專利名稱：導光單元及光源模組的制作方法
導光單元及光源模組
技術領域：
本發(fā)明是有關于一種光學單元及使用此種光學單元的光源模組，且特別是有關于一種導光單元及使用此種導光單元的光源模組。
背景技術：
一般而言，為了要將高動態(tài)范圍(high dynamic range,HDR)顯示技術應用于顯示器上，如液晶顯示器(liquid crystal display，LCD)，背光模組(backlight module)通常可分成多個背光區(qū)域(亦即M*N區(qū)的背光結構)以進行分區(qū)控制(local dimming)，其中在背光模組中的每一背光區(qū)域皆可設置有一導光板，用以進行光束的導引。然而，目前大多數采用分區(qū)控制的背光模組中，其導光系統(tǒng)主要是透過將每一背光區(qū)域的導光板進行局部堆疊，從而組合成完整尺寸的背光模組。其中由于相鄰的背光區(qū)域之間的導光板互相堆疊，因此堆疊處容易發(fā)生摩擦的問題，并且可能因為震動而發(fā)生錯位造成可靠性不佳。此外，若為解決上述的問題，在機構設計上的難度亦會相對的被提高。除上述問題外，相鄰的背光區(qū)域之間的導光板互相堆疊的接合處也容易產生反射的情況，從而造成光線會直接地由導光板出射而形成多條亮線，如此會造成背光模組的光均勻度下降。中國臺灣新型專利第M281195號揭露一種導光板，導光板具有混光區(qū)與出光區(qū)， 出光區(qū)鄰接混光區(qū)并形成階梯狀，且相鄰導光板的混光區(qū)重疊于出光區(qū)的下方。另外，中國臺灣發(fā)明專利第1294531號揭露一種光導體，光導體具有射入區(qū)，且相鄰的光導體邊緣可通過粘合或澆注的方式進行連接。此外，美國專利公告號第7311431號揭露一種導光板，導光板具有第一端及第二端，導光板的第二端設置于相鄰導光板的第一端。另外，美國專利公開號第2009290097號揭露一種導光板，導光板具有本體及入光區(qū)，本體重疊于相鄰導光板的入光區(qū)上。此外，在美國專利公開號第2005168967號中揭露一種光源裝置，于光源裝置內第一導光板的入光側設有光源，且第一導光板的末端與第二導光板的入光側相接，第二光源設置于第二導光板的入光側并位于第一導光板下方。

發(fā)明內容本發(fā)明提供一種導光單元，此導光單元的厚度較薄且可有效地導引光源。本發(fā)明另提供一種光源模組，采用上述的導光單元而可呈現(xiàn)較佳的光均勻度及出光效益。本發(fā)明的其他目的和優(yōu)點可以從本發(fā)明所揭露的技術特征中得到進一步的了解。為達上述之一或部份或全部目的或是其他目的，本發(fā)明的一實施例提出一種導光
單元，包括一第一彎曲部、一平板部及一第二彎曲部。第一彎曲部具有一入光面、一第一光學面與一第二光學面，其中入光面連接第一光學面與第二光學面。平板部具有一第一表面與一相對第一表面的第二表面。第一光學面與第一表面連接，且第一光學面相對于第一表面的斜率絕對值在往靠近入光面的方向上逐漸增大。第二表面與第二光學面連接，且第二光學面相對于第二表面的斜率絕對值往靠近入光面的方向上逐漸增大。第二彎曲部具有一第三表面及一第三光學面，且平板部連接第一彎曲部與第二彎曲部。第一表面連接第一光學面與第三表面，且第二表面連接第二光學面與第三光學面。第三光學面相對第二表面的斜率絕對值在遠離第一表面的方向上逐漸增大。在本發(fā)明的一實施例中，導光單元用以導引一光源所提供的一光束，其中光束用以通過入光面而進入導光單元內。通過入光面的光束在分別傳遞至第一光學面與第二光學面時，第一光學面與第二光學面用以反射部分光束而使部分光束傳遞至平板部。平板部用以傳遞部分光束至第二彎曲部。未被第一光學面反射的部分光束用以通過第一光學面而出射于導光單元。來自第一彎曲部的部分光束用以通過第一表面而出射于導光單元。來自平板部的部分光束用以被第三光學面反射至第三表面而出射于導光單元。在本發(fā)明的一實施例中，第一光學面、第二光學面及第三光學面分別包括一平滑曲面或是一由多個平面連接而成的表面，且這些平面分別相對于第一表面的斜率絕對值在往遠離第一表面的方向上逐漸增大。在本發(fā)明的一實施例中，導光單元更包括一凹陷部。凹陷部位于第一彎曲部的入光面上，且凹陷部往靠近第一表面的方向上凹陷于導光單元。在本發(fā)明的一實施例中，導光單元更包括一反射單元。反射單元配置于第二光學面、第二表面與第三光學面的至少其一上。在本發(fā)明的一實施例中，導光單元更包括多個散射微結構。這些散射微結構配置于第二表面上。在本發(fā)明的一實施例中，這些散射微結構數量密度由第二光學面往第三光學面的方向上遞增。在本發(fā)明的一實施例中，入光面大致上平行第一表面。在本發(fā)明的一實施例中，第
三表面大致上垂直第一表面。在本發(fā)明的一實施例中，第二彎曲部更具有一承靠面，其中承靠面連接第三表面與第三光學面。在本發(fā)明的一實施例中，承靠面與入光面平行。本發(fā)明的另一實施例提出一種光源模組，包括數個導光單元及數個光源。這些導光單元陣列排列，且任兩相鄰的導光單元彼此不重疊，其中每一導光單元包括一第一彎曲部、一平板部及一第二彎曲部。第一彎曲部具有一入光面、一第一光學面與一第二光學面， 其中入光面連接第一光學面與第二光學面。平板部具有一第一表面與一相對第一表面的第二表面。第一光學面與第一表面連接，且第一光學面相對于第一表面的斜率絕對值在往靠近入光面的方向上逐漸增大。第二表面與第二光學面連接，且第二光學面相對于第二表面的斜率絕對值往靠近入光面的方向上逐漸增大。第二彎曲部具有一第三表面及一第三光學面，且平板部連接第一彎曲部與第二彎曲部。第一表面連接第一光學面與第三表面，且第二表面連接第二光學面與第三光學面。第三光學面相對第二表面的斜率絕對值在遠離第一表面的方向上逐漸增大。每一這些光源分別配置于每一這些導光單元的入光面旁，且每一這些光源所提供的一光束用以通過每一這些導光單元的入光面而進入每一這些導光單元內。在本發(fā)明的一實施例中，沿一特定方向上排列的任兩相鄰的導光單元彼此保持一間距。在本發(fā)明的一實施例中，間距的大小大致上落在小于等于每一這些導光單元在沿此特定方向上的長度的3%的范圍內。
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在本發(fā)明的一實施例中，在沿一特定方向上排列的這些導光單元中，導光單元的第一光學表面用以面對相鄰的導光單元的第三表面，并與相鄰的導光單元保持一間隙。在本發(fā)明的一實施例中，光源模組更包括一基板，且這些導光單元與這些光源配置于基板上。在本發(fā)明的一實施例中，基板上配置有多個凹槽，每一這些光源分別配置于每一這些凹槽中。在本發(fā)明的一實施例中，光源模組更包括多個反射單元，配置于基板上，其中每一這些反射單元分別位于每一這些導光單元與基板之間。在本發(fā)明的一實施例中，每一這些導光單元更包括一凹陷部，凹陷部位于第一彎曲部的入光面上，且凹陷部往靠近第一表面的方向上凹陷于導光單元。本發(fā)明的實施例的導光單元至少具有以下其中一個優(yōu)點。由于第一光學面、第二光學面及第三光學面相對于第一表面的斜率絕對值在往遠離第一表面的方向上逐漸增大， 因此，使得光束在傳遞至這些光學面時可部分通過這些光學面及部分被這些光學面所反射，從而可使光源所提供的光束有效地被利用與被導引外，亦可使光束出射于導光單元的光場較為均勻。另外，由于導光單元具有上述的第三光學面，因此當本發(fā)明的實施例的導光單元應用于光源模組中，可降低陣列排列的導光單元之間產生亮線的機會，從而可提升光源模組所提供的面光源的光均勻度。為讓本發(fā)明的上述特征和優(yōu)點能更明顯易懂，下文特舉實施例，并配合所附圖式作詳細說明如下。

圖IA為本發(fā)明一實施例的光源模組的局部俯視示意圖。圖IB為沿圖IA的AA’線所繪示的局部剖示圖。圖2A為圖IA所繪示的導光單元的俯視示意圖。圖2B為沿圖2A的BB’線所繪示的局部剖示圖。圖3A與圖;3B分別為圖2B中的第一光學面與第二光學面采用不同實施形態(tài)的局部放大圖。圖4為圖2B中的導光單元的另一種實施形態(tài)的剖示圖。圖5為圖2B中的導光單元的又一種實施形態(tài)的剖示圖。圖6為圖2B中的導光單元的再一種實施形態(tài)的剖示圖。1000 光源模組1100:導光單元1120:第一彎曲部1122:入光面1124a、lU6a 平面1124:第一光學面1126:第二光學面1140:平板部1142:第一表面1144:第二表面
1160第二彎曲部
1162第三表面
1164第三光學面
1200光源
1220光束
1300基板
1320凹槽
1400反射單元
1500散射微結構
1600凹陷部
1700反射單元
1166承靠面
Pl 特定方向
Sl 間距
具體實施方式
有關本發(fā)明的前述及其他技術內容、特點與功效，在以下配合參考圖式的一較佳實施例的詳細說明中，將可清楚的呈現(xiàn)。以下實施例中所提到的方向用語，例如上、下、左、 右、前或后等，僅是參考附加圖式的方向。因此，使用的方向用語是用來說明并非用來限制本發(fā)明。圖IA為本發(fā)明一實施例的光源模組的局部俯視示意圖，圖IB為沿圖IA的AA’線所繪示的局部剖示圖，圖2A為圖IA所繪示的導光單元的俯視示意圖，圖2B為沿圖2A的 BB'線所繪示的局部剖示圖，其中為了方便說明，圖IA僅繪示出復數個導光單元的排列方式，并忽略可能位于導光單元上下的各元件。請同時參考圖1A、圖1B、圖2A與圖2B，本實施例的光源模組1000包括數個導光單元1100及數個光源1200，其中這些導光單元1100陣列排列，且任兩相鄰的導光單元1100彼此不重疊。在光源模組1000中，每一導光單元1100包括一第一彎曲部1120、一平板部1140 及一第二彎曲部1160。第一彎曲部1120具有一入光面1122、一第一光學面IlM與一第二光學面1126，其中入光面1122連接第一光學面IlM與第二光學面11沈。另外，每一光源 1200分別配置于每一導光單元1100的入光面1122旁，其中各光源1200所提供的一光束 1220用以通過各對應的導光單元1100的入光面1122而進入各導光單元1100內，且各導光單元1100用以導引各光源1200所提供的光束1220，如圖IB與圖2B所示。詳細而言，通過入光面1122的光束1220在分別傳遞至第一光學面IlM與第二光學面11 時，第一光學面IlM與第二光學面11 用以反射部分光束1220而使部分光束 1220傳遞至平板部1140，且未被第一光學面IlM反射的部分光束1220用以通過第一光學面IlM而出射于導光單元1100，如圖IB與圖2B所示。在本實施例中，光源模組1000可包括有一基板1300，其中上述的導光單元1100與這些光源1200配置于基板1300上。在一實施形態(tài)中，基板1300上可設置有多個凹槽1320，其中每一光源1200可分別配置于每一凹槽1320中，如圖IB與圖2B所繪示。如此一來，導光單元1100可承靠于基板1300上。需要說明的是，圖IB與圖2B僅是以光源1200設置于凹槽1320內的實施形態(tài)作為舉例說明， 非限于此。另外，上述的光源1200可以是采用發(fā)光二極管光源，冷陰極熒光燈管或其他適當的光源，其中本實施例以發(fā)光二極管光源進行說明，但不僅限于此。另外，平板部1140具有一第一表面1142與一相對第一表面1142的第二表面 1144，其中第一光學面IlM與第一表面1142連接，且第一光學面IlM相對于第一表面 1142的斜率絕對值在往靠近入光面1122的方向上逐漸增大。第二表面1144與第二光學面 11 連接，且第二光學面11 相對于第二表面1144的斜率絕對值往靠近入光面1122的方向上逐漸增大，如圖IB與圖2B所示。在本實施例中，入光面1122大致上可平行第一表面 1142。詳細而言，由于第一光學面IlM相對于第一表面1142的斜率絕對值在往靠近入光面1122的方向上逐漸增大，因此來自入光面1122的光束1220在傳遞至第一光學面IlM 時，部分光束1220入射至第一光學面IlM的入射角若大于全反射角時，則部分光束1220 便可被第一光學面IlM全反射而傳遞至第二光學面11 或平板部1140。反之，若部分光束1220入射至第一光學面IlM的入射角若小于全反射角時，則部分光束1220便可通過第一光學面IlM而出射于導光單元1100，如圖IB與圖2B所示。同樣地，第二光學面11 相對于第二表面1144的斜率絕對值往靠近入光面1122 的方向上逐漸增大，因此來自入光面1122的光束1220在傳遞至第二光學面11 時，部分光束1220入射至第二光學面11 的入射角若大于全反射角時，則部分光束1220便可被第二光學面11 全反射而傳遞至平板部1140，如圖IB與圖2B所示。在本實施例中，第一光學面IlM與第二光學面11 可以是采用如圖3A所繪示的平滑曲面的設計，其中圖3A為圖 2B所繪示的導光單元1100的局部放大圖。在另一實施例中，第一光學面IlM與第二光學面11 也可以是分別采用如圖:3B所繪示的由多個平面112^、1126a所連接而成的表面， 且這些平面112^、1126a分別相對于第一表面1142的斜率絕對值在往遠離第一表面1142 的方向上逐漸增大，如圖3B所示。請繼續(xù)參考圖1A、圖1B、圖2A與圖2B，第二彎曲部1160具有一第三表面1162及一第三光學面1164，且上述的平板部1140連接第一彎曲部1120與第二彎曲部1160。在各導光單元1100中，第一表面1142連接第一光學面IlM與第三表面1162，且第二表面1144 連接第二光學面1126與第三光學面1164，其中第三光學面1164相對第二表面1144的斜率絕對值在遠離第一表面1142的方向上逐漸增大，如圖IB與圖2B所示。在本實施例中，第三表面1162大致上可垂直第一表面1142。詳細而言，上述的平板部1140用以將來自第一彎曲部1120的部分光束1220傳遞至第二彎曲部1160，且未被傳遞至第二彎曲部1160的部分光束1220用以通過第一表面 1142而出射于導光單元1100，如圖IB與圖2B所示。在本實施例中，為了可提高光源1200 的光束1220的利用率及光源模組1000整體的出光效益，光源模組1000還可包括有多個反射單元1400，分別配置于基板1300上，其中每一反射單元1400分別位于每一導光單元 1100與基板1300之間，如圖IB與圖2B所示。如此一來，未被第二光學面11 或第二表面 1144所反射的光束1220在通過第二光學面11 或第二表面1144后便可被反射單元1400 所反射，而再次地傳遞回導光單元1100內，從而增加光束1220出射于導光單元1100的機石。
另外，來自平板部1140的光束1220在傳遞至第三光學面1164時，部分光束1220 用以被第三光學面1164反射至第三表面1162而出射于導光單元1100，如圖IB與圖2B所示。詳細而言，由于第三光學面1164相對第二表面1144的斜率絕對值在遠離第一表面1142 的方向上逐漸增大，因此來自平板部1140的光束1220在傳遞至第三光學面1164時，若部分光束1220入射至第三光學面1164的入射角大于全反射角時，則部分光束1220便可被第三光學面1164全反射而傳遞至第三表面1162。反之，若部分光束1220入射至第三光學面 1164的入射角若小于全反射角時，則部分光束1220便會通過第三光學面1164，如圖IB與圖2B所示。同樣地，由于光源模組1000可配置有上述的反射單元1400，因此通過第三光學面1164的部分光束1220可再被反射單元1400反射而傳遞回導光單元1100，從而可增加光束1220的利用率。在光源模組1000中，任兩相鄰的上述導光單元1100可沿一特定方向Pl上排列， 且彼此之間可保持一間距Si，其中這些間距Sl的大小大致上可落在小于等于每一這些導光單元1100在沿特定方向Pl上的長度的3%的范圍內，如圖IA與圖IB所示。詳細而言， 這些陣列排列的導光單元1100之間所保持的間距Sl除了可避免光源模組1000在組裝時所產生的對位公差以及材料遇熱所產生的熱漲公差外，亦可于相鄰的導光單元1100之間形成空氣間隙，以利上述的第一光學面IlM利用全反射原理來進行反射光束。另外，在沿上述的特定方向Pl上排列的這些導光單元1100中，導光單元1100的第一光學面IlM用以與相鄰的導光單元1100的第三表面1162相對，并與相鄰的導光單元 1100保持上述間隙Si，如圖IB所示。因此，出射于第三表面1162的光束1220便可部分傳遞至相鄰的導光單元1100的第一光學面IlM上，且大多數的光束1220會通過第一光學面 IlM而進入相鄰的導光單元1100內，而少部分的光束1220會朝向光源模組1000出光的方向出射。如此一來，除了可有效地提升光源1200的光束1220的利用率外，亦可有效降低光源模組1000在提供面光源時導光單元1100與導光單元1100之間會產生亮線的機會，從而可提供均勻度較佳的面光源。在一實施例中，上述的導光單元1100更可包括有多個散射微結構1500，如圖4所示。這些散射微結構1500配置于平板部1140的第二表面1144上，且這些散射微結構1500 數量密度可由第二光學面11 往第三光學面1164的方向上遞增，如此，亦可有效提升光源模組1000所提供的面光源的整體亮度與均勻度。此外，上述的導光單元1100也可包括有一凹陷部1600，如圖5所示。凹陷部1600 位于第一彎曲部1120的入光面1122上，且凹陷部1600往靠近第一表面1142的方向上凹陷于導光單元1100。如此一來，圖IB與圖2B中所繪示的光源1200便可置放于凹陷部1600 內，因此上述的基板1300便不一定要采用有凹槽1320結構的設計。換言之，基板1300上的凹槽1320結構的有無端視導光單元1100的結構或使用者的需求與設計而定，本實施例僅是舉例說明。在另一實施例中，上述的導光單元1100也可以是包括有一反射單元1700，其中反射單元1700可配置于第二光學面1126、第二表面1144與第三光學面1164的至少其一上。 圖6所繪示的實施例是以第二光學面1126、第二表面1144與第三光學面1164上皆配置有反射單元1700作為舉例說明，但不以此為限。換言之，于圖6中的實施形態(tài)中，圖IB與圖 2B所繪示的反射單元1400可選擇性地選擇是否配置于基板1300上，本發(fā)明并不特別限定。
另外，上述的第二彎曲部1160更可具有一承靠面1166，其中承靠面1166連接第三表面1162與第三光學面1164，如圖1B、圖2B、圖4、圖5與圖6所繪示。在本實施例中， 承靠面1166可與入光面1122平行，且承靠面1166與入光面1122皆可承靠于如圖IB與圖 2B中所繪示的基板1300上。值得一提的是，由于第一光學面IlM、第二光學面11 及第三光學面1164是采用上述的設計，因此若適當地設計第一光學面IlM、第二光學面11 及第三光學面1164的表面曲率，將可有效地縮小導光單元1100的整體厚度。綜上所述，本發(fā)明的實施例至少具有以下其中一個優(yōu)點。在本發(fā)明的實施例的導光單元中，由于第一光學面、第二光學面及第三光學面相對于第一表面的斜率絕對值在往遠離第一表面的方向上逐漸增大，因此，使得光束在傳遞至這些光學面時可部分通過這些光學面及部分被這些光學面所反射，從而可使光源所提供的光束有效地被利用與被導引外，亦可使光束出射于導光單元的光場較為均勻。此外，由于第一光學面、第二光學面及第三光學面是采用上述的設計，因此若適當地設計第一光學面、第二光學面及第三光學面的表面曲率，將可有效地縮小導光單元的整體厚度。換言之，采用此導光單元的光源模組其整體厚度亦可獲得縮減。另外，由于導光單元具有上述的第三光學面，因此當上述的導光單元應用于光源模組中時，可降低陣列排列的導光單元之間產生亮線的機會，從而可提升光源模組所提供的面光源的光均勻度。再者，陣列排列的導光單元之間若可保持間距，除了可避免光源模組在組裝時所產生的對位公差及材料遇熱所產生的熱漲公差外，亦可于相鄰的導光單元之間形成空氣間隙，而可使上述的第一光學面利用全反射原理來進行光束的反射。此外，由于導光單元的第二表面上配置有多個散射微結構，且這些散射微結構數量密度可由第二光學面往第三光學面的方向上遞增，如此，采用這些導光單元的光源模組所提供的面光源的整體亮度與均勻度將可獲得有效地提升。以上所述，僅為本發(fā)明的較佳實施例而已，當不能以此限定本發(fā)明實施的范圍，即大凡依本發(fā)明申請專利范圍及發(fā)明說明內容所作的簡單的等效變化與修飾，皆仍屬本發(fā)明專利涵蓋的范圍內。另外本發(fā)明的任一實施例或申請專利范圍不須達成本發(fā)明所揭露的全部目的或優(yōu)點或特點。
權利要求
1.一種導光單元，包括一第一彎曲部，具有一入光面、一第一光學面與一第二光學面，該入光面連接該第一光學面與該第二光學面；一平板部，具有一第一表面與一相對該第一表面的第二表面，該第一光學面與該第一表面連接，且該第一光學面相對于該第一表面的斜率絕對值在往靠近該入光面的方向上逐漸增大，該第二表面與該第二光學面連接，且該第二光學面相對于該第二表面的斜率絕對值往靠近該入光面的方向上逐漸增大；以及一第二彎曲部，具有一第三表面及一第三光學面，該平板部連接該第一彎曲部與該第二彎曲部，該第一表面連接該第一光學面與該第三表面，該第二表面連接該第二光學面與該第三光學面，且該第三光學面相對該第二表面的斜率絕對值在遠離該第一表面的方向上逐漸增大。
2.如權利要求1所述的導光單元，其特征在于該導光單元用以導引一光源所提供的一光束，該光束用以通過該入光面而進入該導光單元內，且通過該入光面的該光束在分別傳遞至該第一光學面與該第二光學面時，該第一光學面與該第二光學面用以反射部分該光束而使部分該光束傳遞至該平板部，該平板部用以傳遞部分該光束至該第二彎曲部，未被該第一光學面反射的部分該光束用以通過該第一光學面而出射于該導光單元，且來自該第一彎曲部的部分該光束用以通過該第一表面而出射于該導光單元，且來自該平板部的部分該光束用以被該第三光學面反射至該第三表面而出射于該導光單元。
3.如權利要求1所述的導光單元，其特征在于該第一光學面、該第二光學面及該第三光學面分別包括一平滑曲面或是一由多個平面連接而成的表面，且該些平面分別相對于該第一表面的斜率絕對值在往遠離該第一表面的方向上逐漸增大。
4.如權利要求1所述的導光單元，其特征在于更包括一凹陷部，該凹陷部位于該第一彎曲部的該入光面上，且該凹陷部往靠近該第一表面的方向上凹陷于該導光單元。
5.如權利要求1所述的導光單元，其特征在于更包括一反射單元，配置于該第二光學面、該第二表面與該第三光學面的至少其一上。
6.如權利要求1所述的導光單元，其特征在于更包括多個散射微結構，配置于該第二表面上。
7.如權利要求6所述的導光單元，其特征在于該些散射微結構數量密度由該第二光學面往該第三光學面的方向上遞增。
8.如權利要求1所述的導光單元，其特征在于該入光面大致上平行該第一表面。
9.如權利要求1所述的導光單元，其特征在于該第三表面大致上垂直該第一表面。
10.如權利要求1所述的導光單元，其特征在于該第二彎曲部更具有一承靠面，該承靠面連接該第三表面與該第三光學面。
11.一種光源模組，包括數個導光單元，該些導光單元陣列排列，且任兩相鄰的該些導光單元彼此不重疊，其中每一該些導光單元包括一第一彎曲部，具有一入光面、一第一光學面與一第二光學面，該入光面連接該第一光學面與該第二光學面；一平板部，具有一第一表面與一相對該第一表面的第二表面，該第一光學面與該第一表面連接，且該第一光學面相對于該第一表面的斜率絕對值在往靠近該入光面的方向上逐漸增大，該第二表面與該第二光學面連接，且該第二光學面相對于該第二表面的斜率絕對值往靠近該入光面的方向上逐漸增大；一第二彎曲部，具有一第三表面及一第三光學面，該平板部連接該第一彎曲部與該第二彎曲部，該第一表面連接該第一光學面與該第三表面，該第二表面連接該第二光學面與該第三光學面，且該第三光學面相對該第二表面的斜率絕對值在遠離該第一表面的方向上逐漸增大；以及數個光源，每一該些光源分別配置于每一該些導光單元的該入光面旁，且每一該些光源所提供的一光束用以通過每一該些導光單元的該入光面而進入每一該些導光單元內。
12.如權利要求11所述的光源模組，其特征在于通過該入光面的該光束在分別傳遞至該第一光學面與該第二光學面時，該第一光學面與該第二光學面用以反射部分該光束而使部分該光束傳遞至該平板部，該平板部用以傳遞部分該光束至該第二彎曲部，未被該第一光學面反射的部分該光束用以通過該第一光學面而出射于該導光單元，且來自該第一彎曲部的部分該光束用以通過該第一表面而出射于該導光單元，且來自該平板部的部分該光束用以被該第三光學面反射至該第三表面而出射于該導光單元。
13.如權利要求11所述的光源模組，其特征在于該第一光學面、該第二光學面及該第三光學面分別包括一平滑曲面或是一由多個平面連接而成的表面，且該些平面分別相對于該第一表面的斜率絕對值在往遠離該第一表面的方向上逐漸增大。
14.如權利要求11所述的光源模組，其特征在于沿一方向上排列的任兩相鄰的該些導光單元彼此保持一間距。
15.如權利要求14所述的光源模組，其特征在于該間距的大小大致上落在每一該些導光單元在沿該方向上的長度的3%的范圍內。
16.如權利要求11所述的光源模組，其特征在于在沿一方向上排列的該些導光單元中，該導光單元的該第一光學表面面對相鄰的該導光單元的該第三表面，且該導光單元的該第一光學表面與相鄰的該導光單元保持一間隙。
17.如權利要求11所述的光源模組，其特征在于更包括一基板，該些導光單元與該些光源配置于該基板上。
18.如權利要求17所述的光源模組，其特征在于該基板上配置有多個凹槽，每一該些光源分別配置于每一該些凹槽中。
19.如權利要求11所述的光源模組，其特征在于更包括多個反射單元，配置于該基板上，其中每一該些反射單元分別位于每一該些導光單元與該基板之間。
20.如權利要求11所述的光源模組，其特征在于每一該些導光單元更包括一凹陷部， 該凹陷部位于該第一彎曲部的該入光面上，且該凹陷部往靠近該第一表面的方向上凹陷于該導光單元。
全文摘要
一種導光單元及光源模組，該導光單元包括第一彎曲部、平板部及第二彎曲部。第一彎曲部具有入光面、第一、第二光學面。入光面連接第一、第二光學面。平板部具有連接第一光學面的第一表面與相對第一表面且連接第二光學面的第二表面。第一光學面與第二光學面分別相對于第一表面與第二表面的斜率絕對值在往靠近入光面的方向上逐漸增大。第二彎曲部具有第三表面及第三光學面。平板部連接第一彎曲部與第二彎曲部。第一表面連接第一光學面與第三表面。第二表面連接第二光學面與第三光學面。第三光學面相對第二表面的斜率絕對值在遠離第一表面的方向上逐漸增大。此導光單元的厚度較薄且可有效地導引光源，采用該導光單元的光源模組可呈現(xiàn)較佳的光均勻度。
文檔編號F21V8/00GK102269387SQ20101019454
公開日2011年12月7日 申請日期2010年6月1日 優(yōu)先權日2010年6月1日
發(fā)明者蔡漢文 申請人:中強光電股份有限公司