標(biāo)靶影像對位裝置及具有該裝置的曝光機(jī)的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及一種標(biāo)靶影像對位裝置及具有該裝置的曝光機(jī)，該曝光機(jī)用于對基板進(jìn)行曝光，該標(biāo)靶影像對位裝置用于在該基板進(jìn)行曝光之前，檢測基板與底片是否正確對位。
【背景技術(shù)】
[0002]請參照圖1及圖2，其示為現(xiàn)有的雙面曝光機(jī)的示意圖，該雙面曝光機(jī)具有一標(biāo)靶影像對位裝置100、兩個曝光框單元200A，200B及一曝光裝置300，該兩個曝光框單元200A，200B交替地往返移載于一對位位置與一曝光位置，各該曝光框單元200A，200B先于該對位位置上進(jìn)行對位程序，以確保各該曝光框單元200A，200B中的底片與基板正確對準(zhǔn)后，再輸送至該曝光位置，該曝光裝置300設(shè)置于該曝光位置上方，用于對各該曝光框單元200A，200B曝光。
[0003]現(xiàn)有的雙面曝光機(jī)可具有一個或多個標(biāo)靶對位裝置，該標(biāo)靶影像對位裝置100設(shè)置于該雙面曝光機(jī)上并位于該對位位置的正上方，其包括一 CCD攝影機(jī)110、一光源模塊120及一升降模塊130，該CCD攝影機(jī)110的鏡頭正對該對位位置以供對該對位位置上的曝光框單元200A或200B取像，該光源模塊120設(shè)置于該升降模塊130底端。
[0004]如圖1所示，當(dāng)需更換底片或取放基板時，必須將各該曝光框單元200A，200B的上框體向上掀起，此時，該升降模塊130為一收起狀態(tài)，使該光源模塊120遠(yuǎn)離該對位位置一段距離，以供各該曝光框單元200A，200B的上框體有空間能向上掀起;如圖2所示，在對位程序中，該升降模塊130通過馬達(dá)及皮帶輪驅(qū)動而下降，使該光源模塊120接近該對位位置上的曝光框單元200A或200B，以提供該CXD攝影機(jī)110取像時需要的照明亮度。
[0005]為了使各該曝光框單元200A，200B的上框體能向上掀起的空間足夠，因此該光源模塊120必須通過該升降模塊130驅(qū)動足夠的升降行程，然而，該光學(xué)模塊120在升降的過程中容易產(chǎn)生晃動及不穩(wěn)，導(dǎo)致對于精確度有不利的影響，再者，每次在對位程序中，需等待該光學(xué)模塊120下降至定點(diǎn)后，才能進(jìn)行取像，因而造成對位時間長的缺點(diǎn)，更降低了生產(chǎn)效率。另一方面，該標(biāo)靶影像對位裝置100設(shè)置于該對位位置的正上方，故該雙面曝光機(jī)具有不小的設(shè)備高度，占用了不少的廠房空間且不利搬運(yùn)。
【實用新型內(nèi)容】
[0006]為改善現(xiàn)有雙面曝光機(jī)所存在的光學(xué)檢測精確度不佳、對為過程時間長、生產(chǎn)效率低及設(shè)備占空間等缺點(diǎn)，本實用新型提出了一種標(biāo)靶影像對位裝置及具有該裝置的曝光機(jī)。
[0007]為達(dá)上述目的及其他目的，本實用新型公開了一種標(biāo)靶影像對位裝置，應(yīng)用于曝光機(jī)以供進(jìn)行基板與底片的標(biāo)靶間的對位程序，該曝光機(jī)包含承載基板與底片的兩個曝光框單元，該兩個曝光框單元沿第一方向交替地往返移載于對位位置與曝光位置，該標(biāo)靶影像對位裝置包含二維移載單元及光學(xué)檢測單元，該二維移載單元包括第一滑軌、第一滑座、第二滑軌及第二滑座，該第一滑軌用于設(shè)置于該曝光機(jī)上且位于該對位位置的鄰側(cè)，并以其滑動方向平行于該第一方向的方式配置;該第一滑座可移動地設(shè)置于該第一滑軌上以被驅(qū)動滑動;該第二滑軌與該第一滑座結(jié)合并以其滑動方向平行于第二方向且延伸至該對位位置上方的方式配置，該第二方向垂直該第一方向；該第二滑座可移動地設(shè)置于該第二滑軌上以被驅(qū)動滑動；該光學(xué)檢測單元設(shè)置于該第二滑座上，該光學(xué)檢測單元具有光源組及攝影機(jī)，在對位程序期間，該光學(xué)檢測單元與該第二滑座之間的相對位置為固定。
[0008]上述的標(biāo)靶影像對位裝置，其中進(jìn)一步包含頂升單元，該頂升單元用于設(shè)置于該曝光機(jī)的該對位位置的下方，以供抬升位于該對位位置的曝光框單元，而使各該曝光框單元與該光學(xué)檢測單元之間相距有默認(rèn)距離。
[0009]上述的標(biāo)靶影像對位裝置，其中進(jìn)一步包含高度微調(diào)座，該高度微調(diào)座設(shè)置于該第二滑座上并承載該攝影機(jī)，用于調(diào)整該攝影機(jī)相對于位在該對位位置上的曝光框單元的位置。
[0010]上述的標(biāo)靶影像對位裝置，其中該光學(xué)檢測單元具有雷射模塊，用于對準(zhǔn)該攝影機(jī)的視野范圍內(nèi)發(fā)射激光束。
[0011]為達(dá)上述目的及其他目的，本實用新型還公開了一種曝光機(jī)包含兩個曝光框單元、上述的標(biāo)靶影像對位裝置及曝光裝置，該兩個曝光框單元沿第一方向交替地往返移載于對位位置與曝光位置;該曝光裝置設(shè)置于該曝光位置上方，用于對各該曝光框單元曝光。
[0012]據(jù)此，相較于現(xiàn)有技術(shù)，上述的標(biāo)把影像對位裝置及曝光機(jī)，在結(jié)構(gòu)配置上，該光學(xué)檢測單元與位于該對位位置的曝光框單元較為靠近，因此可提高檢測的精準(zhǔn)度且可采用定倍率的鏡頭，此外，由于該光學(xué)檢測單元于對位程序中與該第二滑座相對固定，即該光學(xué)檢測單元于對位程序前、中、后的過程中均無需升降作動，因此減少了移載過程中的晃動而增進(jìn)了精準(zhǔn)度。
【附圖說明】
[0013]圖1為現(xiàn)有的雙面曝光機(jī)的側(cè)面示意圖；
[0014]圖2為現(xiàn)有的雙面曝光機(jī)中光源模塊下降接近對位位置的示意圖；
[0015]圖3為本實用新型實施例的曝光機(jī)的側(cè)視示意圖；
[0016]圖4為本實用新型實施例的標(biāo)把影像對位裝置的俯視示意圖；
[0017]圖5為本實用新型實施例的標(biāo)把影像對位裝置的側(cè)視示意圖；
[0018]圖6為本實用新型實施例的標(biāo)把影像對位裝置的正面示意圖；
[0019]圖7為本實用新型實施例的曝光機(jī)中對位程序開始的狀態(tài)示意圖；
[0020]圖8為本實用新型實施例的曝光機(jī)中對位程序進(jìn)行中的狀態(tài)示意圖；
[0021 ]圖9為本實用新型實施例的曝光機(jī)中曝光框單元打開的狀態(tài)示意圖；
[0022]圖10為本實用新型實施例的標(biāo)把影像對位裝置中光學(xué)檢測單元的示意圖。
[0023]【符號說明】
[0024]I標(biāo)靶影像對位裝置
[0025]2曝光框單元
[0026]3曝光框單元
[0027]4曝光裝置
[0028]10 二維移載單元
[0029]11第一滑軌
[0030]12第一滑座
[0031]13第二滑軌
[0032]14第二滑座
[0033]20光學(xué)檢測單元
[0034]21光源組
[0035]22攝影機(jī)
[0036]23雷射模塊
[0037]30頂升單元
[0038]40高度微調(diào)座
[0039]41 旋鈕
[0040]100標(biāo)靶影像對位裝置
[0041]HO CCD攝影機(jī)
[0042]120光源模塊
[0043]130升降模塊
[0044]200A曝光框單元
[0045]200B曝光框單元
[0046]300曝光裝置
【具體實施方式】
[0047]為充分了解本實用新型的目的、特征和功效，現(xiàn)通過下述具體的實施例，并配合附圖，對本實用新型做進(jìn)一步詳細(xì)說明，說明如下:
[0048]以下揭露的實施例當(dāng)中，各組件前的冠詞“一”可為“一個以上”，而非限制各組件于實施時的數(shù)量。
[0049]參照圖3，本實用新型實施例揭示包含標(biāo)靶影像對位裝置I的曝光機(jī)，該曝光機(jī)包含兩個曝光框單元2，3、一標(biāo)靶影像對位裝置I及一曝光裝置4。
[0050]該標(biāo)靶影像對位裝置I用于進(jìn)行基板與底片(圖中未示)的標(biāo)靶間的對位程序，該曝光機(jī)包含承載基板與底片的兩個曝光框單元2，3，該兩個曝光框單元2，3沿一第一方向交替地往返移載于一對位位置與一曝光位置，各該曝光框單元于該對位位置上進(jìn)行對位程序，以檢測底片與基板間是否對準(zhǔn)，其利用光學(xué)檢測單元檢測底片與基板上的標(biāo)靶影像是否相迭合，若底片與基板上的標(biāo)靶影像為相迭合，代表底片與基板為對準(zhǔn);在確定當(dāng)前位于該對位位置上的曝光框單元中的底片與基板為對準(zhǔn)之后，該曝光框單元被輸送至該曝光位置，該曝光裝置4設(shè)置于該曝光位置上方，用于對各該曝光框單元2，3曝光。
[0051 ] 在圖3當(dāng)中，該曝光框單元2位于該對位位置，該曝光框單元3位于該曝光位置。該曝光機(jī)上在該對位位置至該曝光位置的兩側(cè)設(shè)置輸送軌道(圖中未示)，各該曝光框單元2，3通過輸送軌道沿該第一方向交替