組中的兩個(gè)前基板電極17的沿寬度方向的外側(cè)邊與相應(yīng)的白BUS電極14相對(duì)齊。
[0027]在本發(fā)明的另一種實(shí)施方式中，如圖4所示，等離子顯示屏前基板進(jìn)一步省去了白BUS電極的制作。前基板的其余部分結(jié)構(gòu)與圖3中的前基板相同，不再贅述。
[0028]在本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例中，黑色導(dǎo)電材料選用CuO或石墨。
[0029]前基板電極的厚度為0.Ο?μπι~5μπι。優(yōu)選前基板電極厚度在此范圍內(nèi)，是因?yàn)槿绻穸刃∮?.01 μ m,則黑色效果不理想；如果厚度大于5 μ m,則可能會(huì)造成薄膜附著效果不好。
[0030]前基板電極的可見光透過率大于95%。
[0031 ] 在本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例中，前基板電極采用電子束蒸發(fā)法或磁控濺射法制作。
[0032]根據(jù)本發(fā)明的另一方面，提供了一種等離子顯示屏，包括上述前基板和與前基板相對(duì)設(shè)置的后基板，如圖5所示，該后基板上的障壁的頂部不設(shè)置黑色障壁頂，而是與前基板上的介質(zhì)保護(hù)膜相接觸。
[0033]以下將結(jié)合實(shí)施例1-4以及對(duì)比例I進(jìn)一步說明本發(fā)明等離子顯示器的障壁制作方法的有益效果。
[0034]實(shí)施例1
[0035]在前玻璃基板11上使用電子束蒸發(fā)法制作CuO黑色電極17，厚度為5 μ m,通過印刷、干燥、曝光、顯影、燒結(jié)制作白BUS電極14，在其上制作介質(zhì)層15以及介質(zhì)保護(hù)膜16，得到iu基板部；`
[0036]在后玻璃基板21上通過印刷、干燥、曝光、顯影、燒結(jié)制作尋址電極22，在其上制作介質(zhì)層23，通過涂覆、干燥、PR膠涂覆、干燥、曝光、顯影、刻蝕、剝膜、燒結(jié)制作障壁24，在障壁格子表面制作熒光粉層，得到后基板部；
[0037]在前基板部和后基板部周圍制作出封接框，經(jīng)過對(duì)合、封排、老煉，最后得到等離子顯示屏。
[0038]實(shí)施例2
[0039]在前玻璃基板11上使用磁控濺射法制作石墨黑色電極17，厚度為0.01 μ m，通過印刷、干燥、曝光、顯影、燒結(jié)制作白BUS電極14，在其上制作介質(zhì)層15以及介質(zhì)保護(hù)膜16，得到前基板部；
[0040]在后玻璃基板21上通過印刷、干燥、曝光、顯影、燒結(jié)制作尋址電極22，在其上制作介質(zhì)層23，通過涂覆、干燥、PR膠涂覆、干燥、曝光、顯影、刻蝕、剝膜、燒結(jié)制作障壁24，在障壁格子表面制作熒光粉層，得到后基板部；
[0041]在前基板部和后基板部周圍制作出封接框，經(jīng)過對(duì)合、封排、老煉，最后得到等離子顯示屏。
[0042]實(shí)施例3
[0043]在前玻璃基板11上使用磁控濺射法制作CuO黑色電極17，厚度為I μ m,在其上制作介質(zhì)層15以及介質(zhì)保護(hù)膜16，得到前基板部；
[0044]在后玻璃基板21上通過印刷、干燥、曝光、顯影、燒結(jié)制作尋址電極22，在其上制作介質(zhì)層23，通過涂覆、干燥、PR膠涂覆、干燥、曝光、顯影、刻蝕、剝膜、燒結(jié)制作障壁24，在障壁格子表面制作熒光粉層，得到后基板部；[0045]在前基板部和后基板部周圍制作出封接框，經(jīng)過對(duì)合、封排、老煉，最后得到等離子顯示屏。
[0046]實(shí)施例4
[0047]在前玻璃基板11上使用電子束蒸發(fā)法制作石墨黑色電極17，厚度為0.1 μ m，在其上制作介質(zhì)層15以及介質(zhì)保護(hù)膜16，得到前基板部；
[0048]在后玻璃基板21上通過印刷、干燥、曝光、顯影、燒結(jié)制作尋址電極22，在其上制作介質(zhì)層23，通過涂覆、干燥、PR膠涂覆、干燥、曝光、顯影、刻蝕、剝膜、燒結(jié)制作障壁24，在障壁格子表面制作熒光粉層，得到后基板部；
[0049]在前基板部和后基板部周圍制作出封接框，經(jīng)過對(duì)合、封排、老煉，最后得到等離子顯示屏。
[0050]對(duì)比例I
[0051]在前玻璃基板11上通過印刷、干燥、曝光、顯影、燒結(jié)分別制作ITO電極12、黑BUS電極13和白BUS電極14，在其上制作介質(zhì)層15以及介質(zhì)保護(hù)膜16，得到前基板部；
[0052]在后玻璃基板21上通過印刷、干燥、曝光、顯影、燒結(jié)制作尋址電極22，在其上制作介質(zhì)層23，通過涂覆、干燥、PR膠涂覆、干燥、曝光、顯影、刻蝕、剝膜、燒結(jié)制作障壁24，在障壁格子表面制作熒光粉層，得到后基板部；
[0053]在前基板部和后基板部周圍制作出封接框，經(jīng)過對(duì)合、封排、老煉，最后得到等離子顯示屏。
[0054]比較實(shí)施例1-4以及對(duì)比例I可知，實(shí)施例1-4由于采用了本發(fā)明提供的由黑色導(dǎo)電材料制成的前基板電極，可以節(jié)省許多工序，節(jié)省設(shè)備、人工、動(dòng)能費(fèi)用，相應(yīng)地也就減少了次品屏廣生的幾率，提聞了良品率。
[0055]以上僅為本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例而已，并不用于限制本發(fā)明，對(duì)于本領(lǐng)域的技術(shù)人員來說，本發(fā)明可以有各種更改和變化。凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種等離子顯示屏用前基板，包括玻璃基板(11)，設(shè)置在所述玻璃基板(11)朝向后基板的側(cè)面上的介質(zhì)層(15)，以及設(shè)置在所述介質(zhì)層(15)朝向后基板的側(cè)面上的介質(zhì)保護(hù)膜(16)，其特征在于，還包括多個(gè)前基板電極(17)，所述前基板電極(17)呈長(zhǎng)條狀，設(shè)置在所述玻璃基板(11)和所述介質(zhì)層(15)之間，所述前基板電極(17)由黑色導(dǎo)電材料制成。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的前基板，其特征在于，所述前基板電極(17)的第一側(cè)與所述玻璃基板(11)接觸，與所述第一側(cè)相反的第二側(cè)全部由所述介質(zhì)層(15)覆蓋。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的前基板，其特征在于，還包括白BUS電極(14)，所述白BUS電極(14)呈長(zhǎng)條狀，設(shè)置在所述前基板電極(17)與所述介質(zhì)層(15)之間。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的前基板，其特征在于，所述白BUS電極(14)沿所述前基板電極(17)的延伸方向延伸，且所述白BUS電極(14)的寬度小于所述前基板電極(17)的寬度，所述前基板電極(17)的第一側(cè)與所述玻璃基板(11)接觸，與所述第一側(cè)相反的第二側(cè)部分由所述介質(zhì)層(15)覆蓋。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的前基板，其特征在于，所述白BUS電極(14)和所述前基板電極(17)沿寬度方向的一個(gè)側(cè)邊相對(duì)齊。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的前基板，其特征在于，所述多個(gè)前基板電極(17)中每?jī)蓚€(gè)構(gòu)成一組，每組中的兩個(gè)所述前基板電極(17)的沿寬度方向的外側(cè)邊與相應(yīng)的所述白BUS電極(14)相對(duì)齊。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的前基板，其特征在于，所述黑色導(dǎo)電材料為CuO或石墨。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的前基板，其特征在于，所述前基板電極的厚度為0.01 μ m?5 μ m0
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的前基板，其特征在于，所述前基板電極的可見光透過率大于95%。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的前基板，其特征在于，所述前基板電極采用電子束蒸發(fā)法或磁控濺射法制作。
11.一種等離子顯示屏，包括前基板和與所述前基板相對(duì)設(shè)置的后基板，其特征在于，所述前基板為權(quán)利要求1至10中任一項(xiàng)所述的前基板。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的等離子顯示屏，其特征在于，所述后基板上的障壁的頂部不設(shè)置黑色障壁頂，而是與所述前基板上的介質(zhì)保護(hù)膜(16)相接觸。
【文檔編號(hào)】H01J11/22GK103794440SQ201110459741
【公開日】2014年5月14日 申請(qǐng)日期:2011年12月31日 優(yōu)先權(quán)日:2011年12月31日
【發(fā)明者】商紅凱, 李海燕, 劉斌 申請(qǐng)人:四川虹歐顯示器件有限公司