專利名稱：掃描電子顯微鏡硅片樣品觀察的樣品臺的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體行業(yè)的測試分析技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種掃描電子 顯微鏡硅片樣品觀察的樣品臺。
背景技術(shù)：
掃描電子顯微鏡是通過高能電子入射固體樣品表面，與樣品的原子核 和核外電子發(fā)生彈性或非彈性散射，激發(fā)樣品產(chǎn)生各種物理信號，利用電 子檢測器，接收信號形成圖像。
掃描電子顯微鏡廣泛應(yīng)用在半導(dǎo)體電子產(chǎn)業(yè)中，觀察半導(dǎo)體芯片的斷 面和表面的形貌，以及對待測樣品的成分進(jìn)行確認(rèn)等。
現(xiàn)有的掃描電子顯微鏡硅片樣品觀察的樣品臺一般分為兩種， 一種是 設(shè)有裝載硅片的槽，將硅片豎直放置其中以便觀察硅片斷面的樣品臺，另 一種是觀察硅片表面的樣品臺， 一般將硅片平放固定到樣品臺上再利用掃 描電子顯微鏡觀察硅片樣品的表面。
在現(xiàn)有技術(shù)中為了利用掃描電子顯微鏡觀察硅片的斷面和表面，通常 需要同時準(zhǔn)備觀察硅片斷面的樣品臺和觀察硅片表面的樣品臺，使測試工 作的物質(zhì)成本增加了一倍。
另外，利用現(xiàn)有的樣品臺觀察同一片硅片的斷面和表面時，需要先將 硅片放置在觀察硅片斷面的樣品臺上觀察樣品的斷面，觀察完畢之后將樣 品取下，再將樣品置于觀察樣品表面的樣品臺上觀察樣品的表面。這樣需要不停的替換樣品臺，不僅繁瑣，增加時間，降低生產(chǎn)效率，還大大增加 了測試工作的人工成本。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是提供一種掃描電子顯微鏡硅片樣品觀察 的樣品臺，可以在同一個樣品臺上觀察硅片的斷面形貌和表面圖形，減少 工作量，提高工作效率。
為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明掃描電子顯微鏡硅片樣品觀察的樣品臺 的技術(shù)方案是，包括底座和與底座相配合的放置樣品的平臺，放置樣品的
平臺表面設(shè)有與平臺表面成15度至90度的活動槽，該活動槽設(shè)有調(diào)節(jié)活 動槽寬度的活動槽寬度調(diào)節(jié)裝置。
作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)是，活動槽寬度調(diào)節(jié)裝置為設(shè)置在每條活動 槽底部、內(nèi)置螺絲且?guī)в新菁y的小孔。
作為本發(fā)明另一種進(jìn)一步改進(jìn)是，活動槽將放置樣品的平臺表面分為 多個區(qū)域，并以字母或者數(shù)字區(qū)分平臺表面的不同區(qū)域。
本發(fā)明以與平臺表面成15度至90度的活動槽，當(dāng)硅片放置在活動槽 中時通過調(diào)節(jié)掃描電子顯微鏡的角度，可以無需移動硅片而在同一個樣品 臺上觀察硅片的斷面和表面。本發(fā)明可以節(jié)約時間，降低工藝成本。


下面結(jié)合附圖和實施例對本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)的說明 圖1為本發(fā)明樣品臺平臺表面示意圖； 圖2為本發(fā)明樣品臺活動槽側(cè)面示意圖；圖3為本發(fā)明活動槽寬度調(diào)節(jié)裝置示意圖。
圖中附圖標(biāo)記為與平臺表面成15度至90度的活動槽為10，螺絲為20， 小孔為30。
具體實施例方式
如圖1、圖2所示，圖1為本發(fā)明樣品臺平臺表面示意圖。金屬樣品臺 的平臺長50mm，寬40mm，厚8 mm，在樣品臺的平臺表面設(shè)有4條與平 臺表面成23度的活動槽10，該活動槽10之間的距離約為7mm，每個活動 槽IO深度為0.3mm，槽寬為lmm。該活動槽與樣品臺平臺表面的角度也可 以在15度至90度之間。
如圖1至圖3所示，該樣品臺還包括設(shè)置在活動槽底部，調(diào)節(jié)活動槽 寬度的活動槽寬度調(diào)節(jié)裝置。該活動槽寬度調(diào)節(jié)裝置為設(shè)置在每條活動槽 10底部、內(nèi)置螺絲20且?guī)в新菁y的小孔30。該螺絲20和該小孔30的螺 紋向螺合，通過轉(zhuǎn)動螺絲調(diào)節(jié)活動槽的寬度。兩個小孔30設(shè)置在活動槽10 的底部，且小孔之間間隔為16nim。
為方便樣品觀察，在活動槽10上下數(shù)字標(biāo)注區(qū)分不同的區(qū)域，每個活 動槽10可以放置兩個樣品，4條活動槽可同時放置4組不同厚度的8個樣 品進(jìn)行觀察，使觀察者在放置完樣品后能在掃描電子顯微鏡觀察過程中輕 易的找到自己需要的樣品進(jìn)行斷面和表面觀察。
在利用本發(fā)明掃描電子顯微鏡硅片樣品觀察的樣品臺觀察硅片的斷面 和表面時，對應(yīng)活動槽IO邊的數(shù)字將樣品插入活動槽IO，將需要觀察的面 向上，調(diào)節(jié)活動槽底部的螺絲20固定樣品，并記下放置區(qū)域。將樣品臺放入掃描電子顯微鏡進(jìn)行觀察，在低倍下找到放置樣品區(qū)域，以數(shù)字區(qū)分需 要觀察的樣品，轉(zhuǎn)成高倍進(jìn)行表面觀察。再完成了硅片的表面觀察之后，
將掃描電子顯微鏡轉(zhuǎn)動23度對硅片進(jìn)行斷面觀察。觀察硅片斷面時，在低 倍下找到放置樣品區(qū)域，以數(shù)字區(qū)分需要觀察的樣品，轉(zhuǎn)成高倍進(jìn)行斷面 觀察。
本發(fā)明通過在樣品臺的平臺上設(shè)置與樣品臺平臺呈一定的角度活動 槽，在觀察硅片的表面之后將掃描電子顯微鏡轉(zhuǎn)動一定的角度就可以進(jìn)行 硅片的斷面觀察。而且本發(fā)明通過在樣品臺上設(shè)置多個活動槽，并以數(shù)字 或字母區(qū)分樣品臺的不同區(qū)域，可以在一個樣品臺上觀察多個硅片的斷面 形態(tài)和表面形狀。本發(fā)明可以利用一個樣品臺同時觀察硅片的斷面和表面， 節(jié)約了測試工作的物質(zhì)成本，同時利用本發(fā)明可以無需取下和再次放置硅 片而同時觀察硅片的斷面和表面，節(jié)約了工作的時間，降低工作成本，提 高工作效率。
權(quán)利要求
1. 一種掃描電子顯微鏡硅片樣品觀察的樣品臺，包括底座和與底座相配合的放置樣品的平臺，其特征在于，放置樣品的平臺表面設(shè)有與平臺表面成15度至90度的活動槽，該活動槽設(shè)有調(diào)節(jié)活動槽寬度的活動槽寬度調(diào)節(jié)裝置。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的掃描電子顯微鏡硅片樣品觀察的樣品臺，其 特征在于，所述的與平臺表面成15度至90度的活動槽有多個。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的掃描電子顯微鏡硅片樣品觀察的樣品臺，其 特征在于，活動槽寬度調(diào)節(jié)裝置為設(shè)置在每條活動槽底部、內(nèi)置螺絲且?guī)?有螺紋的小孔。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的掃描電子顯微鏡硅片樣品觀察的樣品臺，其 特征在于，活動槽底部有兩個小孔，且小孔之間間隔為16mm。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的掃描電子顯微鏡硅片樣品觀察的樣品臺，其 特征在于，活動槽將放置樣品的平臺表面分為多個區(qū)域，并以字母或者數(shù) 字區(qū)分平臺表面的不同區(qū)域。
6. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的掃描電子顯微鏡硅片樣品觀察的樣品臺，其 特征在于，活動槽與平臺表面成23度。
7. 根據(jù)權(quán)利要求1或5所述的掃描電子顯微鏡硅片樣品觀察的樣品臺， 其特征在于，活動槽的槽深度為0. 3mm，槽寬lmm。
8. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的掃描電子顯微鏡硅片樣品觀察的樣品臺，其 特征在于，兩條活動槽之間間隔7nim。
9. 根據(jù)權(quán)利要求1或5所述的掃描電子顯微鏡硅片樣品觀察的樣品臺，其特征在于，放置樣品的平臺長50mm，寬40 mm， 厚8 mm。
10.根據(jù)權(quán)利要求1或5所述的掃描電子顯微鏡硅片樣品觀察的樣品 臺，其特征在于，樣品臺為金屬材質(zhì)。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種掃描電子顯微鏡硅片樣品觀察的樣品臺，包括底座和與底座相配合的放置樣品的平臺，放置樣品的平臺表面設(shè)有與平臺表面成15度至90度的活動槽，該活動槽設(shè)有調(diào)節(jié)活動槽寬度的活動槽寬度調(diào)節(jié)裝置。本發(fā)明通過在樣品臺的平臺上設(shè)置與樣品臺平臺呈一定的角度活動槽，在觀察硅片的表面之后將掃描電子顯微鏡轉(zhuǎn)動一定的角度就可以進(jìn)行硅片的斷面觀察，節(jié)約了工作的時間，降低工作成本，提高工作效率。
文檔編號H01J37/20GK101441970SQ20071009425
公開日2009年5月27日 申請日期2007年11月22日 優(yōu)先權(quán)日2007年11月22日
發(fā)明者鶯 裘 申請人:上海華虹Nec電子有限公司