高密度積層板制程中一種酸性蝕刻機顯影段噴淋裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本實用新型涉及酸性蝕刻機顯影段噴淋系統(tǒng)改造，尤其是高密度積層板制程中一 種酸性蝕刻機顯影段噴淋裝置。
【背景技術(shù)】
[0002] 在工藝流程"前處理一覆干膜一曝光一顯影一蝕刻一去膜"中，其中"曝光一顯影" 是干膜發(fā)生聚合反應(yīng)后并形成線路的過程，"曝光"工藝流程是通過曝光燈管的平行光照射 在底片上，對需要形成線路的部分進行照射使干膜發(fā)生聚合反應(yīng)，再通過"顯影"工藝流程 中顯影液與干膜相互作用，溶解未發(fā)生聚合反應(yīng)的干膜部分，使干膜在進入"蝕刻"工藝流 程前完成對需要形成線路部分銅面的保護作用。
[0003] "顯影"工藝流程中的主要影響參數(shù)為：噴淋壓力、顯影液濃度和溫度。在三者滿足 工藝設(shè)定的前提下加工出適合"蝕刻"工藝流程需求的線路保護層。其中"噴淋壓力"對于 干膜邊緣的粗糙度和顯影后干膜的尺寸起著至關(guān)重要的作用，同時也影響蝕刻后形成線路 的尺寸。"噴淋壓力"與設(shè)備噴盤距離傳送X軸中心的距離和噴嘴的設(shè)計有關(guān)。噴嘴的設(shè)計 包含噴嘴角度和開口尺寸。錐形噴嘴與噴盤連接處為密閉十字設(shè)計且不能拆卸，對于保養(yǎng) 難度很大，且容易堵塞，堵塞后噴淋壓力降低影響顯影后形成的線路間距。 【實用新型內(nèi)容】
[0004] 針對上述存在的問題，本實用新型的目的是提供一種提高顯影上下面一致性的酸 性蝕刻機顯影段噴淋裝置。
[0005] 本實用新型的技術(shù)方案是：高密度積層板制程中一種酸性蝕刻機顯影段噴淋裝 置，包括槽體1、連接裝置2、上噴淋裝置3、傳送帶4、下噴淋裝置5、噴盤6,所述傳送帶4 與槽體1連接，所述噴盤6以傳送帶4為軸通過連接裝置2與槽體1對稱連接，所述上噴淋 裝置3和下噴淋裝置5與噴盤6連接，所述上噴淋裝置3和下噴淋裝置5均采用扇形噴嘴。
[0006] 所述上噴淋裝置3與下噴淋裝置5之間的距離在25-27cm之間。
[0007] 與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實用新型的有益效果是：
[0008] (1)本實用新型采用扇形噴嘴，提高上下噴淋面形成線路后線寬和間距一致性。
[0009] (2)本實用新型的扇形噴嘴較錐形噴嘴更容易保養(yǎng)和維護，方便員工操作。
[0010] (3)本實用新型的扇形噴嘴較錐形噴嘴不容易堵塞，降低設(shè)備維修率。
【附圖說明】
[0011] 圖1為本實用新型的示意圖。
[0012] 圖2為扇形噴嘴示意圖。
[0013] 圖3為錐形噴嘴示意圖。
[0014] 圖4為改造前上噴淋效果示意圖。
[0015] 圖5為改造后上噴淋效果示意圖。
[0016] 圖6為改造前下噴淋效果示意圖。
[0017] 圖7為改造后下噴淋效果示意圖。
[0018] 圖中：1-槽體，2-連接裝置，3-上噴淋裝置，4-傳送帶，5-下噴淋裝置，6-噴盤。
【具體實施方式】
[0019] 下面結(jié)合附圖和實施例對本實用新型作進一步的說明。
[0020] 如圖所示，高密度積層板制程中一種酸性蝕刻機顯影段噴淋裝置，包括槽體1、連 接裝置2、上噴淋裝置3、傳送帶4、下噴淋裝置5、噴盤6,傳送帶4與槽體1連接，噴盤6以 傳送帶4為軸通過連接裝置2與槽體1對稱連接，上噴淋裝置3和下噴淋裝置5與噴盤6 連接，上噴淋裝置3與下噴淋裝置5之間的距離在25-27cm之間，上噴淋裝置3和下噴淋裝 置5均采用扇形噴嘴。
[0021] 使用時，待處理物件通過傳送帶4勻速移動，通過上噴淋裝置3和下噴淋裝置5對 其進行噴淋。原顯影段噴淋系統(tǒng)中噴嘴的設(shè)計方式為上噴淋為扇形噴嘴，下噴淋為錐形噴 嘴，實際加工產(chǎn)品中帶來了問題，下噴淋面所形成的線路較上噴淋面所形成的線路間距小， 導致在加工中兩面存在差異，蝕刻后易出現(xiàn)上板面線細，下板面毛邊大甚至欠腐等缺陷問 題。通過顯影后線寬間距測量和顯影點測試，較之前的噴淋設(shè)計有一定的改善，顯影上下面 一致性更好（見表1)。
[0022] 表1改造前后噴淋設(shè)計顯影點測試結(jié)果。
[0023]表 1
[0024]
【主權(quán)項】
1. 高密度積層板制程中一種酸性蝕刻機顯影段噴淋裝置，其特征在于，包括槽體（1)、 連接裝置（2)、上噴淋裝置（3)、傳送帶（4)、下噴淋裝置（5)、噴盤（6)，所述傳送帶（4)與 槽體（1)連接，所述噴盤（6)以傳送帶（4)為軸通過連接裝置（2)與槽體（1)對稱連接，所 述上噴淋裝置（3)和下噴淋裝置（5)與噴盤（6)連接，所述上噴淋裝置（3)和下噴淋裝置 (5)均采用扇形噴嘴。2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的高密度積層板制程中一種酸性蝕刻機顯影段噴淋裝置，其特 征在于，所述上噴淋裝置（3)與下噴淋裝置（5)之間的距離在25-27cm之間。
【專利摘要】本實用新型公開了高密度積層板制程中一種酸性蝕刻機顯影段噴淋裝置，包括槽體(1)、連接裝置(2)、上噴淋裝置(3)、傳送帶(4)、下噴淋裝置(5)、噴盤(6)，所述傳送帶(4)與槽體(1)連接，所述噴盤(6)以傳送帶(4)為軸通過連接裝置(2)與槽體(1)對稱連接，所述上噴淋裝置(3)和下噴淋裝置(5)與噴盤(6)連接，所述上噴淋裝置(3)和下噴淋裝置(5)均采用扇形噴嘴，所述上噴淋裝置(3)與下噴淋裝置(5)之間的距離在25-27cm之間。本實用新型能夠提高上下噴淋面形成線路后線寬和間距一致性，采用扇形噴嘴更容易保養(yǎng)和維護，方便員工操作。
【IPC分類】G03F7/30
【公開號】CN205067963
【申請?zhí)枴緾N201520748646
【發(fā)明人】劉斌
【申請人】天津普林電路股份有限公司
【公開日】2016年3月2日
【申請日】2015年9月23日