專利名稱：一種模擬火焰成像裝置的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種模擬火焰成像裝置，其可以應用于電壁爐、電暖器、暖風機、電磁 爐及其它需要火焰效果的產(chǎn)品上。
背景技術：
目前現(xiàn)有技術，中國專利ZL200820112667.0，發(fā)明創(chuàng)造名稱一種電壁爐的火焰 模擬裝置，它包括光源、反射板、成像屏、帶透光孔的遮光體、機殼空腔前方位置的仿真燃料 床，帶透光孔的遮光體置于反射板和成像屏之間，所述遮光體呈筒形；遮光體安裝在一同步 轉動裝置上，同步轉動裝置安裝在機殼內的支架上，反射板上有火焰形狀的反射區(qū)；遮光體 與反射板成一銳角，或遮光體的軸線與水平面平行時遮光體與反射板配合，或遮光體的軸 線與水平面垂直與反射板配合；遮光體位于反射板的前下方、成像屏位于反射板前上方； 光源安裝在遮光體內，或光源安裝在遮光體外、并位于遮光體的前下方。存在問題是此技 術應用在四周都有火焰效果的產(chǎn)品上，火焰亮度小，火焰效果不逼真。而且產(chǎn)品尺寸大成本 尚ο
發(fā)明內容本發(fā)明的目的是提供一種模擬火焰成像裝置，它不僅可以應用在一面有火焰效 果的電器上，而且可以應用在四周都有火焰效果的全景式電器上。在全景式電器上應用時 映射在成像屏的火焰圖案亮度大、火焰效果逼真、立體效果好而且產(chǎn)品尺寸小，成本更低。本發(fā)明是這樣實現(xiàn)的一種模擬火焰成像裝置，包括外殼、光源、反射板、成像屏、 帶透光孔的遮光體和驅動裝置，反射板和成像屏相對平行或不平行設置，反射板上有火焰 形狀的反射區(qū)，其特殊之處在于所述反射板位于遮光體內部上方，成像屏位于遮光體徑向 外側的上方；所述遮光體分為上遮光體和下遮光體；所述上、下遮光體在平行于水平面的平面上下設置，上、下遮光體之間有間隙，上、 下遮光體相對運動；反射板固定在上遮光體的上方，或反射板樞接在上遮光體的上方，或反 射板固定在上遮光體上；所述光源位于下遮光體的下方，或光源位于下遮光體在水平面投影的外側的下方。所述的一種模擬火焰成像裝置，其特殊之處在于所述上、下遮光體由底座和一圓 環(huán)體構成，圓環(huán)體呈倒圓錐臺形，圓環(huán)體小圓開口處與底座固定連接；透光孔分布于圓環(huán)體 上。所述的一種模擬火焰成像裝置，其特殊之處在于所述上、下遮光體由底座和一圓 環(huán)體構成，圓環(huán)體為弧形旋轉體，圓環(huán)體小圓開口處與底座固定連接；透光孔分布于圓環(huán)體 上。所述的一種模擬火焰成像裝置，其特殊之處在于所述上、下遮光體由底座和一圓環(huán)體構成，圓環(huán)體呈平面形，圓環(huán)體小圓開口處與底座固定連接；透光孔分布于圓環(huán)體上。所述的一種模擬火焰成像裝置，其特殊之處在于所述上、下遮光體呈球冠形，透 光孔分布于遮光體上。所述的一種模擬火焰成像裝置，其特殊之處在于所述反射板及成像屏多邊形筒 形，或呈圓筒形，或圓錐形；反射板位于成像屏圍成的空間內；所述上、下遮光體上的透光孔與成像屏和反射 板之間的空間相對應。所述的一種模擬火焰成像裝置，其特殊之處在于所述反射板呈平面狀，反射板的 兩表面均有反射區(qū)；所述成像屏有二個，分別與反射板的兩表面相對設置。所述的一種模擬火焰成像裝置，其特殊之處在于所述反射板呈多邊形筒形、或呈 圓筒形，或圓錐形；所述成像屏有二個，二個成像屏左右或前后對稱設置，二個成像屏分別 與反射板相對設置。所述的一種模擬火焰成像裝置，其特殊之處在于所述光源位于下遮光體的下方， 反射板與成像屏相對的面與下遮光體徑向外側的水平面有銳角。本發(fā)明一種模擬火焰成像裝置，由于采用這樣的結構，上、下遮光體上下設置并有 間隙，光源設置在下遮光體的側下方或下方，反射板設置在上遮光體的內部上方，成像屏設 置在遮光體的徑向外側。光線從光源照射到反射板然后反射到成像屏上的距離遠遠小于現(xiàn) 有技術的距離，光線透過上、下遮光體的相交的透光孔，離光源近的相交的透光孔透過強光 線，離光源較遠的相交孔透過較弱的光線，就形成了中心部位很亮中心兩側的部位較暗的 火焰，呈現(xiàn)火焰的立體效果。而且由于采用這樣的結構，大大縮小了產(chǎn)品尺寸，成本更加低 廉
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圖1是本發(fā)明的立體剖視圖。圖2是本發(fā)明驅動裝置的立體分解圖。圖3是本發(fā)明遮光體的實施方式之二。圖4是本發(fā)明遮光體的實施方式之三。圖5是本發(fā)明遮光體的實施方式之四。
具體實施方式
以下結合附圖對本發(fā)明作進一步描述。如圖1所示，一種一種模擬火焰成像裝置包括外殼、光源2、反射板3、成像屏4、帶 透光孔的遮光體和驅動裝置6，反射板3和成像屏4平行相對設置，反射板3上有火焰形狀 的反射區(qū)，所述遮光體分為上遮光體51和下遮光體52 ；外殼由底座11和上蓋12構成，所述上、下遮光體51、52在平行于水平面的平面上下設置，上、下遮光體51、52之 間有間隙，上、下遮光體51、52 —個逆時針轉動、一個順時針轉動；所述光源2位于下遮光體52的下方，或光源2位于下遮光體52徑向外側的下方；反射板3位于遮光體內部上方，成像屏4位于遮光體徑向外側的上方。所述光源2有四個，反射板3有四個，成像屏4有四個；
4[0029]成像屏4呈方形排列，反射板3呈方形排列，反射板3位于成像屏4圍成的空間內； 遮光體上的透光孔與成像屏和反射板之間的空間相對應。作為遮光體的實施方式一如圖1所示，所述上、下遮光體51、52由底座7和一圓 環(huán)體8構成，圓環(huán)體呈倒圓錐臺形，圓環(huán)體8小圓開口處與底座7固定連接；透光孔位于圓 環(huán)體8上，透光孔沿母線均勻排列或透光孔左旋或右旋排列。光源2位于下遮光體52在水 平面投影的外側的下方。如圖2所示，所述驅動裝置6包括電機、主動齒輪91、位于上遮光體51上的外齒輪 92和位于下遮光體52上的內齒輪93，主動齒輪91與外齒輪92和內齒輪93嚙合。作為遮光體的實施方式之二 如圖3所示，所述上、下遮光體由底座7和一圓環(huán)體8構成，圓環(huán)體8為弧形旋轉體，圓環(huán)體小 圓開口處與底座固定連接；透光孔位于圓環(huán)體上，透光孔沿母線均勻排列或透光孔左旋或 右旋排列。作為遮光體的實施方式之三如圖4所示，所述上、下遮光體51、52由底座7和一 圓環(huán)體8構成，圓環(huán)體8呈平面形，圓環(huán)體小圓開口處與底座7固定連接；透光孔位于圓環(huán) 體8上，透光孔沿母線均勻排列或透光孔左旋或右旋排列。光源2位于下遮光體51的下方。作為遮光體的實施方式之四如圖5所示，所述上、下遮光體51、52呈球冠形，透光 孔遮光體上呈圓形排列。實施例2所述反射板3呈平面狀，反射板3的兩表面均有反射區(qū)；所述成像屏4有二個，分 別與反射板3的兩表面相對設置。實施例3所述反射板3多邊形筒形、或呈圓筒形，或圓錐形；所述成像屏4有二個，二個成像 屏4左右或前后對稱設置，二個成像屏4分別與反射板3相對設置。實施例4 所述光源2位于下遮光體52的下方，反射板3與成像屏4相對的面與下遮光體52 徑向外側的水平面有銳角。 以上所述的僅是本發(fā)明的優(yōu)先實施方式。應當指出的是，對于本領域的普通技術 人員來說，在不脫離本發(fā)明原理的情況下，還可以作出若干改進和變型，這也視為本發(fā)明的 保護范圍。
權利要求一種模擬火焰成像裝置，包括外殼、光源、反射板、成像屏、帶透光孔的遮光體和驅動裝置，反射板和成像屏相對平行或不平行設置，反射板上有火焰形狀的反射區(qū)，其特征在于所述反射板位于遮光體內部上方，成像屏位于遮光體徑向外側的上方；所述遮光體分為上遮光體和下遮光體；所述上、下遮光體在平行于水平面的平面上下設置，上、下遮光體之間有間隙，上、下遮光體相對運動；反射板固定在上遮光體的上方，或反射板樞接在上遮光體的上方，或反射板固定在上遮光體上；所述光源位于下遮光體的下方，或光源位于下遮光體在水平面投影的外側的下方。
2.根據(jù)權利要求1所述的一種模擬火焰成像裝置，其特征在于所述上、下遮光體由底 座和一圓環(huán)體構成，圓環(huán)體呈倒圓錐臺形，圓環(huán)體小圓開口處與底座固定連接；透光孔分布 于圓環(huán)體上。
3.根據(jù)權利要求1所述的一種模擬火焰成像裝置，其特征在于所述上、下遮光體由底 座和一圓環(huán)體構成，圓環(huán)體為弧形旋轉體，圓環(huán)體小圓開口處與底座固定連接；透光孔分布 于圓環(huán)體上。
4.根據(jù)權利要求1所述的一種模擬火焰成像裝置，其特征在于所述上、下遮光體由底 座和一圓環(huán)體構成，圓環(huán)體呈平面形，圓環(huán)體小圓開口處與底座固定連接；透光孔分布于圓 環(huán)體上。
5.根據(jù)權利要求1所述的一種模擬火焰成像裝置，其特征在于所述上、下遮光體呈球 冠形，透光孔分布于遮光體上。
6.根據(jù)權利要求1、2、3、4或5所述的一種模擬火焰成像裝置，其特征在于所述反射 板及成像屏多邊形筒形，或呈圓筒形，或圓錐形；反射板位于成像屏圍成的空間內；所述上、下遮光體上的透光孔與成像屏和反射板之 間的空間相對應。
7.根據(jù)權利要求1、2、3、4或5所述的一種模擬火焰成像裝置，其特征在于所述反射 板呈平面狀，反射板的兩表面均有反射區(qū)；所述成像屏有二個，分別與反射板的兩表面相對設置。
8.根據(jù)權利要求1、2、3、4或5所述的一種模擬火焰成像裝置，其特征在于所述反射 板呈多邊形筒形、或呈圓筒形，或圓錐形；所述成像屏有二個，二個成像屏左右或前后對稱設置，二個成像屏分別與反射板相對設置。
9.根據(jù)權利要求1、2、3、4或5所述的一種模擬火焰成像裝置，其特征在于所述光源 位于下遮光體的下方，反射板與成像屏相對的面與下遮光體徑向外側的水平面有銳角。
專利摘要一種模擬火焰成像裝置，包括外殼、光源、反射板、成像屏、帶透光孔的遮光體和驅動裝置，所述上、下遮光體在平行于水平面的平面上下設置，上、下遮光體之間有間隙，上、下遮光體相對運動。所述光源位于下遮光體的下方，或光源位于下遮光體在水平面投影的外側的下方；反射板位于遮光體內部上方，成像屏位于遮光體徑向外側的上方。由于采用這樣的結構，光源的光線透過上、下遮光體的相交的透光孔，離光源近的相交的透光孔透過強光線，離光源較遠的相交孔透過較弱的光線，就形成了中心部位較強的火焰，中心兩側的部位形成較弱的火焰，呈現(xiàn)火焰的立體效果。
文檔編號F21S10/04GK201715440SQ201020190258
公開日2011年1月19日 申請日期2010年4月30日 優(yōu)先權日2010年4月6日
發(fā)明者陳力 申請人:陳力