專(zhuān)利名稱(chēng)：一種離子源的絕緣裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種離子源絕緣裝置，特別適合于半導(dǎo)體工藝設(shè)備中的離子注入機(jī)。
背景技術(shù)：
離子注入機(jī)是半導(dǎo)體工藝中離子摻雜的典型設(shè)備，離子源產(chǎn)生需要摻雜的離子束，離子束再經(jīng)過(guò)質(zhì)量分析、校正、加速，傳輸?shù)教幱诎惺医K端工藝腔體的硅片表面。隨著半導(dǎo)體器件集成度越來(lái)越高，半導(dǎo)體工藝設(shè)備越來(lái)越復(fù)雜，對(duì)離子源的的束流要求也越來(lái)越高。對(duì)于注入工藝，低能量大速流的離子注入機(jī)是發(fā)展的方向。適用于該類(lèi)離子注入機(jī)的離子源需要產(chǎn)生寬帶束或扁狀帶束。本發(fā)明正是基于應(yīng)用該類(lèi)離子源而設(shè)計(jì)。

發(fā)明內(nèi)容
針對(duì)現(xiàn)有半導(dǎo)體工藝中離子注入機(jī)設(shè)備發(fā)展的要求，本發(fā)明設(shè)計(jì)一種用于離子注入機(jī)離子源的絕緣裝置。該裝置涉及到一種引出絕緣環(huán)，用于離子源與地電位的隔離。引出絕緣環(huán)從設(shè)計(jì)角度保護(hù)離子源高電位，實(shí)現(xiàn)電隔離。該裝置亦涉及到引出絕緣環(huán)兩端的法蘭聯(lián)接方式，該聯(lián)接方式是采用一種絕緣材料制造的聯(lián)接桿，并將聯(lián)接桿陣列分布在引出絕緣環(huán)周?chē)Ｔ撗b置亦設(shè)計(jì)到一種屏蔽筒設(shè)計(jì)，其可以防止金屬顆粒進(jìn)入并附著在引出絕緣環(huán)內(nèi)表面。本發(fā)明有以下幾個(gè)顯著特點(diǎn)I.絕緣效果明顯；2.結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，便于加工制造；


圖I是一種用于離子源絕緣裝置組件的正視圖和剖視圖。圖2是引出絕緣環(huán)的正視圖和剖視圖。
具體實(shí)施例方式下面結(jié)合附圖和具體實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步介紹，但不作為對(duì)本發(fā)明專(zhuān)利的限定。本發(fā)明公開(kāi)了一種用于離子注入機(jī)的離子源絕緣裝置，如圖I所示，和離子注入機(jī)用離子源一起使用。該離子源可以產(chǎn)生寬帶束或扁狀帶束。該裝置為使其正常工作隔離高壓電位和地電位。該裝置主要包括離子源(I)、法蘭聯(lián)接桿(2)、源安裝法蘭(3)、引出絕緣環(huán)(4)、源法蘭(5)、屏蔽筒(6)和真空室(7)等。如圖I所示，引出絕緣環(huán)(4)安裝于源安裝法蘭(3)和源法蘭(5)之間，可以很好的保護(hù)高壓電位和地電位。如圖2中所示，引出絕緣環(huán)(4)采用絕緣材料加工，內(nèi)表面形成規(guī)則起伏的形狀，用于增加表面面積，避免積塵，產(chǎn)生爬電。源安裝法蘭(3)和源法蘭(5)間利用法蘭聯(lián)接桿(2)聯(lián)接，法蘭聯(lián)接桿(2)采用抗拉強(qiáng)度較強(qiáng)的絕緣材料，并均勻分布在引出絕緣環(huán)(4)的周?chē)?。源安裝法蘭(5)用于安裝離子源(I)，其近引出絕緣環(huán)端面呈圓弧狀，以避免其在絕緣環(huán)內(nèi)產(chǎn)生放電現(xiàn)象。源法蘭(5)用于引出絕緣環(huán)(4)聯(lián)接真空室(7)。屏蔽筒(6)安裝與引出絕緣環(huán)(4)的內(nèi)側(cè)，固定于源法蘭之上；其呈橢圓形狀，并在非安裝端加工成圓弧狀，以避免其在絕緣環(huán)內(nèi)產(chǎn)生放電現(xiàn)象。本發(fā)明的特定實(shí)施例已對(duì)本發(fā)明的內(nèi)容做了詳盡說(shuō)明。對(duì)本領(lǐng)域一般技術(shù)人員而言，在不背離本發(fā)明精神的前提下對(duì)它所做的任何顯而易見(jiàn)的改動(dòng)，都構(gòu)成對(duì)本發(fā)明專(zhuān)利的侵犯，將承擔(dān)相應(yīng)的法律責(zé)任?！?br> 權(quán)利要求
1.一種用于離子注入機(jī)的離子源絕緣裝置，和離子注入機(jī)用離子源一起使用。該離子源可以產(chǎn)生寬帶束或扁狀帶束。該裝置為使其正常工作隔離高壓電位和地電位。該裝置主要包括離子源(I)、法蘭聯(lián)接桿(2)、源安裝法蘭(3)、引出絕緣環(huán)(4)、源法蘭(5)、屏蔽筒(6)和真空室(7)等。
2.如權(quán)力要求I所述的一種用于離子注入機(jī)的離子源絕緣裝置，該裝置特征在于，采用特別的引出絕緣環(huán)(4)安裝于源安裝法蘭(3)和源法蘭(5)之間，可以很好的保護(hù)高壓電位和地電位。
3.如權(quán)力要求I所述的一種用于離子注入機(jī)的離子源絕緣裝置，該裝置特征在于，源安裝法蘭(3)和源法蘭(5)間利用法蘭聯(lián)接桿(2)聯(lián)接。
4.如權(quán)力要求2所述的一種用于離子注入機(jī)的離子源絕緣裝置，其特征在于引出絕緣環(huán)(4)采用絕緣材料加工，內(nèi)表面形成規(guī)則起伏的形狀，用于增加表面面積。
5.如權(quán)力要求3所述的一種用于離子注入機(jī)的離子源絕緣裝置，其特征在于法蘭聯(lián)接桿(2)采用絕緣材料制造。
全文摘要
本發(fā)明公開(kāi)了一種用于離子注入機(jī)的離子源絕緣裝置。一種離子注入機(jī)用離子源，可以產(chǎn)生寬帶束或扁狀帶束，為使其正常工作發(fā)明一種絕緣裝置，以隔離高壓電位和地電位。主要包括離子源1、法蘭聯(lián)接桿2、源安裝法蘭3、引出絕緣環(huán)4、源法蘭5、屏蔽筒6和真空室7等。該裝置特征在于，采用特別的引出絕緣環(huán)4安裝于源安裝法蘭3和源法蘭5之間，且源安裝法蘭3和源法蘭5間采用法蘭聯(lián)接桿2聯(lián)接，可以很好的保護(hù)高壓電位和地電位。說(shuō)明書(shū)對(duì)裝置工作原理進(jìn)行了詳細(xì)的說(shuō)明，并給出了具體的實(shí)施方案。
文檔編號(hào)H01J37/08GK102867719SQ20111018646
公開(kāi)日2013年1月9日 申請(qǐng)日期2011年7月5日 優(yōu)先權(quán)日2011年7月5日
發(fā)明者胡寶富, 唐景庭, 伍三忠 申請(qǐng)人:北京中科信電子裝備有限公司