專利名稱：具有反射器的光產(chǎn)生裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明一般涉及發(fā)光裝置，更具體的，本發(fā)明涉及一種具有反射器和冷卻構(gòu)件的光產(chǎn)生裝置。
背景技術(shù)：
例如在投射領(lǐng)域，正試圖在光能相等或增強的條件下，縮小光產(chǎn)生系統(tǒng)的尺寸。獲得更強的亮度，這是人們所尤其希望的。即使是現(xiàn)在，主要的傳統(tǒng)發(fā)光裝置投影器仍然在使用，這種發(fā)光裝置利用白熾燈絲特別是電弧來進行工作。作為高亮度光源，這些光源區(qū)別于激光之處特別在于高的光功率、理想的色溫度以及高的藍光譜成分。
但是，這種光源中具有高發(fā)熱部件。為了不使反射器每單位面積的熱輸出由于產(chǎn)生的熱功率而過高，光產(chǎn)生系統(tǒng)或裝置不能采用任意小的構(gòu)造。另外還存在這樣一個問題，特別是在冷光反射器的情況下，較長波的輻射成分不被這種反射器反射而是通過這種反射器。由于開關(guān)過程中溫度的大幅變化，還會產(chǎn)生其它問題。

發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明目的是提供這樣一種光產(chǎn)生系統(tǒng)，特別是這樣一種光產(chǎn)生裝置，其能夠改善以上提到的問題。僅僅通過獨立權(quán)利要求所要求保護的技術(shù)方案就能以一種簡單得不可思議的方式實現(xiàn)該目的。在從屬權(quán)利要求中進一步限定了對其有利的改進和發(fā)展。
結(jié)果，本發(fā)明提出了這樣一種光產(chǎn)生裝置，該裝置具有一種反射器和一種增進熱量自該反射器散逸的設(shè)備。
依照本發(fā)明的一種優(yōu)選實施例，提供一種光產(chǎn)生裝置，其中，增進熱量散逸的設(shè)備與反射器的背側(cè)連接或設(shè)置在該反射器的背側(cè)上。在這種情況下，反射器的背側(cè)或外側(cè)應(yīng)被認(rèn)為是避開發(fā)光裝置或避開提供發(fā)光裝置位置的反射器一側(cè)。
當(dāng)增進熱量散逸的設(shè)備包括輻射吸收表面時，這樣就特別利于有效地散選熱量。
特別的，在該增進熱量散逸的設(shè)備包括輻射吸收涂層的情況下，格外有利的是該涂層吸收紅外區(qū)域、尤其是熱輻射光譜區(qū)域。可以一種簡單的方式將這種涂層涂覆到不具備吸收性或吸收性弱的反射器主體材料例如球面玻璃罩上。
利用這種輻射吸收面或涂層可按照預(yù)定的方式吸收由反射器發(fā)出或穿過該反射器的熱輻射，從而改進對輻射吸收面的冷卻。
一種優(yōu)選實施例進一步設(shè)定該吸收熱輻射的涂層位于反射器的外側(cè)。該涂層覆蓋整個外側(cè)或者一個或多個子區(qū)域。
為增進熱量散逸，用于冷卻的表面還可包括渦旋形成構(gòu)造。例如，該構(gòu)造可設(shè)置在反射器表面的至少一個區(qū)域上。本發(fā)明的一種優(yōu)選實施例提出該渦旋形成構(gòu)造位于反射器的外側(cè)上。
凹窩或凹陷特別適于作為渦旋形成構(gòu)造，該凹窩或凹陷可以是例如圓形。它們易于制造，且在冷卻流體繞具有這種構(gòu)造的表面包絡(luò)流動(enveloping flow)的情況下，形成渦旋以確保冷熱流體層有效地充分混合，從而使熱交換更有效。
反射器優(yōu)選裝配有自潔式表面。這防止雜質(zhì)沉積在其表面上而不利地阻礙熱量散逸。自潔式特性可通過例如以上所述渦旋形成構(gòu)造來實現(xiàn)，形成渦旋以防止生成不流動區(qū)域而沉積雜質(zhì)例如灰塵。
在光產(chǎn)生裝置的一種優(yōu)選改進中，增進熱量散逸的設(shè)備包括與反射器連接的散熱器，以增大有效冷卻面。
特別的，在與反射器連接的區(qū)域內(nèi)，該散熱器具有與反射器相匹配的形狀，以增進熱量自該反射器傳遞給散熱器。
還有利的是，該增進熱量散逸的設(shè)備包括設(shè)置在反射器上、特別在該反射器外側(cè)上的導(dǎo)熱層。所述層增進入射熱能分散且散逸。例如，反射器可具有為此目的而提供的一種金屬涂層。除了增進熱量散逸之外，這種涂層還增大了對循環(huán)溫度應(yīng)力的抵抗力，因為熱量能夠更迅速地分散到反射器主體或該反射器主體的部分上，從而避免反射器材料內(nèi)的溫度應(yīng)力。
特別的，還有利的是反射器具有由兩層構(gòu)成的涂層吸收輻射的第一層，以及位于該第一層上且具有高導(dǎo)熱性的第二層。按照這種方式，可避免第一層反射輻射，并可在這一層內(nèi)按照預(yù)定的方式導(dǎo)入輻射能，接著，第二層確保溫度沿著該涂層面更均勻地分布。依照本發(fā)明實施例的一種變型，該涂層也設(shè)置在反射器的外側(cè)上。
有利的是，該增進熱量散逸的設(shè)備還包括反射器的CVD和/或PVD涂層。特別的，此層包括輻射吸收層和/或?qū)釋印VD和PVD涂層能由多種材料制成，且它們適宜作為吸收層。例如，為此可沉積一層含有高碳碎片特別是無定形碳的二氧化硅，無定形碳具有良好的吸收性能。CVD涂層還可具有一種或多種金屬氧化物，鈦、鉭、鈮的金屬氧化物尤其可適用。為例如沉積金屬層，PVD涂覆方法也是便利的。
代替反射器的高導(dǎo)熱層或者除該高導(dǎo)熱層以外，優(yōu)選的，該增進熱量散逸的設(shè)備還包括金屬箔，使該金屬箔與反射器接觸。通過粘附在反射器上或夾持于該反射器與另一部件之間，實現(xiàn)金屬箔與反射器的接觸。
優(yōu)選的，光產(chǎn)生裝置還具有空氣冷卻裝置，以吸收該增進熱量散選的設(shè)備組件的熱量。當(dāng)然，空氣冷卻裝置本身可以是增進熱量散逸的設(shè)備的一部件?？諝饫鋮s裝置可以是例如通風(fēng)機和/或構(gòu)造為對流冷卻裝置。
光產(chǎn)生裝置本身具有至少一個發(fā)光裝置，或被適當(dāng)?shù)貥?gòu)造為配備發(fā)光裝置。適當(dāng)?shù)陌l(fā)光裝置例如超高壓燈特別是短弧燈，或者鹵素?zé)簟?br> 本發(fā)明裝置的特別改進是可以采用冷光反射器，因為大部分熱輻射都通過反射器，必須將這些熱輻射散逸到該反射器的下游，否則位于該反射器后部的表面將急劇升溫。
在一種有利的改進中，本發(fā)明裝置還具有一外殼。為安全原因，可便利地將該外殼構(gòu)造為一種防破碎外殼，特別在使用超高壓燈的情況下。此外，該外殼還具有至少一個光屏蔽孔，可經(jīng)由該孔輸送冷卻空氣，而經(jīng)由反射器或經(jīng)由該反射器中的切口進入外殼主體內(nèi)的光不會通過該外殼的孔射向外部。
為連接該增進熱量散逸的設(shè)備部件與反射器，同時創(chuàng)造良好的熱接觸，該設(shè)備還借助于熱潤滑物質(zhì)與反射器連接，或者經(jīng)由一熱潤滑層與反射器連接。例如，可將熱潤滑物質(zhì)引入反射器與散熱器或熱分散金屬箔之間。
良好的熱接觸還可借助于一種創(chuàng)造性杯來實現(xiàn)，該杯具有彈性和/或與增進熱量散逸設(shè)備的反射器的形狀相匹配，其緊附在反射器上。
多種材料例如金屬、玻璃或玻璃陶瓷都適用作反射器。本發(fā)明甚至可采用塑料，因為其可增進熱量散逸。塑料材料包括例如聚碳酸酯、聚醚酰亞胺、聚甲基丙烯酸甲酯、環(huán)烯烴、烯烴共聚物或聚醚砜塑料中的至少一種。
但是，反射器也可采用合成材料，例如由一種或多種以上所述塑料以及一種金屬材料組成的合成材料。
本發(fā)明還提供一種反射器，該反射器裝配有增進熱量散逸的設(shè)備，特別的，該反射器還適用于本發(fā)明裝置。
依照本發(fā)明的一種實施例，該增進熱量自本發(fā)明反射器散逸的設(shè)備包括位于反射器表面的至少一個區(qū)域上的涂層。一種優(yōu)選改進提出涂層位于反射器的外側(cè)上。為增進熱量散逸，優(yōu)選的，該涂層能吸收輻射、特別是熱輻射或紅外輻射。
這種反射器的一種優(yōu)選改進提出涂層包括一高導(dǎo)熱層，以在反射器上或反射器內(nèi)更好地分散熱能。
該增進熱量散逸的設(shè)備還具有增大反射器主體表面的冷卻構(gòu)件，例如冷卻肋或凸節(jié)，以增大冷卻功率。
以下將借助于示范性實施例并參照附圖更詳細(xì)地說明本發(fā)明，相同及類似的部件具有相同的參考數(shù)字，各個實施例的特征相互結(jié)合。
附圖的簡要說明

圖1 表示一種創(chuàng)造性光產(chǎn)生裝置實施例的示意性剖視圖，圖2 表示散熱器的一種實施例，
圖3 在橫截面中表示涂層反射器的細(xì)節(jié)，圖4 表示創(chuàng)造性反射器的一種實施例，圖5 表示具有集成發(fā)光裝置的創(chuàng)造性反射器的另一種實施例，以及圖6 表示具有渦旋形成構(gòu)造的本發(fā)明反射器的一種實施例。
具體實施例圖1表示一種創(chuàng)造性光產(chǎn)生裝置實施例的橫截面示意圖，利用參考數(shù)字1表示該光產(chǎn)生裝置整體。
光產(chǎn)生裝置1包括具有內(nèi)側(cè)4和外側(cè)6的反射器2，以及一種增進熱量自該反射器2散逸的設(shè)備。內(nèi)側(cè)4為凹狀彎曲，以通過該內(nèi)側(cè)4面的反射聚集來自發(fā)光裝置的光，該發(fā)光裝置設(shè)置在由彎曲內(nèi)側(cè)所限定的空腔內(nèi)部或該空腔的前面。
反射器可由金屬、玻璃、玻璃陶瓷或塑料制成，或者可由這些材料中兩種或多種組成的合成材料制得。特別的，可采用聚碳酸酯、聚醚酰亞胺、聚甲基丙烯酸甲酯、環(huán)烯烴、烯烴共聚物或聚醚砜塑料作為塑料反射器的材料或者具有合成反射器主體的反射器材料。同時，優(yōu)選將圖2所示實施例的反射器2設(shè)計為冷光反射器。
發(fā)光裝置10位于球狀反射器表面的凹狀內(nèi)側(cè)4的焦點處。在這種實施例中，發(fā)光裝置10包括超高壓燈，引導(dǎo)該燈的連接腳101，102穿過反射器2內(nèi)的切口12。
在本發(fā)明這種實施例的情況下，增進熱量散逸的設(shè)備與反射器的背側(cè)連接。該增進熱量散逸的設(shè)備包括位于反射器外側(cè)6上的涂層8。此涂層被設(shè)計為一種可吸收熱輻射的涂層。此涂層可由例如反射器的CVD涂層制成，或者可由PVD涂層組成。例如通過改變涂覆過程中生產(chǎn)氣體的成分，可以一種簡單的方式采用CVD和PVD涂層以特別地沉積多個涂覆層。
在裝置操作過程中由發(fā)光裝置10釋放的熱輻射穿過反射器的主體，然后被背側(cè)或外側(cè)6上作為熱輻射吸收表面的涂層8吸收。結(jié)果還可以阻止熱輻射向后反射，由此該涂層8可按照裝置所釋放的錐形光束的光譜分布減小熱輻射組分。
除了作為光吸收表面的性能之外，在涂層8包括導(dǎo)熱層的情況下，該涂層8還能用于改善熱分布。這不僅可以按照一定的目標(biāo)吸收輻射能，然后由涂層8散逸該輻射能，還可以加強反射器2對循環(huán)溫度應(yīng)力的抵抗力。為了能夠散逸操作過程中涂層8內(nèi)由于吸收和熱傳遞產(chǎn)生的熱能，該增進熱量散逸的設(shè)備還包括一種散熱器16。該散熱器與反射器的外側(cè)6區(qū)域連接，或者與該反向器外側(cè)6上的涂層8連接。在與反射器相連的區(qū)域內(nèi)，散熱器16具有為反射器提供的一種保持杯(holding cup)32，該保持杯的表面形狀與反射器的表面形狀相匹配。結(jié)果，可增大散熱器16與反射器2之間的接觸面以進行有效的冷卻。
散熱器16與反射器2之間借助于熱潤滑物質(zhì)(thermolube)14熱連接，以額外地增強熱接觸。
此外，在這種創(chuàng)造性光產(chǎn)生裝置的實施例中，空氣冷卻裝置也作為該增進熱量自反射器散逸的設(shè)備的一部分。這種裝置包括通風(fēng)機18，該通風(fēng)機18抽入空氣流并將其吹向散熱器，或者依靠自散熱器方向抽入空氣從而生成繞該散熱器流動的空氣流。散熱器具有通道24，來自通風(fēng)機18的空氣可流過該通道24并經(jīng)由通孔28逸出。通道24中的內(nèi)部冷卻肋26確保額外的熱交換。利用外部冷卻肋30進行輔助冷卻。
除圖1中示意性表示的布置之外，冷卻肋26和30也可沿著由通風(fēng)機18產(chǎn)生的空氣流的流動方向延伸。另外，散熱器可為實心構(gòu)造，也就是說，該散熱器沒有通道24，這能減少制造費用。這種散熱器示意性表示在圖2透視圖中。在圖2所示圓柱形散熱器16的情況下，冷卻肋30沿其主體的對稱軸延伸。
散熱器16的表面可額外包括一個或多個具有渦旋形成構(gòu)造的表面。這種渦旋形成構(gòu)造可由例如粗糙區(qū)域或凹陷來限定。
在圖1所示實施例中，光產(chǎn)生裝置1還具有外殼20。該外殼20可以作為防破碎保護裝置，在超高壓燈用作發(fā)光裝置的情況下這種外殼20特別有用。
外殼20還具有多個光屏蔽孔22，該孔能夠交換用于冷卻的空氣，同時阻止例如經(jīng)由反射器2的孔12進入外殼內(nèi)的光射向外部。為此，該孔22可具有適當(dāng)?shù)膿醢澹摀醢遄柚构庵苯由涑觥?br> 圖3表示一種涂層反射器2的橫截面細(xì)節(jié)。按照與圖1所示實施例相同的方式，基底或反射器主體3具有位于反射器外側(cè)6上的涂層8。涂層8既能吸收輻射，又具有高導(dǎo)熱性。為此，該涂層8具有涂覆在反射器主體3上的第一層81和涂覆在該第一層81上的第二層82。第一層81吸收輻射，這個特性特別作用于由發(fā)光裝置釋放的熱輻射成分。輻射吸收性能可通過例如高的層粗糙度和/或?qū)觾?nèi)無定形碳的充分破碎來實現(xiàn)。
位于其上的第二層82具有高導(dǎo)熱性。此層82由例如適當(dāng)金屬組成。第一層81阻止主要輻射成分被第二層82向后反射，由此在例如冷光反射器的情況下又能夠提供一種光譜分布。
圖4表示一種創(chuàng)造性反射器2的實施例，該反射器2裝備著增進熱量散逸的設(shè)備，并且其可用在創(chuàng)造性裝置1中。該反射器包括具有凹狀彎曲內(nèi)側(cè)4的反射器主體3，該內(nèi)側(cè)4形成了反射器2的反射表面以反射發(fā)光裝置釋放的光，該內(nèi)表面4具有例如用于反射輻射的涂層。這可被設(shè)計為一種干涉濾光器或介質(zhì)鏡，該干涉濾光器或介質(zhì)鏡按照冷光反射器的方式反射可見光并透射波長較長的光。
在這種實施例中，增進熱量散逸的設(shè)備包括增大了反射器主體3表面的冷卻構(gòu)件，該構(gòu)件的形式為位于外側(cè)6上的冷卻肋31。在這種實施例中，冷卻肋31例如沿著反射器主體的對稱軸延伸。當(dāng)額外采用具有通風(fēng)機的空氣冷卻裝置時，該通風(fēng)機生成沿對稱軸方向的空氣流，這種構(gòu)造是優(yōu)選的。除冷卻肋以外，反射器2還具有位于外側(cè)6上的渦旋形成構(gòu)造，以增進冷卻過程中空氣充分混合。
按照類似于圖1所示實施例的方式，在內(nèi)側(cè)4的前部，反射器主體3內(nèi)具有用以固定發(fā)光裝置且設(shè)置在反射器內(nèi)的孔12。
此外，增進熱量散逸的設(shè)備包括位于反射器2外側(cè)的至少某個區(qū)域上的涂層8。類似于圖3所示涂層，在這種情況中，涂層8優(yōu)選包括用于吸收輻射的底層81和覆蓋該第一層81的第二層82，該第二層82具有高導(dǎo)熱性和均衡的溫度。
創(chuàng)造性反射器2或光產(chǎn)生裝置1的另一種實施例表示在圖5中。在本發(fā)明的這種實施例中，發(fā)光裝置一體形成在反射器2內(nèi)。如所示，發(fā)光裝置可以是例如鹵素?zé)艋蛘呷匀皇浅邏簾?。類似于以上所述實施例，反射器的外?cè)6具有涂層8，該涂層8作為增進熱量散逸的設(shè)備的一部分。該涂層8用以吸收輻射，還可具有高導(dǎo)熱性。
除涂層8以外，外側(cè)6上還施加有一種導(dǎo)熱金屬箔34，該金屬箔34作為增進熱量散逸的設(shè)備的另一部分，其與反射器2接觸，或與其涂覆了涂層8的外側(cè)6接觸。由于金屬箔34具有可彎曲性和撓性，其能有效地緊貼反射器2的外部形狀，并用以更好地分布、特別是反射器外側(cè)6上的熱能。
圖6表示依照本發(fā)明的反射器2的再一種優(yōu)選實施例。在這種實施例中，增進熱量散逸的設(shè)備包括凹窩或凹陷36形式的渦旋形成構(gòu)造，該凹窩或凹陷36可為例如圓形且設(shè)置在反射器的外表面6上。凹陷36可按照某種規(guī)則圖案例如以六角矩陣(hexagonal matrix)形狀布置在外表面6上或該外表面6的子區(qū)域上。當(dāng)冷卻流體例如特別是空氣繞反射器流動時，凹陷確保在流體中形成強烈的渦旋，從而促進反射器2表面與冷卻流體的熱交換。
對本領(lǐng)域技術(shù)人員而言顯而易見的是，以上所述實施例應(yīng)被認(rèn)為是示意性的，本發(fā)明并不限于此，而是在不脫離本發(fā)明范圍的情況下可對它們做出各種改變。
參考數(shù)字列表1 光產(chǎn)生裝置2 反射器3 反射器主體4 2的內(nèi)側(cè)6 2的外側(cè)8 收熱輻射的涂層10 發(fā)光裝置12 2內(nèi)的切口14 熱潤滑物質(zhì)16 散熱器18 通風(fēng)機20 外殼22 20內(nèi)的光屏蔽孔24 16內(nèi)的通道26 24中的內(nèi)部冷卻肋28 與24相關(guān)的孔30 16的外部冷卻肋31 2的冷卻肋32 16中的保持杯34 金屬箔36 渦旋形成凹陷81 8的輻射吸收層82 8的高導(dǎo)熱層101，102 10的連接腳
權(quán)利要求
1.一種光產(chǎn)生裝置(1)，其具有一反射器(2)，以及增進熱量自所述反射器(2)散逸的設(shè)備。
2.如權(quán)利要求1所述的光產(chǎn)生裝置，其特征在于，所述增進熱量散逸的設(shè)備與所述反射器的外側(cè)(6)相連接，或者設(shè)置在所述反射器的外側(cè)(6)上。
3.如前述權(quán)利要求之一所述的光產(chǎn)生裝置，其特征在于，所述增進熱量散逸的設(shè)備包括可吸收輻射、特別是熱輻射的表面。
4.如前述權(quán)利要求之一所述的光產(chǎn)生裝置，其特征在于，所述增進熱量散逸的設(shè)備包括可吸收輻射、特別是熱輻射的涂層(8)。
5.如權(quán)利要求4所述的光產(chǎn)生裝置，其特征在于，所述吸收熱輻射的涂層(8)設(shè)置在或涂覆在所述反射器的外側(cè)(6)上。
6.如前述權(quán)利要求之一所述的光產(chǎn)生裝置，其特征在于，所述增進熱量散逸的設(shè)備包括具有渦旋形成構(gòu)造的表面。
7.如權(quán)利要求6所述的光產(chǎn)生裝置，其特征在于，所述渦旋形成構(gòu)造包括凹陷，例如圓形凹陷(36)。
8.如前述權(quán)利要求之一所述的光產(chǎn)生裝置，其特征在于，所述增進熱量散逸的設(shè)備包括與所述反射器(2)相連接的散熱器(16)。
9.如權(quán)利要求8所述的光產(chǎn)生裝置，其特征在于，在所述散熱器與所述反射器相連接的區(qū)域內(nèi)，所述散熱器的形狀與所述反射器的形狀相匹配。
10.如前述權(quán)利要求之一所述的光產(chǎn)生裝置，其特征在于，所述增進熱量散逸的設(shè)備包括設(shè)置在所述反射器上的、特別是在所述反射器外側(cè)上的導(dǎo)熱層。
11.如前述權(quán)利要求之一所述的光產(chǎn)生裝置，具有空氣冷卻裝置。
12.如前述權(quán)利要求之一所述的光產(chǎn)生裝置，其特征在于，所述空氣冷卻裝置包括通風(fēng)機或?qū)α骼鋮s裝置。
13.如前述權(quán)利要求之一所述的光產(chǎn)生裝置，具有至少一個發(fā)光裝置。
14.如權(quán)利要求13所述的光產(chǎn)生裝置，其特征在于，所述發(fā)光裝置包括超高壓燈特別是短弧燈，或鹵素?zé)簟?br> 15.如前述權(quán)利要求之一所述的光產(chǎn)生裝置，其特征在于，所述反射器包括冷光反射器。
16.如前述權(quán)利要求之一所述的光產(chǎn)生裝置，具有防破碎外殼。
17.如前述權(quán)利要求之一所述的光產(chǎn)生裝置，具有一外殼，所述外殼具有至少一個光屏蔽孔。
18.如前述權(quán)利要求之一所述的光產(chǎn)生裝置，其特征在于，所述增進熱量散逸的設(shè)備包括與所述反射器的熱潤滑連接。
19.如前述權(quán)利要求之一所述的光產(chǎn)生裝置，其特征在于，所述增進熱量散逸的設(shè)備包括一杯，所述杯是彈性的或者與所述反射器的形狀相匹配，并緊貼所述反射器(2)。
20.如前述權(quán)利要求之一所述的光產(chǎn)生裝置，其特征在于，所述增進熱量散逸的設(shè)備包括一金屬箔(34)，所述金屬箔(34)與所述反射器(2)接觸。
21.如前述權(quán)利要求之一所述的光產(chǎn)生裝置，其特征在于，所述反射器(2)包括金屬、玻璃、玻璃陶瓷或塑料中的至少一種材料。
22.如權(quán)利要求20所述的光產(chǎn)生裝置，其特征在于，所述反射器(2)包括具有以下塑料中的至少一種的材料，所述塑料包括聚碳酸酯、聚醚酰亞胺、聚甲基丙烯酸甲酯、環(huán)烯烴、烯烴共聚物或聚醚砜。
23.如前述權(quán)利要求之一所述的光產(chǎn)生裝置，其特征在于，所述反射器(2)包括合成材料。
24.如前述權(quán)利要求之一所述的光產(chǎn)生裝置，其特征在于，所述增進熱量散逸的設(shè)備包括所述反射器(2)的CVD或PVD涂層。
25.如前述權(quán)利要求之一所述的光產(chǎn)生裝置，其特征在于，所述反射器(2)裝配有自潔式表面。
26.一種反射器(2)，其具有增進熱量散逸的設(shè)備，所述反射器(2)特別用于依照前述權(quán)利要求之一所述的裝置。
27.如權(quán)利要求26所述的反射器，其特征在于，所述增進熱量散逸的設(shè)備包括位于所述反射器(2)的表面的至少一個區(qū)域上的涂層(8)。
28.如權(quán)利要求27所述的反射器，其特征在于，所述涂層涂覆在所述反射器的外側(cè)(6)上。
29.如權(quán)利要求27或28所述的反射器，其特征在于，所述涂層(8)吸收輻射、特別是熱輻射。
30.如權(quán)利要求27至29之一所述的反射器，其特征在于，所述涂層(8)包括高導(dǎo)熱層。
31.如權(quán)利要求27至30之一所述的反射器，其特征在于，所述涂層包括兩層(81，82)吸收輻射的第一層(81)，和設(shè)置在所述第一層(81)之上且具有高導(dǎo)熱性的第二層(82)。
32.如權(quán)利要求26至31之一所述的反射器，其特征在于，所述增進熱量散逸的設(shè)備包括位于所述反射器(2)的表面的至少一個區(qū)域內(nèi)的渦旋形成構(gòu)造。
33.如權(quán)利要求32之一所述的反射器，其特征在于，所述渦旋形成構(gòu)造包括凹陷，例如圓形凹陷(36)。
34.如權(quán)利要求26至33之一所述的反射器，其特征在于，所述增進熱量散逸的設(shè)備包括增大所述反射器主體(3)的表面的冷卻構(gòu)件，例如冷卻肋(31)或凸節(jié)。
全文摘要
本發(fā)明提出一種可有效冷卻反射器的光產(chǎn)生裝置，該裝置包括反射器以及增進熱量自該反射器散逸的設(shè)備。
文檔編號F21V7/00GK1550870SQ20041003283
公開日2004年12月1日 申請日期2004年4月9日 優(yōu)先權(quán)日2003年4月9日
發(fā)明者拉斯·貝韋格, 烏爾里希·齊爾法斯, 托爾斯藤·霍爾德曼, 希 齊爾法斯, 拉斯 貝韋格, 藤 霍爾德曼 申請人:肖特·格拉斯公司, 肖特 格拉斯公司