專利名稱：發(fā)射源定位裝置的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種質譜測量工具上的部件，具體涉及一種質譜測量工 具上的離子發(fā)射源定位裝置。
背景技術：
質譜測量工具一般設有發(fā)射源、載物座、接收阱，發(fā)射源發(fā)射轟擊物質 對放置在載物座上的被測物品進行轟擊。轟擊物質可以是電子、光子、中子、 質子等物質。被測物品受到轟擊后，發(fā)射與本身物質相關的物質，如電子、 光子、中子、質子等物質。這些相關的物質被接收阱接收。
為了得到精確的物質譜線，需要對被測物品進行多方位、多角度轟擊。 但是現(xiàn)有的質譜測量工具上的發(fā)射源定位裝置，不能使發(fā)射源達到多方位、 多角度轟擊的目的，只能在非常有限的方位以及角度上進行轟擊，因此不能 得到精確、全面的物質譜線，最終造成了檢測結果不精確。
實用新型內容
本實用新型的目的在于提供一種發(fā)射源定位裝置，為發(fā)射源提供多方位 多角度的定位，對被測物品實現(xiàn)多方位、多角度轟擊，以便得到精確、全面 的物質譜線，最終得到精確的檢測結果。
本實用新型所解決的技術問題可以采用以下技術方案來實現(xiàn)-發(fā)射源定位裝置，包括載物座、發(fā)射源支架，其特征在于，所述發(fā)射源 支架包括一前后位置調節(jié)支架、 一旋轉角度調節(jié)支架、 一左右位置調節(jié)支架、
一上下位置調節(jié)支架；
所述前后位置調節(jié)支架為用于固定發(fā)射源，和調節(jié)發(fā)射源前后位置的前 后位置調節(jié)支架，所述前后位置調節(jié)支架設有發(fā)射源固定機構；
所述旋轉角度調節(jié)支架為用于固定所述前后位置調節(jié)支架和調節(jié)所固定的發(fā)射源朝向角度的旋轉角度調節(jié)支架，所述旋轉角度調節(jié)支架包括一旋轉
角度調節(jié)支架底座， 一受控旋轉板；所述受控旋轉板安裝在旋轉角度調節(jié)支 架底座上，所述受控旋轉板上裝有所述前后位置調節(jié)支架；
所述上下位置調節(jié)支架為用于固定和調節(jié)旋轉角度調節(jié)支架高度的上下 位置調節(jié)支架；
所述左右位置調節(jié)支架為用于固定所述上下位置調節(jié)支架，和調節(jié)所述 上下位置調節(jié)支架左右位置的左右位置調節(jié)支架；所述左右位置調節(jié)支架包 括一起固定作用的左右位置調節(jié)支架底座、 一絲桿機構，所述絲桿機構包括 左右移動的活動部件和提供動力的動力部件，所述左右移動的活動部件與所 述旋轉角度調節(jié)支架底座固定連接，所述提供動力的動力部件與所述左右位 置調節(jié)支架底座連接。
上述設計中包括了前后位置調節(jié)支架、 一旋轉角度調節(jié)支架、 一左右位 置調節(jié)支架、 一上下位置調節(jié)支架，可以實現(xiàn)對發(fā)射源的前后位置、左右位 置、朝向角度的控制，因此可以在質譜測量中對發(fā)射源進行多自由度定位。 對被測物品實現(xiàn)多方位、多角度轟擊，以便得到精確、全面的物質譜線，最 終得到精確的檢測結果。
所述發(fā)射源支架上設有所述載物座，所述載物座包括一載物托盤，所述 載物座設有一用于調節(jié)載物托盤高度的高度調節(jié)機構。所述載物座上還設有 調節(jié)所述載物托盤所在平面角度的角度調節(jié)機構。所述角度調節(jié)結構為位于 所述載物托盤下方的一軸關節(jié)。
所述高度調節(jié)機構，為絲桿結構的高度調節(jié)機構，包括一絲桿，所述絲 桿與載物托盤嚙合，所述絲桿下方設有一帶動絲桿轉動的控制旋鈕。
上述設計通過在載物座上增加一高度調節(jié)機構，提高發(fā)射源與被測物品 間相對角度和相對位置在控制時的靈活性。另外將更有利于被測物品射出的 譜線集中照射到質樸測量裝置的接收阱上，提高精確度。
所述前后位置調節(jié)支架，包括所述發(fā)射源固定機構，還包括一固定所述 發(fā)射源固定機構的前后位置調節(jié)支架底座，所述發(fā)射源固定機構和前后位置 調節(jié)支架底座通過一用于調節(jié)兩者相對位置的絲桿機構連接，所述絲桿機構 包括一絲桿，所述絲桿固定在前后位置調節(jié)支架底座上，與所述發(fā)射源固定機構嚙合。
所述旋轉角度調節(jié)支架的受控旋轉板一邊為圓弧形，所述圓弧形的圓心 處通過轉軸連接到旋轉角度調節(jié)支架底座上；所述旋轉角度調節(jié)支架底座上 設有一驅動輪，所述驅動輪連接一帶動驅動輪轉動的控制旋鈕，所述驅動輪 壓緊受控旋轉板的圓弧形邊。通過上述設計，實現(xiàn)通過控制旋鈕對受控旋轉 板的轉動位置進行控制，進而實現(xiàn)對發(fā)射源發(fā)射角度的控制。
由上述技術方案可見本實用新型，為發(fā)射源提供多方位多角度的定位， 對被測物品實現(xiàn)多方位、多角度轟擊，以便得到精確、全面的物質譜線，最 終得到精確的檢測結果。
圖1為本實用新型的整體結構示意圖； 圖2為本實用新型的局部結構示意圖。
具體實施方式
為了使本實用新型實現(xiàn)的技術手段、創(chuàng)作特征、達成目的與功效易于明 白了解，下面結合具體圖示進一步闡述本實用新型。
參照圖l，發(fā)射源定位裝置，包括載物座l、發(fā)射源支架2，所述發(fā)射源 支架2包括一前后位置調節(jié)支架11、 一旋轉角度調節(jié)支架12、 一左右位置調 節(jié)支架13。
參照圖2，前后位置調節(jié)支架11用于固定發(fā)射源3，和調節(jié)發(fā)射源3前 后位置的前后位置。設有發(fā)射源固定機構112，便于發(fā)射源3的拆卸和更換。 前后位置調節(jié)支架11，還包括一固定發(fā)射源固定機構112的前后位置調節(jié)支 架底座111，所述發(fā)射源固定機構112和前后位置調節(jié)支架底座111通過一用 于調節(jié)兩者相對位置的絲桿機構連接，所述絲桿機構包括一絲桿，所述絲桿 固定在前后位置調節(jié)支架底座111上可以轉動，與所述發(fā)射源固定機構112 嚙合。絲桿一端與旋鈕113固定連接。通過旋轉旋鈕113控制絲桿轉動，進 而控制發(fā)射源3前后移動。
前后位置調節(jié)支架11固定在旋轉角度調節(jié)支架12上。旋轉角度調節(jié)支架12用于固定前后位置調節(jié)支架11和調節(jié)所固定的發(fā)射源3發(fā)射朝向角度。 旋轉角度調節(jié)支架12包括一旋轉角度調節(jié)支架底座121， 一受控旋轉板122。 受控旋轉板122安裝在旋轉角度調節(jié)支架底座121上，受控旋轉板122上裝 有前后位置調節(jié)支架11。旋轉角度調節(jié)支架12的受控旋轉板122 —邊為圓弧 形，所述圓弧形的圓心處通過轉軸連接到旋轉角度調節(jié)支架底座121上。旋 轉角度調節(jié)支架底座121上設有一驅動輪123，。驅動輪123連接一帶動驅動 輪123轉動的控制旋鈕124。驅動輪123壓緊受控旋轉板122的圓弧形邊。通 過上述設計，實現(xiàn)通過控制旋鈕124對受控旋轉板122的轉動位置進行控制， 進而實現(xiàn)對發(fā)射源3發(fā)射角度的控制。
參照圖1，上下位置調節(jié)支架17用于固定和調節(jié)旋轉角度調節(jié)支架12高 度，通過旋轉絲桿結構或其它結構，實現(xiàn)這種功能都較為簡單，不做詳述。
左右位置調節(jié)支架13用于固定上下位置調節(jié)支架17，和調節(jié)上下位置調 節(jié)支架17左右位置。左右位置調節(jié)支架13包括一起固定作用的左右位置調 節(jié)支架底座131、 一絲桿機構。絲桿機構包括左右移動的活動部件132和提供 動力的動力部件133，所述左右移動的活動部件132與旋轉角度調節(jié)支架底座 121固定連接，提供動力的動力部件133與左右位置調節(jié)支架底座131連接。 通過旋轉動力部件133控制活動部件132左右移動，進而控制發(fā)射源3左右 移動。
上述設計中包括了前后位置調節(jié)支架ll、 一旋轉角度調節(jié)支架12、 一左 右位置調節(jié)支架13、 一上下位置調節(jié)支架17，可以實現(xiàn)對發(fā)射源3的前后位 置、左右位置、朝向角度的控制，因此可以在質譜測量中對發(fā)射源3進行多 自由度定位。對被測物品實現(xiàn)多方位、多角度轟擊，以便得到精確、全面的 物質譜線，最終得到精確的檢測結果。
發(fā)射源支架2上設有載物座1，載物座1包括一載物托盤14,載物座1 設有一用于調節(jié)載物托盤14高度的高度調節(jié)機構15。高度調節(jié)機構15，為 絲桿結構的高度調節(jié)機構，包括一絲桿，所述絲桿與載物托盤14嚙合，絲桿 下方設有一帶動絲桿轉動的控制旋鈕16。載物座1上還設有調節(jié)載物托盤14 所在平面角度的角度調節(jié)機構，角度調節(jié)結構是位于所述載物托盤下方的一 軸關節(jié)。上述設計通過在載物座1上增加一高度調節(jié)機構15,提高發(fā)射源3與被 測物品間相對角度和相對位置在控制時的靈活性。另外將更有利于被測物品 射出的譜線集中照射到質樸測量裝置的接收阱上，提高精確度。由上述技術 方案可見本實用新型，為發(fā)射源3提供多方位多角度的定位，對被測物品實 現(xiàn)多方位、多角度轟擊，以便得到精確、全面的物質譜線，最終得到精確的 檢測結果。
以上顯示和描述了本實用新型的基本原理和主要特征和本實用新型的優(yōu) 點。本行業(yè)的技術人員應該了解，本實用新型不受上述實施例的限制，上述 實施例和說明書中描述的只是說明本實用新型的原理，在不脫離本實用新型 精神和范圍的前提下，本實用新型還會有各種變化和改進，這些變化和改進 都落入要求保護的本實用新型范圍內。本實用新型要求保護范圍由所附的權 利要求書及其等效物界定。
權利要求1.發(fā)射源定位裝置，包括載物座、發(fā)射源支架，其特征在于，所述發(fā)射源支架包括一前后位置調節(jié)支架、一旋轉角度調節(jié)支架、一左右位置調節(jié)支架、一上下位置調節(jié)支架；所述前后位置調節(jié)支架為用于固定發(fā)射源，和調節(jié)發(fā)射源前后位置的前后位置調節(jié)支架，所述前后位置調節(jié)支架設有發(fā)射源固定機構；所述旋轉角度調節(jié)支架為用于固定所述前后位置調節(jié)支架和調節(jié)所固定的發(fā)射源朝向角度的旋轉角度調節(jié)支架，所述旋轉角度調節(jié)支架包括一旋轉角度調節(jié)支架底座，一受控旋轉板；所述受控旋轉板安裝在旋轉角度調節(jié)支架底座上，所述受控旋轉板上裝有所述前后位置調節(jié)支架；所述上下位置調節(jié)支架為用于固定和調節(jié)旋轉角度調節(jié)支架高度的上下位置調節(jié)支架；所述左右位置調節(jié)支架為用于固定所述上下位置調節(jié)支架，和調節(jié)所述上下位置調節(jié)支架左右位置的左右位置調節(jié)支架；所述左右位置調節(jié)支架包括一起固定作用的左右位置調節(jié)支架底座、一絲桿機構，所述絲桿機構包括左右移動的活動部件和提供動力的動力部件，所述左右移動的活動部件與所述旋轉角度調節(jié)支架底座固定連接，所述提供動力的動力部件與所述左右位置調節(jié)支架底座連接。
2. 根據權利要求1所述發(fā)射源定位裝置，其特征在于， 所述發(fā)射源支架上設有所述載物座，所述載物座包括一載物托盤，所述載物座設有一用于調節(jié)載物托盤高度的高度調節(jié)機構；所述載物座上還設有 調節(jié)所述載物托盤所在平面角度的角度調節(jié)機構。
3. 根據權利要求2所述發(fā)射源定位裝置，其特征在于，所述高度調節(jié)機 構，為絲桿結構的高度調節(jié)機構，包括一絲桿，所述絲桿與載物托盤嚙合， 所述絲桿下方設有一帶動絲桿轉動的控制旋鈕。
4. 根據權利要求1所述發(fā)射源定位裝置，其特征在于， 所述前后位置調節(jié)支架，包括所述發(fā)射源固定機構，還包括一固定所述發(fā)射源固定機構的前后位置調節(jié)支架底座，所述發(fā)射源固定機構和前后位置 調節(jié)支架底座通過一用于調節(jié)兩者相對位置的絲桿機構連接，所述絲桿機構包括一絲桿，所述絲桿固定在前后位置調節(jié)支架底座上，與所述發(fā)射源固定 機構嚙合。
5.根據權利要求4所述發(fā)射源定位裝置，其特征在于，所述旋轉角度調 節(jié)支架的受控旋轉板一邊為圓弧形，所述圓弧形的圓心處通過轉軸連接到旋 轉角度調節(jié)支架底座上；所述旋轉角度調節(jié)支架底座上設有一驅動輪，所述 驅動輪連接一帶動驅動輪轉動的控制旋鈕，所述驅動輪壓緊受控旋轉板的圓 弧形邊。
專利摘要發(fā)射源定位裝置，涉及一種質譜測量工具上的部件，具體涉及一種質譜測量工具上的發(fā)射源定位裝置。包括載物座、發(fā)射源支架，其特征在于，所述發(fā)射源支架包括一前后位置調節(jié)支架、一旋轉角度調節(jié)支架、一左右位置調節(jié)支架。設計中包括了前后位置調節(jié)支架、一旋轉角度調節(jié)支架、一左右位置調節(jié)支架，可以實現(xiàn)對發(fā)射源的前后位置、左右位置、朝向角度的控制，因此可以在質譜測量中對發(fā)射源進行多自由度定位。對被測物品實現(xiàn)多方位、多角度轟擊，以便得到精確、全面的物質譜線，最終得到精確的檢測結果。
文檔編號H01J49/02GK201369311SQ200920067709
公開日2009年12月23日 申請日期2009年2月13日 優(yōu)先權日2009年2月13日
發(fā)明者丁浩彥, 陳建鋼 申請人:上海光譜儀器有限公司