專(zhuān)利名稱(chēng):帶有副柵極的背柵結(jié)構(gòu)的平板顯示器及其制作工藝的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本發(fā)明屬于平面顯示技術(shù)領(lǐng)域、微電子科學(xué)與技術(shù)領(lǐng)域、真空科學(xué)與技術(shù)領(lǐng)域以及納米科學(xué)技術(shù)領(lǐng)域的相互交叉領(lǐng)域,涉及到平板場(chǎng)致發(fā)射顯示器的器件制作,具體涉及到碳納米管陰極的平板場(chǎng)致發(fā)射顯示器的器件制作方面的內(nèi)容,特別涉及到帶有副柵極的背柵結(jié)構(gòu)的、碳納米管陰極的場(chǎng)致發(fā)射平面顯示器件的制作工藝。
背景技術(shù):
碳納米管具有小的尖端曲率半徑、高的縱橫比率,良好的導(dǎo)電性能,優(yōu)秀的場(chǎng)致發(fā)射特性以及極高的機(jī)械強(qiáng)度,是一種比較理想的冷陰極制作材料,已經(jīng)引起了眾多研究者們的高度關(guān)注。利用碳納米管作為陰極而制作的場(chǎng)致發(fā)射平板顯示器是近來(lái)一種新興的平面器件,具有高亮度、高清晰度、完全平面化、寬視角、薄型化等諸多優(yōu)點(diǎn),其應(yīng)用越來(lái)越廣泛,具有十分廣闊的發(fā)展空間。
為了降低整體器件的生產(chǎn)成本,以便于能夠和常規(guī)的集成驅(qū)動(dòng)電路相結(jié)合起來(lái),制作三極結(jié)構(gòu)的場(chǎng)致發(fā)射顯示器件已經(jīng)成為了一種必然的選擇。在三極結(jié)構(gòu)的碳納米管陰極平板顯示器件中,柵極是一個(gè)比較關(guān)鍵的元件,它對(duì)碳納米管陰極的電子發(fā)射起著必要的控制作用,而柵極結(jié)構(gòu)的好與壞也直接影響著整體器件的制作是否成功。目前,大多數(shù)的平板顯示器件都選擇了柵極結(jié)構(gòu)位于碳納米管陰極上方的結(jié)構(gòu)形式,柵極結(jié)構(gòu)的強(qiáng)有力控制作用明顯,制作工藝比較簡(jiǎn)單,但是所形成的柵極電流比較大,工作電壓有些偏高,對(duì)于制作材料的要求比較嚴(yán)格,這是其不利之處。因此,如何選擇適合的柵極結(jié)構(gòu)形式以及選擇適合的制作工藝,就是研究人員所面臨的一個(gè)現(xiàn)實(shí)問(wèn)題。在三極結(jié)構(gòu)的平板顯示器件當(dāng)中,柵極和碳納米管陰極之間的間距也是一個(gè)比較關(guān)鍵的因素,二者之間的距離越小,則控制電壓也就下降,這是符合降低整體器件工作電壓的要求的,但是隨著二者之間的距離越來(lái)越小,對(duì)于器件的制作材料和制作工藝的要求也越來(lái)越高,在很多情況下是無(wú)法實(shí)現(xiàn)的,因此,這就要求研究人員在綜合考慮器件結(jié)構(gòu)和器件制作工藝、器件制作材料等因素的基礎(chǔ)上來(lái)選擇合適的結(jié)構(gòu)形式。
此外,在確保柵極結(jié)構(gòu)對(duì)碳納米管陰極具有良好控制作用的前提下,還需要盡可能的降低總體器件成本,進(jìn)行穩(wěn)定可靠、成本低廉、性能優(yōu)良、高質(zhì)量的器件制作。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于克服上述平板顯示器件中存在的缺點(diǎn)而提供一種成本低廉、制作過(guò)程穩(wěn)定可靠、制作成功率高、結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單的帶有副柵極的背柵結(jié)構(gòu)的平板顯示器件及其制作工藝。
本發(fā)明的目的是這樣實(shí)現(xiàn)的一種帶有副柵極的背柵結(jié)構(gòu)的平板顯示器,包括由陰極面板、陽(yáng)極面板和四周玻璃圍框所構(gòu)成的密封真空腔;在陰極面板上有碳納米管陰極、陰極導(dǎo)電層;在陽(yáng)極面板上有光刻的陽(yáng)極導(dǎo)電層以及制備在陽(yáng)極導(dǎo)電層上面的熒光粉層;支撐墻結(jié)構(gòu)以及消氣劑附屬元件,在陰極面板上制作有用于控制碳納米管陰極電子發(fā)射的帶有副柵極的背柵結(jié)構(gòu),帶有副柵極的背柵結(jié)構(gòu)的固定位置為安裝固定在陰極面板上,柵極導(dǎo)電層位于碳納米管陰極的背部,控制碳納米管陰極的電子發(fā)射,同時(shí)副柵極位于碳納米管陰極的側(cè)向;帶有副柵極的背柵結(jié)構(gòu)的陰極面板上存在著柵極導(dǎo)電層,柵極導(dǎo)電層的上面存在一個(gè)二氧化硅絕緣層,此二氧化硅絕緣層完全覆蓋住陰極面板和柵極導(dǎo)電層;此二氧化硅層充當(dāng)柵極和陰極之間的絕緣層;二氧化硅絕緣層經(jīng)刻蝕形成連接孔;此連接孔,將二氧化硅絕緣層下面的柵極導(dǎo)電層和二氧化硅絕緣層上面的副柵極金屬層相互連接起來(lái),帶有副柵極的背柵結(jié)構(gòu)的副柵極金屬層的上面存在一個(gè)二氧化硅覆蓋層,此二氧化硅覆蓋層位于副柵極金屬層的上方,將副柵極金屬層完全覆蓋??;陰極導(dǎo)電層的上面存在一個(gè)催化劑金屬層,催化劑金屬層的圖案和陰極導(dǎo)電層的圖案相同;陰極導(dǎo)電層和柵極導(dǎo)電層的走向相互垂直,二氧化硅絕緣層的上面存在一個(gè)金屬層,刻蝕后的金屬層分為兩部分,一部分形成碳納米管陰極的陰極導(dǎo)電層,另一部分形成副柵極金屬層,并且該副柵極金屬層和底部的柵極導(dǎo)電層相互連通。
柵極導(dǎo)電層為錫銦氧化物膜層或金、銀、錫、鉬、鎢金屬層。
所述的帶有副柵極的背柵結(jié)構(gòu)的二氧化硅絕緣層上面的金屬層為金屬金、銀、錫、鉬、銦。
一種帶有副柵極的背柵結(jié)構(gòu)的平板顯示器的制作工藝,其制作工藝如下A、陽(yáng)極板的制作1)、陽(yáng)極面板的制作對(duì)整體玻璃進(jìn)行劃片,除掉灰塵和雜質(zhì),形成陽(yáng)極面板;2)、陽(yáng)極導(dǎo)電層的制作在陽(yáng)極面板的上面蒸鍍一層錫銦氧化物膜層;結(jié)合常規(guī)的光刻工藝,對(duì)錫銦氧化物膜層進(jìn)行刻蝕,形成陽(yáng)極導(dǎo)電層;3)、絕緣漿料層的制作結(jié)合絲網(wǎng)印刷工藝,在陽(yáng)極導(dǎo)電層的非顯示區(qū)域印刷絕緣漿料層,用于防止寄生電子發(fā)射,在150℃±10℃的溫度條件下烘烤5~15分鐘之后,放置在燒結(jié)爐中進(jìn)行580℃±10℃的高溫?zé)Y(jié),保持時(shí)間為5~15分鐘;
4)、熒光粉層的制作結(jié)合絲網(wǎng)印刷工藝,在陽(yáng)極導(dǎo)電層上面的顯示區(qū)域印刷熒光粉層,放置在烘箱中,在120℃±10℃的溫度條件下烘烤5~15分鐘;B、陰極板的制作碳納米管陰極的生長(zhǎng)利用催化劑金屬層作為生長(zhǎng)碳納米管用的催化劑,結(jié)合直接生長(zhǎng)法,在金屬過(guò)渡層的上面制備出碳納米管陰極;C、器件裝配將陰極面板、陽(yáng)極面板以及玻璃圍框、支撐墻結(jié)構(gòu)裝配到一起,并將消氣劑放入到空腔當(dāng)中,用低熔點(diǎn)玻璃粉固定,在玻璃面板的四周涂抹好低熔點(diǎn)玻璃粉,用夾子固定;D、成品制作對(duì)已經(jīng)裝配好的器件進(jìn)行如下的封裝工藝1)、將樣品器件放入烘箱當(dāng)中進(jìn)行烘烤;2)、放入燒結(jié)爐當(dāng)中進(jìn)行高溫?zé)Y(jié);3)、在排氣臺(tái)上進(jìn)行器件排氣、封離,在烤消機(jī)上對(duì)器件內(nèi)部的消氣劑進(jìn)行烤消,最后加裝管腳形成所需要的平板顯示器。
帶有副柵極的背柵結(jié)構(gòu)包括陰極面板、柵極導(dǎo)電層、二氧化硅絕緣層、連接孔、副柵極金屬層、陰極導(dǎo)電層、二氧化硅覆蓋層、催化劑金屬層部分,并采用如下的工藝進(jìn)行制作1)、陰極面板的制作對(duì)整體玻璃進(jìn)行劃片,形成陰極面板;2)、柵極導(dǎo)電層的制作在陰極面板上蒸鍍上一層金屬鉬,然后結(jié)合常規(guī)的光刻工藝,對(duì)金屬鉬層進(jìn)行刻蝕,形成柵極導(dǎo)電層;3)、二氧化硅絕緣層的制作在陰極面板上制備出二氧化硅絕緣層,此二氧化硅絕緣層充當(dāng)柵極和陰極之間的絕緣隔離層;此二氧化硅絕緣層覆蓋住陰極面板和柵極導(dǎo)電層;4)、連接孔的制作結(jié)合常規(guī)的光刻工藝,對(duì)二氧化硅絕緣層進(jìn)行刻蝕,形成連接孔;此連接孔將二氧化硅絕緣層下面的柵極導(dǎo)電層和二氧化硅絕緣層上面的副柵極金屬層相互連接起來(lái);5)、副柵極金屬層和陰極導(dǎo)電層的制作在二氧化硅絕緣層的上面蒸鍍一個(gè)金屬鉬層,此金屬鉬層覆蓋住二氧化硅絕緣層;結(jié)合常規(guī)的光刻工藝對(duì)金屬鉬層進(jìn)行刻蝕,將金屬鉬層分為兩部分一部分形成碳納米管陰極的陰極導(dǎo)電層,另一部分形成副柵極金屬層,并且該副柵極金屬層和底部的柵極導(dǎo)電層通過(guò)連接孔相互連通;6)、二氧化硅覆蓋層的制作在副柵極金屬層的上面制備出一個(gè)二氧化硅覆蓋層,此二氧化硅覆蓋層位于副柵極金屬層的上方,將副柵極金屬層完全覆蓋??;7)、催化劑金屬層的制作在陰極導(dǎo)電層上蒸鍍上一層金屬鎳,然后結(jié)合常規(guī)的光刻工藝,對(duì)金屬鎳層進(jìn)行刻蝕,形成催化劑金屬層;催化劑金屬層的圖案和陰極導(dǎo)電層的圖案完全相同;8)、玻璃表面的清潔處理對(duì)陰極面板玻璃表面進(jìn)行清潔處理,除掉雜質(zhì)和灰塵;本發(fā)明具有如下的積極效果本發(fā)明中的最主要特點(diǎn)在于制作了副柵極的背柵結(jié)構(gòu),并制作了帶有副柵極的背柵結(jié)構(gòu)的、碳納米管陰極的場(chǎng)致發(fā)射平板發(fā)光顯示器件。
本發(fā)明中的帶有副柵極的背柵結(jié)構(gòu)中的柵極結(jié)構(gòu)主要位于碳納米管陰極的下方,對(duì)于碳納米管陰極的電子發(fā)射起著強(qiáng)有力的控制作用。當(dāng)在柵極上施加適當(dāng)電壓以后,碳納米管就會(huì)發(fā)射出大量的電子,所發(fā)射的電子不會(huì)受到柵極結(jié)構(gòu)的截流,所形成的柵極電流也比較小,極大地提高了碳納米管陰極的場(chǎng)致發(fā)射效率,提高了整體顯示器件的發(fā)光效率,有效的降低了器件的工作電壓。
在本發(fā)明中的帶有副柵極的背柵結(jié)構(gòu)中,在二氧化硅絕緣層的上面存在一個(gè)副柵極。眾所周知,柵極和碳納米管陰極之間的距離是一個(gè)比較關(guān)鍵的影響因素,二者之間的距離越小,則用于控制碳納米管電子發(fā)射的電壓也就越低,這是符合整體器件低工作電壓的要求的。在帶有副柵極的背柵結(jié)構(gòu)中,已經(jīng)盡可能的將二氧化硅絕緣層的厚度作的小一些,以便于確保低的柵極工作電壓。但是受到絕緣層擊穿強(qiáng)度的限制,不可能將絕緣層制作的過(guò)薄。如果二氧化硅層過(guò)薄,則容易引起柵極和陰極之間的電學(xué)擊穿,另外,在制作材料和制作工藝上也不容易實(shí)現(xiàn)。這種情況下,在二氧化硅絕緣層上制作了連接孔,然后通過(guò)連接孔將位于二氧化硅絕緣層下面的柵極導(dǎo)電層和位于二氧化硅上面的副柵極金屬層相互連接起來(lái)。結(jié)合精確的光刻工藝,能夠?qū)⒏睎艠O金屬層和碳納米管陰極層之間的距離進(jìn)一步減小,并且還不受具體材料材質(zhì)的限制,位于二氧化硅絕緣層下面的柵極導(dǎo)電層也不會(huì)受到任何影響。這樣,也就是說(shuō),通過(guò)副柵極結(jié)構(gòu),能夠?qū)⑻技{米管陰極和柵極之間的距離進(jìn)一步縮減,進(jìn)一步有效的降低了器件的工作電壓。
另外,在本發(fā)明中的帶有副柵極的背柵結(jié)構(gòu)中,在陰極導(dǎo)電層的上面又制作了催化劑金屬層,這就為后續(xù)工藝中碳納米管陰極的生長(zhǎng)作了充分的準(zhǔn)備。這樣,就可以在陰極導(dǎo)電層的上面直接進(jìn)行碳納米管的生長(zhǎng)了,也就使得柵極結(jié)構(gòu)和碳納米管陰極高度集成到一起,既簡(jiǎn)化了整體器件的制作工藝,同時(shí)也有利于進(jìn)一步提高整體器件的顯示分辨率。
此外,在本發(fā)明中的帶有副柵極的背柵結(jié)構(gòu)中,并沒(méi)有采用特殊的結(jié)構(gòu)制作材料,也沒(méi)有采用特殊的器件制作工藝,這在很大程度上就進(jìn)一步降低了整體平板顯示器件的制作成本,簡(jiǎn)化了器件的制作過(guò)程,能夠進(jìn)行大面積的器件制作,有利于進(jìn)行商業(yè)化的大規(guī)模生產(chǎn)。
圖1給出了帶有副柵極的背柵結(jié)構(gòu)的縱向結(jié)構(gòu)示意圖;圖2給出了帶有副柵極的背柵結(jié)構(gòu)的橫向結(jié)構(gòu)示意圖;圖3給出了帶有副柵極的背柵結(jié)構(gòu)的、碳納米管場(chǎng)致發(fā)射平面顯示器的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施例方式
下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行進(jìn)一步說(shuō)明,但本發(fā)明并不局限于這些實(shí)施例。
一種帶有副柵極的背柵結(jié)構(gòu)的平板顯示器,包括由陰極面板1、陽(yáng)極面板9和四周玻璃圍框15所構(gòu)成的密封真空腔;在陰極面板1上有碳納米管陰極16、陰極導(dǎo)電層6;在陽(yáng)極面板9上有光刻的陽(yáng)極導(dǎo)電層10以及制備在陽(yáng)極導(dǎo)電層上面的熒光粉層11;支撐墻結(jié)構(gòu)13以及消氣劑附屬元件14,在陰極面板1上制作有用于控制碳納米管16陰極電子發(fā)射的帶有副柵極的背柵結(jié)構(gòu),帶有副柵極的背柵結(jié)構(gòu)的固定位置為安裝固定在陰極面板上,柵極導(dǎo)電層位于碳納米管陰極的背部,控制碳納米管陰極的電子發(fā)射,同時(shí)副柵極位于碳納米管陰極的側(cè)向;帶有副柵極的背柵結(jié)構(gòu)的陰極面板上存在著柵極導(dǎo)電層,柵極導(dǎo)電層的上面存在一個(gè)二氧化硅絕緣層,此二氧化硅絕緣層完全覆蓋住陰極面板和柵極導(dǎo)電層;此二氧化硅層充當(dāng)柵極和陰極之間的絕緣層;二氧化硅絕緣層經(jīng)刻蝕形成連接孔;此連接孔,將二氧化硅絕緣層下面的柵極導(dǎo)電層和二氧化硅絕緣層上面的副柵極金屬層相互連接起來(lái),帶有副柵極的背柵結(jié)構(gòu)的副柵極金屬層的上面存在一個(gè)二氧化硅覆蓋層,此二氧化硅覆蓋層位于副柵極金屬層的上方,將副柵極金屬層完全覆蓋??;陰極導(dǎo)電層的上面存在一個(gè)催化劑金屬層,催化劑金屬層的圖案和陰極導(dǎo)電層的圖案相同;陰極導(dǎo)電層和柵極導(dǎo)電層的走向相互垂直,二氧化硅絕緣層的上面存在一個(gè)金屬層,刻蝕后的金屬層分為兩部分,一部分形成碳納米管陰極的陰極導(dǎo)電層,另一部分形成副柵極金屬層,并且該副柵極金屬層和底部的柵極導(dǎo)電層相互連通。
柵極導(dǎo)電層為錫銦氧化物膜層或金、銀、錫、鉬、鎢金屬層。所述的帶有副柵極的背柵結(jié)構(gòu)的二氧化硅絕緣層上面的金屬層為金屬金、銀、錫、鉬、銦。
本發(fā)明中的帶有副柵極的背柵結(jié)構(gòu)包括陰極面板1、柵極導(dǎo)電層2、二氧化硅絕緣層3、連接孔4、副柵極金屬層5、陰極導(dǎo)電層6、二氧化硅覆蓋層7、催化劑金屬層8部分,并采用如下的工藝進(jìn)行制作1、陰極面板的制作對(duì)整體玻璃進(jìn)行劃片,形成陰極面板;2、柵極導(dǎo)電層的制作在陰極面板上蒸鍍上一層金屬鉬,然后結(jié)合常規(guī)的光刻工藝,對(duì)金屬鉬層進(jìn)行刻蝕,形成柵極導(dǎo)電層;3、二氧化硅絕緣層的制作在陰極面板上制備出二氧化硅絕緣層,此二氧化硅絕緣層充當(dāng)柵極和陰極之間的絕緣隔離層;此二氧化硅絕緣層要覆蓋住陰極面板和柵極導(dǎo)電層。
4、連接孔的制作結(jié)合常規(guī)的光刻工藝,對(duì)二氧化硅絕緣層進(jìn)行刻蝕,形成連接孔;此連接孔能夠?qū)⒍趸杞^緣層下面的柵極導(dǎo)電層和二氧化硅絕緣層上面的副柵極金屬層相互連接起來(lái),但是與碳納米管陰極的陰極導(dǎo)電層無(wú)關(guān);5、副柵極金屬層和陰極導(dǎo)電層的制作在二氧化硅絕緣層的上面蒸鍍一個(gè)金屬鉬層,此金屬鉬層要完全覆蓋住二氧化硅絕緣層;結(jié)合常規(guī)的光刻工藝對(duì)金屬鉬層進(jìn)行刻蝕,將金屬鉬層分為兩部分一部分形成碳納米管陰極的陰極導(dǎo)電層,另一部分形成副柵極金屬層,并且該副柵極金屬層和底部的柵極導(dǎo)電層是通過(guò)連接孔相互連通的;6、二氧化硅覆蓋層的制作在副柵極金屬層的上面制備出一個(gè)二氧化硅覆蓋層,此二氧化硅覆蓋層僅僅位于副柵極金屬層的上方,將副柵極金屬層完全覆蓋??;7、催化劑金屬層的制作在陰極導(dǎo)電層上蒸鍍上一層金屬鎳,然后結(jié)合常規(guī)的光刻工藝,對(duì)金屬鎳層進(jìn)行刻蝕,形成催化劑金屬層;催化劑金屬層的圖案和陰極導(dǎo)電層的圖案完全相同。
8、玻璃表面的清潔處理對(duì)陰極面板玻璃表面進(jìn)行清潔處理,除掉雜質(zhì)和灰塵;本發(fā)明中帶有副柵極的背柵結(jié)構(gòu)的碳納米管場(chǎng)致發(fā)射平板顯示器的制作工藝如下A、陽(yáng)極板的制作1)、陽(yáng)極面板9的制作對(duì)整體玻璃進(jìn)行劃片,除掉灰塵和雜質(zhì),形成陽(yáng)極面板9;2)、陽(yáng)極導(dǎo)電層10的制作在陽(yáng)極面板9的上面蒸鍍一層錫銦氧化物膜層;結(jié)合常規(guī)的光刻工藝,對(duì)錫銦氧化物膜層進(jìn)行刻蝕,形成陽(yáng)極導(dǎo)電層10;3)、絕緣漿料層12的制作結(jié)合絲網(wǎng)印刷工藝,在陽(yáng)極導(dǎo)電層10的非顯示區(qū)域印刷絕緣漿料層12,用于防止寄生電子發(fā)射,在150℃±10℃的溫度條件下烘烤5~15分鐘之后,放置在燒結(jié)爐中進(jìn)行580℃±10℃的高溫?zé)Y(jié),保持時(shí)間為5~15分鐘;
4)、熒光粉層11的制作結(jié)合絲網(wǎng)印刷工藝,在陽(yáng)極導(dǎo)電層10上面的顯示區(qū)域印刷熒光粉層11,放置在烘箱中,在120℃±10℃的溫度條件下烘烤5~15分鐘;B、陰極板的制作1)、碳納米管16陰極的生長(zhǎng)利用催化劑金屬層8作為生長(zhǎng)碳納米管用的催化劑,結(jié)合直接生長(zhǎng)法,在金屬過(guò)渡層的上面制備出碳納米管16陰極;2)、碳納米管16陰極的后處理對(duì)碳納米管陰極進(jìn)行后處理,以進(jìn)一步改善碳納米管陰極的場(chǎng)致發(fā)射特性。
C、器件裝配將陰極面板1、陽(yáng)極面板9以及玻璃圍框15、支撐墻13結(jié)構(gòu)裝配到一起,并將消氣劑14放入到空腔當(dāng)中,用低熔點(diǎn)玻璃粉固定,在玻璃面板的四周涂抹好低熔點(diǎn)玻璃粉,用夾子固定;D、成品制作對(duì)已經(jīng)裝配好的器件進(jìn)行如下的封裝工藝1)、將樣品器件放入烘箱當(dāng)中進(jìn)行烘烤;2)、放入燒結(jié)爐當(dāng)中進(jìn)行高溫?zé)Y(jié);3)、在排氣臺(tái)上進(jìn)行器件排氣、封離,在烤消機(jī)上對(duì)器件內(nèi)部的消氣劑進(jìn)行烤消,最后加裝管腳形成所需要的平板顯示器。
權(quán)利要求
1.一種帶有副柵極的背柵結(jié)構(gòu)的平板顯示器,包括由陰極面板[1]、陽(yáng)極面板[9]和四周玻璃圍框[15]所構(gòu)成的密封真空腔、在陽(yáng)極面板[9]上有光刻的陽(yáng)極導(dǎo)電層[10]以及制備在陽(yáng)極導(dǎo)電層上面的熒光粉層[11]、陰極面板[1]與陽(yáng)極面板[9]之間的支撐墻結(jié)構(gòu)[13]以及安裝在密封真空腔中的消氣劑附屬元件[14],其特征在于在陰極面板[1]上制作有用于控制碳納米管陰極[16]電子發(fā)射的帶有副柵極的背柵結(jié)構(gòu)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種帶有副柵極的背柵結(jié)構(gòu)的平板顯示器,其特征在于帶有副柵極的背柵結(jié)構(gòu)安裝固定在陰極面板[1]上,在背柵結(jié)構(gòu)中,在陰極面板[1]上存在著柵極導(dǎo)電層(2),在柵極導(dǎo)電層(2)的上面存在著二氧化硅絕緣層(3),在二氧化硅絕緣層(3)上面存在著相互分離的副柵極金屬層(5)和陰極導(dǎo)電層(6),在二氧化硅絕緣層(3)上刻蝕有將二氧化硅絕緣層下面的柵極導(dǎo)電層(2)和二氧化硅絕緣層上面的副柵極金屬層(5)相互連接起來(lái)連接孔(4),在副柵極金屬層(5)上面存在二氧化硅覆蓋層(7),陰極導(dǎo)電層(6)的上面存在著催化劑金屬層(8),催化劑金屬層(8)上制有碳納米管陰極[16]。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種帶有副柵極的背柵結(jié)構(gòu)的平板顯示器,其特征在于二氧化硅絕緣層(3)完全覆蓋住柵極導(dǎo)電層(2),二氧化硅覆蓋層(7)完全覆蓋住副柵極金屬層(5),催化劑金屬層(8)的圖案和陰極導(dǎo)電層(6)的圖案相同,陰極導(dǎo)電層(6)和柵極導(dǎo)電層(2)的走向相互垂直。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種帶有副柵極的背柵結(jié)構(gòu)的平板顯示器,其特征在于柵極導(dǎo)電層(2)、副柵極金屬層(5)、陰極導(dǎo)電層(6)為錫銦氧化物膜層或金、銀、錫、鉬、鎢金屬層。
5.一種帶有副柵極的背柵結(jié)構(gòu)的平板顯示器的制作工藝,其特征在于其制作工藝如下A、陽(yáng)極板的制作1)、陽(yáng)極面板[9]的制作對(duì)整體玻璃進(jìn)行劃片,除掉灰塵和雜質(zhì),形成陽(yáng)極面板[9];2)、陽(yáng)極導(dǎo)電層[10]的制作在陽(yáng)極面板[9]的上面蒸鍍一層錫銦氧化物膜層;結(jié)合常規(guī)的光刻工藝,對(duì)錫銦氧化物膜層進(jìn)行刻蝕,形成陽(yáng)極導(dǎo)電層[10];3)、絕緣漿料層[12]的制作結(jié)合絲網(wǎng)印刷工藝,在陽(yáng)極導(dǎo)電層[10]的非顯示區(qū)域印刷絕緣漿料層[12],在150℃±10℃的溫度條件下烘烤5~15分鐘之后,放置在燒結(jié)爐中進(jìn)行580℃±10℃的高溫?zé)Y(jié),保持時(shí)間為5~15分鐘;4)、熒光粉層[11]的制作結(jié)合絲網(wǎng)印刷工藝,在陽(yáng)極導(dǎo)電層[10]上面的顯示區(qū)域印刷熒光粉層[11],放置在烘箱中,在120℃±10℃的溫度條件下烘烤5~15分鐘;B、陰極板的制作對(duì)整體玻璃進(jìn)行劃片,形成陰極面板,在陰極面板[1]上制作帶有副柵極的背柵結(jié)構(gòu),在帶有副柵極的背柵結(jié)構(gòu)上制作碳納米管陰極[16];C、器件裝配將陰極面板[1]、陽(yáng)極面板[9]以及玻璃圍框[15]、支撐墻[13]結(jié)構(gòu)裝配到一起,并將消氣劑[14]放入到空腔當(dāng)中,用低熔點(diǎn)玻璃粉固定,在玻璃面板的四周涂抹好低熔點(diǎn)玻璃粉,用夾子固定;D、成品制作對(duì)已經(jīng)裝配好的器件進(jìn)行如下的封裝工藝1)、將樣品器件放入烘箱當(dāng)中進(jìn)行烘烤;2)、放入燒結(jié)爐當(dāng)中進(jìn)行高溫?zé)Y(jié);3)、在排氣臺(tái)上進(jìn)行器件排氣、封離,在烤消機(jī)上對(duì)器件內(nèi)部的消氣劑進(jìn)行烤消,最后加裝管腳形成所需要的平板顯不器。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種帶有副柵極的背柵結(jié)構(gòu)的平板顯示器的制作工藝,其特征在于帶有副柵極的背柵結(jié)構(gòu)包括陰極面板[1]、柵極導(dǎo)電層[2]、二氧化硅絕緣層[3]、連接孔[4]、副柵極金屬層[5]、陰極導(dǎo)電層[6]、二氧化硅覆蓋層[7]、催化劑金屬層[8]部分,并采用如下的工藝進(jìn)行制作1)、柵極導(dǎo)電層的制作在陰極面板上蒸鍍上一層金屬鉬,然后結(jié)合常規(guī)的光刻工藝,對(duì)金屬鉬層進(jìn)行刻蝕,形成柵極導(dǎo)電層;2)、二氧化硅絕緣層的制作在陰極面板上制備出二氧化硅絕緣層,此二氧化硅絕緣層充當(dāng)柵極和陰極之間的絕緣隔離層;此二氧化硅絕緣層覆蓋住陰極面板和柵極導(dǎo)電層;3)、連接孔的制作結(jié)合常規(guī)的光刻工藝,對(duì)二氧化硅絕緣層進(jìn)行刻蝕,形成連接孔;此連接孔將二氧化硅絕緣層下面的柵極導(dǎo)電層和二氧化硅絕緣層上面的副柵極金屬層相互連接起來(lái);4)、副柵極金屬層和陰極導(dǎo)電層的制作在二氧化硅絕緣層的上面蒸鍍一個(gè)金屬鉬層,此金屬鉬層覆蓋住二氧化硅絕緣層;結(jié)合常規(guī)的光刻工藝對(duì)金屬鉬層進(jìn)行刻蝕,將金屬鉬層分為兩部分一部分形成碳納米管陰極的陰極導(dǎo)電層,另一部分形成副柵極金屬層,并且該副柵極金屬層和底部的柵極導(dǎo)電層通過(guò)連接孔相互連通;5)、二氧化硅覆蓋層的制作在副柵極金屬層的上面制備出一個(gè)二氧化硅覆蓋層,此二氧化硅覆蓋層位于副柵極金屬層的上方,將副柵極金屬層完全覆蓋??;6)、催化劑金屬層的制作在陰極導(dǎo)電層上蒸鍍上一層金屬鎳,然后結(jié)合常規(guī)的光刻工藝,對(duì)金屬鎳層進(jìn)行刻蝕,形成催化劑金屬層;催化劑金屬層的圖案和陰極導(dǎo)電層的圖案完全相同,利用催化劑金屬層作為生長(zhǎng)碳納米管用的催化劑,結(jié)合直接生長(zhǎng)法,在金屬過(guò)渡層的上面制備出碳納米管陰極;7)、玻璃表面的清潔處理對(duì)陰極面板玻璃表面進(jìn)行清潔處理,除掉雜質(zhì)和灰塵。
全文摘要
本發(fā)明涉及到帶有副柵極的背柵結(jié)構(gòu)的平板顯示器及其制作工藝,該帶有副柵極的背柵結(jié)構(gòu)的平板顯示器包括由陰極面板、陽(yáng)極面板和四周玻璃圍框所構(gòu)成的密封真空腔;在陰極面板上有碳納米管陰極、陰極導(dǎo)電層以及用于控制碳納米管陰極電子發(fā)射的帶有副柵極的背柵結(jié)構(gòu);在陽(yáng)極面板上有光刻的陽(yáng)極導(dǎo)電層以及制備在陽(yáng)極導(dǎo)電層上面的熒光粉層;支撐墻結(jié)構(gòu)以及消氣劑附屬元件,制作了帶有副柵極的背柵結(jié)構(gòu),柵極結(jié)構(gòu)位于碳納米管陰極的下方,對(duì)于其電子發(fā)射起著強(qiáng)有力的控制作用,同時(shí)副柵極位于碳納米管陰極的側(cè)向,能夠有效的降低整體器件的工作電壓,提高碳納米管陰極的電子發(fā)射能力,有利于進(jìn)一步提高平板顯示器件的亮度,降低器件的制作成本,具有制作過(guò)程穩(wěn)定可靠、制作工藝簡(jiǎn)單、制作成本低廉、結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單的優(yōu)點(diǎn)。
文檔編號(hào)H01J29/04GK1897215SQ200610017540
公開(kāi)日2007年1月17日 申請(qǐng)日期2006年3月20日 優(yōu)先權(quán)日2006年3月20日
發(fā)明者李玉魁 申請(qǐng)人:中原工學(xué)院