多排交叉布置dmd投影的激光直寫雙面曝光系統(tǒng)的制作方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種多排交叉布置DMD投影的激光直寫雙面曝光系統(tǒng)，包括：垂直置于底座上表面的DMD集成組件以及被曝光工件；被曝光工件固定在Z軸板和Y軸板上，被曝光工件兩側均安裝有DMD集成組件，每個DMD集成組件兩面均安裝有DMD器件投影光路，DMD集成組件的Y軸方向上交叉分布多個DMD器件投影光路對被曝光工件的兩面同時進行垂直曝光。與現(xiàn)有的單工件臺掃描曝光形式相比，本實用新型通過在被曝光工件兩邊垂直設置兩套DMD器件投影光路能夠同時曝光被曝光工件的正反兩面，使用DMD器件作為投影光路的圖形發(fā)生裝置，DMD器件水平交叉固定，被曝光工件沿Z軸移動，對被曝光工件進行雙面曝光，使得工作的效率提升一倍，更好的提高了產(chǎn)能，同時保證了產(chǎn)品的質量。
【專利說明】
多排交叉布置DMD投影的激光直寫雙面曝光系統(tǒng)
技術領域
[0001]本實用新型涉及一種曝光系統(tǒng)及方法，具體是一種多排交叉布置DMD投影的激光直寫雙面曝光系統(tǒng)，屬于直寫式光刻機快速掃描曝光技術領域。
【背景技術】
[0002]直寫式光刻技術是近年來發(fā)展較快的、以替代傳統(tǒng)的掩膜板式光刻技術的影像直接轉移技術，在半導體及PCB生產(chǎn)領域中有著越來越重要的地位;利用該技術可以縮短工藝流程，并降低生產(chǎn)成本。
[0003]目前市場上主流的直寫式光刻機大多以單工件臺方式進行掃描曝光:即先將被曝光工件的A面曝光完成后，再進行翻版，然后對B面進行曝光;在單工件臺系統(tǒng)中，用于曝光的基板的上板、對準、曝光、下板是依次進行的。
[0004]依據(jù)目前的結構系統(tǒng)，各操作流程均已經(jīng)達到耗時的上限，很難再縮短某個操作步驟的操作時間，即單工件臺的直寫式光刻機由于各操作流程的串行性質，已很難再提高產(chǎn)能。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]針對上述現(xiàn)有技術存在的問題，本實用新型提供一種多排交叉布置DMD投影的激光直寫雙面曝光系統(tǒng)，該系統(tǒng)能夠同時曝光被曝光工件的正反兩面，進一步提高工作效率，從而提尚廣能。
[0006]為了實現(xiàn)上述目的，本實用新型采用的技術方案是:一種多排交叉布置DMD投影的激光直寫雙面曝光系統(tǒng)，包括:
[0007]垂直置于底座上表面的DMD集成組件以及被曝光工件;被曝光工件固定在Z軸板和Y軸板上，被曝光工件兩側均安裝有DMD集成組件，每個DMD集成組件兩面均安裝有DMD器件投影光路，DMD集成組件的Y軸方向上交叉分布多個DMD器件投影光路對被曝光工件的兩面同時進行垂直曝光。
[0008]所述的DMD集成組件上部和底部均始終與被曝光工件上、底部平齊。
[0009]所述的DMD集成組件底部可拆卸式固定在底座上表面，P被曝光工件在Z軸方向上移動曝光。
[0010]被曝光工件和底座夾角為0-90°。
[0011]與現(xiàn)有的單工件臺掃描曝光形式相比，本實用新型通過在被曝光工件兩邊垂直設置兩套DMD器件投影光路能夠同時曝光被曝光工件的正反兩面，使用DMD器件作為投影光路的圖形發(fā)生裝置，DMD器件水平交叉固定，被曝光工件沿Z軸移動，對被曝光工件進行雙面曝光，使得工作的效率提升一倍，更好的提高了產(chǎn)能，同時保證了產(chǎn)品的質量。
【附圖說明】
[0012]圖1為本實用新型系統(tǒng)示意圖。
[0013]圖中:1、被曝光工件，2、Z軸板，3、Y軸板，4、底座，5、DMD器件投影光路，6、DMD集成組件。
【具體實施方式】
[0014]下面結合附圖對本實用新型作進一步說明。
[0015]其中，本實用新型以附圖1為基準，附圖1的左、右、上、下、底部、中心、端部為本實用新型的左、右、上、下、底部、中心、端部。應注意到的是:除非另外具體說明，否則本實施例中闡述的部件的相對布置、數(shù)值等不限于本實用新型的范圍。
[0016]—種多排交叉布置DMD投影的激光直寫雙面曝光系統(tǒng)，包括:
[0017]垂直置于底座4上表面的DMD集成組件6以及被曝光工件I;被曝光工件I固定在Z軸板2和Y軸板3上，沿著Z軸板2的方向為z軸方向，沿著Y軸板3的方向為Y軸方向，被曝光工件I兩側均安裝有DMD集成組件6，每個DMD集成組件兩面均安裝有DMD器件投影光路5，DMD集成組件6的Y軸方向上交叉分布多個DMD器件投影光路對被曝光工件的兩面同時進行垂直曝光。
[0018]所述的DMD集成組件上部和底部均始終與被曝光工件上、底部平齊。
[0019]所述的DMD集成組件底部可拆卸式固定在底座上表面，P被曝光工件在Z軸方向上移動曝光。
[0020]被曝光工件I和底座4夾角為0-90°。
[0021]與現(xiàn)有的單工件臺掃描曝光形式相比，本實用新型通過在PCB板件兩邊垂直設置兩套DMD器件投影光路能夠同時曝光被曝光工件的正反兩面，使用DMD器件作為投影光路的圖形發(fā)生裝置，DMD器件水平交叉固定，被曝光工件沿Z軸移動，對被曝光工件進行雙面曝光，使得工作的效率提升一倍，更好的提高了產(chǎn)能，同時保證了產(chǎn)品的質量。
[0022]對于本領域技術人員而言，顯然本實用新型不限于上述示范性實施例的細節(jié)，而且在不背離本實用新型的精神或基本特征的情況下，能夠以其它的具體形式實現(xiàn)本實用新型。因此，無論從哪一點來看，均應將實施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本實用新型的范圍由所附權利要求而不是上述說明限定，因此旨在將落在權利要求的等同要件的含義和范圍內(nèi)的所有變化囊括在本實用新型內(nèi)。不應將權利要求中的任何附圖標記視為限制所涉及的權利要求。
[0023]以上所述，僅為本實用新型的較佳實施例，并不用以限制本實用新型，凡是依據(jù)本實用新型的技術實質對以上實施例所作的任何細微修改、等同替換和改進，均應包含在本實用新型技術方案的保護范圍之內(nèi)。
【主權項】
1.一種多排交叉布置DMD投影的激光直寫雙面曝光系統(tǒng)，其特征在于，包括: 垂直置于底座上表面的DMD集成組件以及被曝光工件;被曝光工件固定在Z軸板和Y軸板上，被曝光工件兩側均安裝有DMD集成組件，每個DMD集成組件兩面均安裝有DMD器件投影光路，DMD集成組件的Y軸方向上交叉分布多個DMD器件投影光路對被曝光工件的兩面同時進tX垂直曝光O2.根據(jù)權利要求1所述的一種多排交叉布置DMD投影的激光直寫雙面曝光系統(tǒng)，其特征在于，所述的DMD集成組件上部和底部均始終與被曝光工件上、底部平齊。3.根據(jù)權利要求2所述的一種多排交叉布置DMD投影的激光直寫雙面曝光系統(tǒng)，其特征在于，所述的DMD集成組件底部可拆卸式固定在底座上表面，被曝光工件在Z軸方向上移動曝光。4.根據(jù)權利要求3所述的一種多排交叉布置DMD投影的激光直寫雙面曝光系統(tǒng)，其特征在于，被曝光工件和底座夾角為0-90°。
【文檔編號】G03F7/20GK205608391SQ201620060013
【公開日】2016年9月28日
【申請日】2016年1月22日
【發(fā)明人】張偉, 趙華, 徐巍, 王翰文, 馬汝治
【申請人】江蘇影速光電技術有限公司