專利名稱：發(fā)光裝置及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種發(fā)光裝置及其制造方法，特別是涉及一種運(yùn)用特 殊封裝透鏡使得封裝后的發(fā)光二極管形成具有特殊指向性的光源，使 得射出的光束在被照射面上有特殊的光型分布并提供照射范圍內(nèi)的適 當(dāng)照度，同時(shí)又能省去二次光學(xué)設(shè)計(jì)的發(fā)光裝置及其制造方法。
背景技術(shù)：
一般照明是利用人工光源或自然光源以提供人們足夠的亮度，就 人工光源而言，又可提供更多具有功能性的照明，例如道路照明、 廣告看板照明、建筑照明、住宅照明、舞臺(tái)照明、交通工具的內(nèi)部照 明及外部照明、醫(yī)療照明、植物栽培照明等。
由于傳統(tǒng)的照明燈具存在有高能量耗損、低能量轉(zhuǎn)換效率及使用
壽命短等缺陷，故近來(lái)使用發(fā)光二極管(LED)做為照明的產(chǎn)品越來(lái)越
多。發(fā)光二極管具有體積小、耗能低、壽命長(zhǎng)、反應(yīng)速度快、安全低 電壓等優(yōu)點(diǎn)。但是發(fā)光二極管的光源強(qiáng)度不足，因此必須搭配封裝技 術(shù)，才能達(dá)到電性連接并提高發(fā)光效率及更有效的將熱量排出。 請(qǐng)參閱圖l，其顯示一種現(xiàn)有的發(fā)光二極管封裝結(jié)構(gòu)，如圖所示，
封裝結(jié)構(gòu)10具有一反射凹杯11，反射凹杯11內(nèi)壁面涂布有反射金屬 層12，發(fā)光元件13置放于反射凹杯11內(nèi)，再以環(huán)氧樹(shù)脂層14包覆發(fā) 光元件13。
但，此種現(xiàn)有的發(fā)光元件13所產(chǎn)生的光束130被反射金屬層12 反射到封裝層14，或者是直接投射到封裝層14，最后經(jīng)由折射后出光， 此種封裝透鏡的設(shè)計(jì)使光束均勻朝四面八方射出，欲集中光束需在封 裝結(jié)構(gòu)的外部添加二次光學(xué)機(jī)構(gòu)。
請(qǐng)參閱圖2，其是顯示另一種現(xiàn)有的發(fā)光二極管封裝結(jié)構(gòu)，如圖所 示，封裝結(jié)構(gòu)20具有一透光基板21，透光基板21上設(shè)置一發(fā)光元件 22，再于透光基板21上罩覆一透鏡層23，并于透鏡層23外表面濺鍍一層反射層24，透鏡層23是用以集中光束，使發(fā)光元件22所產(chǎn)生的 光束220在射向透鏡層23后，會(huì)再通過(guò)透鏡層23外表的反射層24， 將光束220反射，然后朝向透光基板21發(fā)射至外界。
但是，此種現(xiàn)有的封裝結(jié)構(gòu)會(huì)影響發(fā)光元件的整體發(fā)光效率。此 種封裝方式雖改變了光線的發(fā)射路徑，使用透光的封裝基板，但透光 性的封裝基板散熱性不佳，會(huì)使發(fā)光元件所產(chǎn)生的熱無(wú)法有效導(dǎo)出而 累積在發(fā)光元件與基板的接面上，導(dǎo)致發(fā)光元件溫度升高而發(fā)光效率 低落。因此也無(wú)法有效提升亮度。
是以，如何解決上述現(xiàn)有發(fā)光二極管封裝結(jié)構(gòu)所存在無(wú)法將光束 集中、無(wú)法有效提升亮度、散熱性不佳及無(wú)法產(chǎn)生具有指向性的光束 等問(wèn)題，實(shí)為目前急欲解決的問(wèn)題。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種發(fā)光裝置及其制造方法，使得出射光束 具有指向性并能在被照射面上形成特殊光型以達(dá)到均勻的照明效果。
為達(dá)到上述目的，本發(fā)明提供一種具特殊指向性及光型分布的發(fā) 光裝置，包括基座；發(fā)光元件，設(shè)于該基座上；以及透鏡，罩覆于該 基座上并密封該發(fā)光元件，該透鏡具有出光面及反射層且該反射層形 成于該透鏡的局部表面，其中，形成于該局部表面的反射層將發(fā)光元 件產(chǎn)生的光束反射集中穿出該出光面。
前述的基座，在該表面上形成一反射壁，將射向基座的光束反射， 以提高光束的使用率；罩覆于該基座上的透鏡表面是呈平面、曲面或 圓錐曲面、規(guī)則表面或不規(guī)則表面、平滑或粗糙平面。由于該反射層 形成于該透鏡的局部表面，且該出光面為未覆蓋反射層的透鏡表面區(qū) 域且可為任意圖形。因此，該發(fā)光元件所產(chǎn)生的光束會(huì)反射至該出光 面后經(jīng)過(guò)折射出光，并通過(guò)反射層收集光線和局限出光的效用，達(dá)到 使出光的光束偏折往特定方向，且在被照射面上形成特殊的光型分布。
為達(dá)到上述目的，本發(fā)明還提供一種具特殊指向性及光型分布的 發(fā)光裝置的制造方法，包括如下步驟提供發(fā)光元件，并將該發(fā)光元 件設(shè)置于該基座上；提供透鏡，并將該透鏡封裝于該基座上；以及利 用鍍膜方式將透鏡表面的局部區(qū)域鍍上反射層，其中，形成于該局部區(qū)域的反射層將發(fā)光元件產(chǎn)生的光束反射至遠(yuǎn)離該基座的方向，并穿 過(guò)該反射層所未包覆的透鏡部分的出光面以達(dá)到折射出光的效果，其 中該出光面是以利用材料的性質(zhì)或者結(jié)構(gòu)的性質(zhì)，以達(dá)到指向性出光 的效果。
前述的發(fā)光元件設(shè)于基座上，該發(fā)光元件為發(fā)光二極管芯片，該 發(fā)光元件所產(chǎn)生的光束，能完全被反射層反射、聚集，再經(jīng)過(guò)一次折 射后射出。
前述的反射層的材料為金屬或者非金屬，當(dāng)該反射層為金屬時(shí)， 該金屬是金、銀、鋁、鉑或鈀的其中之一。
相比于現(xiàn)有技術(shù)，本發(fā)明的發(fā)光裝置及其制造方法具有部分鍍有 反射層的透鏡，使得發(fā)光元件所產(chǎn)生的光束，發(fā)射至該反射層上時(shí)， 可再經(jīng)由反射作用朝向特定的方向穿過(guò)該出光面，再經(jīng)折射或者不折 射的射出至被照射面，以令光束具有集中性及指向性并在被照射面產(chǎn) 生特殊的光型分布。因此，可確實(shí)解決現(xiàn)有光束四處散射無(wú)法集中及 不具有指向性等問(wèn)題，同時(shí)省去二次光學(xué)設(shè)計(jì)。


圖1是繪示現(xiàn)有發(fā)光二極管封裝結(jié)構(gòu)的示意圖； 圖2是繪示另一現(xiàn)有發(fā)光二極管封裝結(jié)構(gòu)的適意圖； 圖3是繪示本發(fā)明發(fā)光裝置的第一實(shí)施例的側(cè)視剖面示意圖； 圖4是繪示本發(fā)明發(fā)光裝置的第一實(shí)施例的立體結(jié)構(gòu)示意圖； 圖5是繪示本發(fā)明發(fā)光裝置的第二實(shí)施例的側(cè)視外觀示意圖； 圖6是繪示本發(fā)明發(fā)光裝置的第二實(shí)施例的側(cè)視剖面示意圖； 圖7是繪示本發(fā)明發(fā)光裝置的第二實(shí)施例的另一方向立體結(jié)構(gòu)示 意圖8是繪示本發(fā)明發(fā)光裝置的第二實(shí)施例的出光示意圖9是繪示本發(fā)明發(fā)光裝置的第二實(shí)施例的被光照面的光場(chǎng)分布
圖IO是繪示本發(fā)明發(fā)光裝置的第三實(shí)施例的側(cè)視示意圖； 圖11是繪示本發(fā)明發(fā)光裝置的第三實(shí)施例的出光示意圖； 圖12是繪示本發(fā)明發(fā)光裝置的第三實(shí)施例的光型分布7圖13是繪示本發(fā)明發(fā)光裝置的制造方法的流程圖14是繪示本發(fā)明的發(fā)光裝置的制造方法中利用真空鍍膜形成反 射層的制造工藝步驟的流程圖；以及
圖15是繪示本發(fā)明的發(fā)光裝置的制造方法中利用電鍍形成反射層 的制造工藝步驟的流程圖。
主要元件符號(hào)說(shuō)明:10封裝結(jié)構(gòu)
11反射凹杯
12反射金屬層
13發(fā)光元件
130光束
20封裝結(jié)構(gòu)
21透光基板
22發(fā)光元件
220光束
23透鏡層
24反射層
30發(fā)光裝置
31基座
310容置空間
311反射壁
32發(fā)光元件
321螢光粉層
33透鏡
33a出光面
33b反射層
35光型分布
S10 S12步驟 S20-S23步驟S30 S32步驟
具體實(shí)施例方式
以下通過(guò)特定的具體實(shí)施例說(shuō)明本發(fā)明的實(shí)施方式，所屬技術(shù)領(lǐng) 域中的技術(shù)人員可由本說(shuō)明書(shū)所揭示的內(nèi)容輕易地了解本發(fā)明的其他 優(yōu)點(diǎn)與功效。
請(qǐng)參閱圖3及圖4，其分別繪示依據(jù)本發(fā)明的一實(shí)施例的發(fā)光裝置 的側(cè)視剖面及立體結(jié)構(gòu)示意圖。如圖所示，本發(fā)明的發(fā)光裝置30，包 括 一基座31、設(shè)于基座31上的發(fā)光元件32、罩覆于基座31上的發(fā) 光元件32的透鏡33以及形成于透鏡33表面的出光面33a以及反射層 33b。
在本實(shí)施例中，基座31為不透光材料所制成?；?1具有一內(nèi) 凹的容置空間310，且容置空間310是例如為開(kāi)口較大而底面較小的杯 狀容置空間。另外，基座31的容置空間310的壁面并形成有一反射壁 311。
發(fā)光元件32為發(fā)光二極管芯片，其設(shè)于容置空間310內(nèi)并例如位 于反射壁311的中央，藉以使發(fā)光元件32所產(chǎn)生的側(cè)向光束，能先被 特定形狀的反射壁311反射，再聚集性地朝向預(yù)射的方向射出。此外， 該發(fā)光元件32的表面可視需要涂布螢光粉層321，用以使得發(fā)光元件 32所產(chǎn)生的光束可經(jīng)由激發(fā)螢光粉而轉(zhuǎn)換成不同的波長(zhǎng)的光束。由此 設(shè)計(jì)，光束可在透鏡內(nèi)充分混合后再出光，例如，發(fā)光元件32發(fā)射出 的藍(lán)光激發(fā)螢光粉產(chǎn)生黃光，使得藍(lán)光與黃光混合產(chǎn)生白光。同時(shí)， 螢光粉層321也可保護(hù)發(fā)光元件32不受外界污染、氧化及侵蝕等。
透鏡33為封裝透鏡，且例如具有圓弧的曲面，并封裝于基座31 上，用以保護(hù)發(fā)光元件32不受外界污染、氧化及侵蝕與提高發(fā)光效率。
反射層33b例如以真空鍍膜或電鍍方式形成于透鏡33表面的局部 區(qū)域或特定區(qū)域上。由此設(shè)計(jì)，發(fā)光元件32所產(chǎn)生的光束，在投射至 透鏡33表面的反射層33b后會(huì)被反射層33b反射，并如圖3所示穿過(guò) 出光面33a而射向預(yù)期的方向，藉以令投射于反射層33b的光束，皆 朝預(yù)期的方向射出，從而達(dá)到集中光束、聚集光束及使光束具有指向 性的目的。此外，因?yàn)楣馐?jīng)過(guò)集中與聚集，故可提升光束的使用率， 使被照射面更為明亮。
在本實(shí)施例中，反射層33b形成于透鏡33的一側(cè)邊，所以發(fā)光元件32所產(chǎn)生的光束投射于反射層33b后，皆會(huì)經(jīng)由透鏡33上未形成 有反射層33b的另一側(cè)邊射出，也就是會(huì)經(jīng)由出光面33a射出。因此， 通過(guò)形成反射層33b于透鏡33的不同位置上，即可令光束朝向特定方 向射出，進(jìn)而使光束具有指向性且更加集中，并能減少雜散光。當(dāng)然， 在不同實(shí)施例中，也可將反射層33b形成于其他特定區(qū)域，使發(fā)光元 件32所產(chǎn)生的光束，能朝向另一特定方向射出。
應(yīng)注意的是，透鏡33的表面不以圓弧的曲面為限，其表面也可為 圓曲面、不規(guī)則曲面或其他形狀的曲面，以因應(yīng)不同應(yīng)用場(chǎng)合的需求， 而形成所需的光束。
請(qǐng)參閱圖5及圖6，其是分別繪示依據(jù)本發(fā)明的另一實(shí)施例的發(fā)光 裝置的側(cè)視外觀圖及側(cè)視剖面圖。如圖所示，本發(fā)明的發(fā)光裝置30， 包括 一基座31、設(shè)于基座31上的發(fā)光元件32、罩覆于基座31上的 發(fā)光元件32的透鏡33 。此外該透鏡33又具有出光面33a及反射面33b。
在本實(shí)施例中，基座31為不透光材料所制成。該發(fā)光元件32為 發(fā)光二極管芯片，且設(shè)于該基座31上，藉以使發(fā)光元件32所產(chǎn)生的 光束，通過(guò)反射層33b的形狀反射并產(chǎn)生聚集的效果，再經(jīng)由該出光 面33a而朝預(yù)期的方向射出。此外，該發(fā)光元件32的表面可視需要涂 布螢光粉層321，用以使發(fā)光元件32所產(chǎn)生的光束可激發(fā)螢光粉而轉(zhuǎn) 換成不同的波長(zhǎng)的光束，使光束在封裝透鏡內(nèi)能充分混合后出光。例 如，發(fā)光元件32發(fā)射出的藍(lán)光激發(fā)螢光粉產(chǎn)生黃光，使得藍(lán)光與黃光 混合產(chǎn)生白光。同時(shí)，螢光粉層也可保護(hù)發(fā)光元件，不受外界污染、 氧化及侵蝕。
透鏡33為封裝透鏡。該透鏡33例如具有平面、曲面、規(guī)則表面、 不規(guī)則表面或圓錐曲面，且該透鏡33可為粗糙表面或平滑表面，并供 封裝于基座31上，以保護(hù)發(fā)光元件32不受外界污染、氧化及侵蝕與 提高發(fā)光效率等功用。通常，透鏡33為一中空罩體，也就是該透鏡具 有容置空間可供密封發(fā)光元件。
前述的反射層33b例如以真空鍍膜或電鍍方式形成于透鏡33表面 的特定區(qū)域上。具體而言，如圖5所示的具體實(shí)施例中，該反射層33b 形成于透鏡33的側(cè)壁表面，并藉以令發(fā)光元件32所產(chǎn)生的光束，經(jīng) 由透鏡33的反射層33b反射后，再經(jīng)折射或不經(jīng)折射地穿過(guò)出光面33a
10到聚集光束及使光束具有指向性的目 的。由此，光束的使用率將會(huì)大增，使被照射面更為明亮。
在本實(shí)施例中，反射層33b形成于透鏡33的大部分側(cè)表面，其中， 該反射層是指足以將發(fā)光元件32產(chǎn)生的光束反射至出光面33a的區(qū) 域，且該出光面33a是指透鏡的未形成反射層的區(qū)域，該透鏡33形成 有該反射層33b的形狀可為圓弧曲面，以利于光束的集中。如上所述， 發(fā)光元件32所產(chǎn)生的光束，投射至反射層33b后，皆會(huì)反射至出光面 33a，再折射出光。因此，通過(guò)透鏡33上的反射層33b的位置設(shè)計(jì)和 該出光面33b的折射面設(shè)計(jì)，可令光束朝向特定方向射出，進(jìn)而使光 束具有指向性且更加集中，并能減少雜散光。當(dāng)然，在不同實(shí)施例中， 也可將反射層33b形成于其他特定區(qū)域，使發(fā)光元件32所產(chǎn)生的光束， 能朝向另一特定方向射出。
應(yīng)注意的是，透鏡33表面不以圓弧的曲面為限，其表面也可為圓 曲面、不規(guī)則曲面、規(guī)則曲面或其他形狀的曲面，且該表面也可為粗 糙面或平滑面，以因應(yīng)不同應(yīng)用場(chǎng)合的需求，而形成所需的光束。
請(qǐng)參閱圖7、圖8及圖9，為分別繪示依據(jù)春發(fā)明第:^g歸的側(cè) 視外觀圖、出光示意圖及光場(chǎng)分布圖。如圖所示，該發(fā)光元件32所產(chǎn) 生的光束是通過(guò)透鏡33的反射層33b的反射后，再經(jīng)由出光面33a射 至外界，而形成均勻集中的光場(chǎng)分布。如此，除了可讓出射光束有較 佳的指向性，并且可在被照射面上有特殊的光型分布(如圖9所示)，以 提供照射范圍內(nèi)適當(dāng)?shù)恼斩取?br> 請(qǐng)參閱圖10、圖11及圖12，為分別繪示依據(jù)本發(fā)明第三實(shí)施例 的側(cè)視示意圖、出光示意圖及光型分布圖。如圖所示，該發(fā)光元件32 所產(chǎn)生的光束是通過(guò)透鏡33的反射層33b的反射后，經(jīng)由出光面33a 射至外界，而形成均勻集中的光場(chǎng)分布。由于該出光面33a可為任意 的形狀，所以本發(fā)明的光束射出時(shí)除了讓出射光束有較佳的指向性外， 并可在被照射面上有特殊的光型分布35，以提供照射范圍內(nèi)適當(dāng)?shù)恼?度和所需求的光照型式。
請(qǐng)參閱圖13，其是本發(fā)明的發(fā)光裝置的制造方法流程圖。并一同 參閱圖4或者圖6，本發(fā)明的發(fā)光裝置的制造方法包括以下步驟。
在步驟SIO中，將發(fā)光元件設(shè)置于一基座上，其中，該基座可以設(shè)有反射壁，或者不需要設(shè)置反射壁。
在步驟S11中，提供一透鏡，并將透鏡封裝于基座上。
在步驟S12中，利用一鍍膜方式，將透鏡表面的局部區(qū)域鍍上反 射層。該鍍膜方式，可為現(xiàn)有的真空鍍膜及電鍍，但其它能獲得類似 或相同效果的現(xiàn)有方法也適用之。
請(qǐng)參閱圖14，其是本發(fā)明的發(fā)光裝置的制造方法中利用真空鍍膜 形成反射層的流程圖，如圖所示，其包括以下步驟。
在步驟S20中，設(shè)定透鏡表面的鍍膜區(qū)域。
在步驟S21中，提供一遮罩罩覆于透鏡表面的鍍膜區(qū)域以外的區(qū)域。
在步驟S22中，依據(jù)該鍍膜區(qū)域的形狀在透鏡的局部表面(即該鍍 膜區(qū)域)鍍上反射層。
在步驟S23中，將遮罩移除。
通過(guò)以上述步驟，即可將反射層形成于透鏡表面的特定區(qū)域。 請(qǐng)?jiān)賲㈤唸D15，其是本發(fā)明的發(fā)光裝置的制造方法中利用電鍍形 成反射層的流程圖，如圖所示，其包括以下步驟。 在步驟S30中，設(shè)定透鏡表面的鍍膜區(qū)域。 在步驟S31中，在透鏡表面的鍍膜區(qū)域鍍上一層透明導(dǎo)電層。 在步驟S32中，在鍍膜區(qū)域的透明導(dǎo)電層上鍍上一層反射層。 通過(guò)以上述步驟，即可將反射層形成于透鏡表面的特定區(qū)域。 需特別說(shuō)明的是，在本實(shí)施例中，是以真空鍍膜及電鍍方式舉例 說(shuō)明，當(dāng)然在其他實(shí)施例中，也可以其他鍍膜方式形成反射層。但是， 鍍膜方式乃業(yè)界所周知，且并非本發(fā)明的技術(shù)特征，故不在此贅述。
在本實(shí)施例中，較佳的，為在提供透鏡的步驟Sll前，更包括以 螢光粉層321罩覆發(fā)光元件32的步驟，或者是步驟S10中所提供的該 發(fā)光元件32原本即罩覆有螢光粉層321，用以例如將發(fā)光元件32發(fā)射 出的藍(lán)光激發(fā)螢光粉產(chǎn)生黃光，使得藍(lán)光與黃光混合產(chǎn)生白光。同時(shí) 保護(hù)該發(fā)光元件32不受外界污染、氧化及侵蝕等。
在本實(shí)施例中，該發(fā)光元件32為發(fā)光二極管芯片，其設(shè)于基座31 上，使發(fā)光元件32所產(chǎn)生的光束，通過(guò)透鏡33的反射層33b反射后， 再折射穿過(guò)該出光面33a而朝向預(yù)期的方向射出。再者，透鏡33為封裝透鏡，其表面具有圓弧的曲面，并封裝于基座31上。反射層33b形 成于透鏡33表面的特定區(qū)域，藉以令發(fā)光元件32所產(chǎn)生的光束，經(jīng) 透鏡33表面的反射層33b反射后，穿過(guò)該出光面33a而朝向預(yù)期的方 向射出并在外部的被照射面(未圖示)上形成特殊光照分布35。據(jù)此， 即可形成具有指向性的光束和特殊光型，并達(dá)到光束集中、減少雜散 光及提升光使用效率等目的。
綜上所述，本發(fā)明的發(fā)光裝置及其制造方法，主要是提供一種封 裝方式來(lái)使得出射光束具有指向性并能在被照射面上形成特殊光型以 達(dá)到均勻的照明效果，其主要是利用該透鏡的特殊設(shè)計(jì)并在特定區(qū)域 表面形成反射層，再使該發(fā)光元件所產(chǎn)生的光束投射于該反射層后， 經(jīng)過(guò)反射使光線皆朝向出光面，再經(jīng)由折射后朝特定的方向射出，故 能將光束集中及提升光使用率。因此，通過(guò)反射層形成于透鏡表面不 同的位置時(shí)，即可產(chǎn)生具有不同方向性的光束，以因應(yīng)不同情況的需 求。再者，本發(fā)明結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，制造上無(wú)需高額成本，所以，能夠降低 整體制造成本。由上可知，本發(fā)明的發(fā)光裝置及其制造方法實(shí)已解決 現(xiàn)有技術(shù)中無(wú)法形成特殊指向性的光束、光束無(wú)法集中及光束散射而 降低光效率的種種缺陷，實(shí)具有高度產(chǎn)業(yè)利用價(jià)值。
以上所述僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施方式，并非用以限定本發(fā)明的范 圍，本發(fā)明事實(shí)上仍可做其他改變，因此，凡本領(lǐng)域技術(shù)人員在未脫
離本發(fā)明所揭示的精神與技術(shù)思想下所完成的一切等效修飾或改變， 仍應(yīng)由權(quán)利要求書(shū)的范圍所涵蓋。
權(quán)利要求
1、一種發(fā)光裝置，其特征在于，包括基座；發(fā)光元件，設(shè)于該基座上；以及透鏡，設(shè)于該基座上并罩覆該發(fā)光元件，該透鏡具有出光面及反射層，且該反射層形成于該透鏡的一區(qū)域表面，從而使該發(fā)光元件產(chǎn)生的光束反射穿出該出光面。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光裝置，其特征在于該基座具有反 射壁。
3、 根據(jù)權(quán)利要求2所述的發(fā)光裝置，其特征在于該基座具有向 內(nèi)凹設(shè)的容置空間，且該反射壁形成于該容置空間的壁面。
4、 根據(jù)權(quán)利要求3所述的發(fā)光裝置，其特征在于該發(fā)光元件設(shè) 置于該容置空間內(nèi)。
5、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光裝置，其特征在于該發(fā)光元件為 發(fā)光二極管芯片。
6、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光裝置，其特征在于該發(fā)光元件罩 覆有一螢光粉層。
7、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光裝置，其特征在于該透鏡為封裝 透鏡。
8、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光裝置，其特征在于該透鏡的表面 是選自圓弧面、圓曲面及不規(guī)則曲面所組成的群組的其中一者。
9、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光裝置，其特征在于該反射層的材 料為金屬。
10、 根據(jù)權(quán)利要求9所述的發(fā)光裝置，其特征在于該金屬是選自金、銀、鋁、鉑及鈀所組成的群組的其中一者。
11、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光裝置，其特征在于該反射層的 材料為非金屬。
12、 根據(jù)權(quán)利要求1或第2所述的發(fā)光裝置，其特征在于該反 射層形成于該透鏡的該區(qū)域表面，而該出光面形成于該透鏡的另一區(qū) 域表面，從而使該出光面形成特定的形狀，以及使該光束朝特定的方 向射出并形成特定的光照型式。
13、 根據(jù)權(quán)利要求12所述的發(fā)光裝置，其特征在于該透鏡的該 出光面是利用該透鏡的材料性質(zhì)或結(jié)構(gòu)性質(zhì)，使該光束經(jīng)折射地或者 不經(jīng)折射地射出。
14、 一種發(fā)光裝置的制造方法，其特征在于，包括 提供基座；將發(fā)光元件設(shè)置于該基座上； 以透鏡罩覆該基座上的該發(fā)光元件；以及 以鍍膜方式形成反射層于該透鏡的一區(qū)域表面上。
15、 根據(jù)權(quán)利要求14所述的發(fā)光裝置的制造方法，其特征在于-該基座具有反射壁。
16、 根據(jù)權(quán)利要求14所述的發(fā)光裝置的制造方法，其特征在于-在將該發(fā)光元件設(shè)置于該基座上的步驟之后，更包括以螢光粉層罩覆 該發(fā)光元件的步驟。
17、 根據(jù)權(quán)利要求16所述的發(fā)光裝置的制造方法，其特征在于 該鍍膜方式為真空鍍膜法。
18、 根據(jù)權(quán)利要求17所述的發(fā)光裝置的制造方法，其特征在于， 該鍍膜方式包括在該透鏡上設(shè)定鍍膜區(qū)域； 以一遮罩罩覆該透鏡的該鍍膜區(qū)域以外的區(qū)域；形成該反射層于該透鏡的該鍍膜區(qū)域上；以及 移除該遮罩。
19、 根據(jù)權(quán)利要求14所述的發(fā)光裝置的制造方法，其特征在于-該鍍膜方式為電鍍法。
20、 根據(jù)權(quán)利要求19所述的發(fā)光裝置的制造方法，其特征在于， 該鍍膜方式包括在該透鏡上設(shè)定鍍膜區(qū)域； 在該透鏡的該鍍膜區(qū)域鍍上透明導(dǎo)電層；以及 在該鍍膜區(qū)域的該透明導(dǎo)電層上鍍上該反射層。
21、 根據(jù)權(quán)利要求15所述的發(fā)光裝置的制造方法，其特征在于 該基座具有向內(nèi)凹的容置空間，且該反射壁位于該容置空間的壁面。
22、 根據(jù)權(quán)利要求21所述的發(fā)光裝置的制造方法，其特征在于 該發(fā)光元件設(shè)置于該容置空間內(nèi)。
23、 根據(jù)權(quán)利要求14所述的發(fā)光裝置的制造方法，其特征在于 該發(fā)光元件為發(fā)光二極管芯片。
24、 根據(jù)權(quán)利要求14所述的發(fā)光裝置的制造方法，其特征在于 該透鏡表面是選自圓弧面、圓曲面及不規(guī)則曲面所組成的群組的其中 一者。
25、 根據(jù)權(quán)利要求14所述的發(fā)光裝置的制造方法，其特征在于 該反射層的材料為金屬。
26、 根據(jù)權(quán)利要求25所述的發(fā)光裝置的制造方法，其特征在于 該金屬是選自包括金、銀、鋁、鉑及鈀所組成的群組的其中一者。
27、 根據(jù)權(quán)利要求14所述的發(fā)光裝置的制造方法，其特征在于 該反射層的材料為非金屬。
全文摘要
一種發(fā)光裝置及其制造方法。該發(fā)光裝置包括基座、設(shè)于該基座上的發(fā)光元件以及具有出光面與反射層的透鏡，其中該透鏡罩覆該基座上的該發(fā)光元件，且該反射層形成于該透鏡的表面，藉以令該反射層聚集性地反射該發(fā)光元件所產(chǎn)生的光束，并通過(guò)光束與出光面產(chǎn)生折射使該光束偏折朝特定方向射出，而在外部的被照射面上產(chǎn)生特殊的光型分布。
文檔編號(hào)F21S2/00GK101608748SQ20091014631
公開(kāi)日2009年12月23日 申請(qǐng)日期2009年6月19日 優(yōu)先權(quán)日2008年6月20日
發(fā)明者孫瑞宏 申請(qǐng)人:和椿科技股份有限公司