對盒設(shè)備的制造方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種對盒設(shè)備，包括對盒腔室和設(shè)置在所述對盒腔室內(nèi)的上吸附臺和位于所述對盒腔室內(nèi)且與所述上吸附臺相對設(shè)置的下機(jī)臺，所述上吸附臺包括上機(jī)臺和設(shè)置在所述上機(jī)臺上的吸附層，所述對盒設(shè)備還包括多個(gè)輔助吸附件，所述輔助吸附件包括位于所述輔助吸附件一端的吸附盤，所述上吸附臺上設(shè)置有多個(gè)通孔，所述通孔貫穿所述上機(jī)臺和所述吸附層，每個(gè)所述通孔對應(yīng)一個(gè)所述輔助吸附件，所述輔助吸附件設(shè)置在所述通孔中，且所述吸附盤的吸附表面能夠與所述吸附層的吸附表面平齊。在利用所述對盒設(shè)備對盒兩個(gè)基板時(shí)，多個(gè)輔助吸附件可以和吸附層一起吸附基板，增加了基板的受力點(diǎn)的個(gè)數(shù)，不同的受力點(diǎn)受力后互相協(xié)調(diào)，基板不容易產(chǎn)生變形。
【專利說明】
對盒設(shè)備
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本發(fā)明涉及顯示裝置的制造設(shè)備，具體地，涉及一種對盒設(shè)備。
【背景技術(shù)】
[0002]顯示面板通常包括相對設(shè)置的兩個(gè)基板，例如，液晶顯示面板包括陣列基板和彩膜基板。因此在制造顯示面板時(shí)的一個(gè)步驟為將兩個(gè)基板對盒。
[0003]例如，將陣列基板和彩膜基板對盒的步驟包括:在密閉的真空腔體中，通過上吸附臺和下機(jī)臺分別吸附陣列基板和彩膜基板，驅(qū)動上吸附臺和下機(jī)臺相向移動，以將陣列基板和彩膜基板壓合在一起。
[0004]所述上吸附臺和所述下機(jī)臺上均間隔設(shè)置的真空吸盤。當(dāng)吸附力較大時(shí)，可能會造成基板的變形，而基板的變形則可能會導(dǎo)致黑間隔(gap)、白間隔等缺陷。
[0005]因此，如何防止在將基板對盒的過程中造成基板變形成為本領(lǐng)域亟待解決的技術(shù)問題。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0006]本發(fā)明的目的在于提供一種對盒設(shè)備，利用所述對盒設(shè)備對盒顯示面板的兩個(gè)基板時(shí)，幾乎不會造成基板變形。
[0007]為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供一種對盒設(shè)備，所述對盒設(shè)備包括對盒腔室和設(shè)置在所述對盒腔室內(nèi)的上吸附臺和位于所述對盒腔室內(nèi)且與所述上吸附臺相對設(shè)置的下機(jī)臺，所述上吸附臺包括上機(jī)臺和設(shè)置在所述上機(jī)臺上的吸附層，其中，所述對盒設(shè)備還包括多個(gè)輔助吸附件，所述輔助吸附件包括位于所述輔助吸附件一端的吸附盤，所述上吸附臺上設(shè)置有多個(gè)通孔，所述通孔貫穿所述上機(jī)臺和所述吸附層，每個(gè)所述通孔對應(yīng)一個(gè)所述輔助吸附件，所述輔助吸附件設(shè)置在所述通孔中，且所述吸附盤的吸附表面能夠與所述吸附層的吸附表面平齊。
[0008]優(yōu)選地，所述輔助吸附件還包括吸附桿，每個(gè)所述吸附桿的第一端均設(shè)置有一個(gè)所述吸附盤，所述吸附盤包括盤體和設(shè)置在所述盤體的下表面上的吸附件，所述盤體的上表面與所述吸附桿鉸接，所述吸附盤還包括設(shè)置在所述盤體的上表面上的平衡陀螺儀，所述吸附桿的至少一部分位于所述第一通孔中。
[0009]優(yōu)選地，所述吸附件包括氣囊和/或靜電吸附層。
[0010]優(yōu)選地，所述輔助吸附機(jī)構(gòu)還包括安裝架，所述安裝架位于所述上機(jī)臺的上方，所述吸附桿的第二端穿過所述通孔與所述安裝架相連。
[0011]優(yōu)選地，所述主吸附層由物理吸附材料制成。
[0012]優(yōu)選地，所述下機(jī)臺上間隔設(shè)置有多個(gè)溝槽，所述溝槽貫穿所述下機(jī)臺的長度方向或?qū)挾确较?，所述對盒設(shè)備還包括送料叉，所述送料叉包括多個(gè)叉齒，相鄰兩個(gè)所述溝槽之間的間距與相鄰兩個(gè)所述叉齒之間的距離相匹配，以使得所述叉齒能夠進(jìn)入相應(yīng)的所述溝槽中。
[0013]優(yōu)選地，所述對盒設(shè)備還包括驅(qū)動機(jī)構(gòu)，所述驅(qū)動機(jī)構(gòu)用于驅(qū)動所述上吸附臺和所述下機(jī)臺中的至少一者，以使得所述上吸附臺和所述下機(jī)臺之間產(chǎn)生互相遠(yuǎn)離或互相靠近的相對運(yùn)動。
[0014]優(yōu)選地，所述對盒設(shè)備還包括壓力檢測機(jī)構(gòu)，所述壓力檢測機(jī)構(gòu)用于檢測待對盒的兩塊基板之間的壓力值，并且，所述壓力檢測機(jī)構(gòu)能夠在所述壓力值達(dá)到預(yù)定值時(shí)向所述驅(qū)動機(jī)構(gòu)發(fā)出第一控制信號，所述驅(qū)動機(jī)構(gòu)能夠在接收到所述第一控制信號后停止驅(qū)動所述上吸附臺和所述下機(jī)臺中的任意一者。
[0015]優(yōu)選地，所述對盒設(shè)備還包括對位裝置，所述驅(qū)動裝置還用于移動設(shè)置在所述下機(jī)臺上的基板，所述對位裝置用于判斷所述下機(jī)臺上的基板與所述主吸附機(jī)構(gòu)上的基板是否對準(zhǔn)，當(dāng)所述對位裝置判定所述上機(jī)臺上的基板與所述主吸附機(jī)構(gòu)上的基板對準(zhǔn)時(shí)，能夠向所述驅(qū)動機(jī)構(gòu)發(fā)出第二控制信號，所述驅(qū)動機(jī)構(gòu)能夠在接收到所述第二控制信號后停止移動所述下機(jī)臺上的基板。
[0016]優(yōu)選地，所述對盒設(shè)備還包括用于對所述對盒腔室抽真空的抽真空裝置。
[0017]在利用所述對盒設(shè)備對盒兩個(gè)基板時(shí)，多個(gè)輔助吸附件可以和吸附層一起吸附基板，增加了基板的受力點(diǎn)的個(gè)數(shù)，不同的受力點(diǎn)受力后互相協(xié)調(diào)，基板不容易產(chǎn)生變形。
【附圖說明】
[0018]附圖是用來提供對本發(fā)明的進(jìn)一步理解，并且構(gòu)成說明書的一部分，與下面的【具體實(shí)施方式】一起用于解釋本發(fā)明，但并不構(gòu)成對本發(fā)明的限制。在附圖中:
[0019]圖1是本發(fā)明所提供的對盒設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0020]圖2是吸附盤的仰視不意圖；
[0021]圖3是吸附盤的俯視不意圖；
[0022]圖4是下機(jī)臺與送料叉的示意圖。
[0023]附圖標(biāo)記說明
[0024]100:對盒腔室210:吸附層
[0025]220:輔助吸附件221:吸附盤
[0026]222:吸附桿300:抽真空裝置
[0027]400:下機(jī)臺221a:盤體
[0028]221b:氣囊221c:靜電吸附件
[0029]221d:平衡陀螺儀10:基板
【具體實(shí)施方式】
[0030]以下結(jié)合附圖對本發(fā)明的【具體實(shí)施方式】進(jìn)行詳細(xì)說明。應(yīng)當(dāng)理解的是，此處所描述的【具體實(shí)施方式】僅用于說明和解釋本發(fā)明，并不用于限制本發(fā)明。
[0031]如圖1所示，本發(fā)明提供一種對盒設(shè)備，所述對盒設(shè)備包括對盒腔室100、設(shè)置在對盒腔室100內(nèi)的上吸附和位于對盒腔室100內(nèi)且與所述上吸附臺相對設(shè)置的下機(jī)臺400，所述上吸附臺包括上機(jī)臺(未示出)和設(shè)置在所述上機(jī)臺上的吸附層210，其中，所述對盒設(shè)備還包括多個(gè)輔助吸附件220，該輔助吸附件220包括位于該輔助吸附件220第一端的吸附盤221，所述上吸附臺上設(shè)置有多個(gè)通孔，所述通孔貫穿所述上機(jī)臺和吸附層210，每個(gè)所述通孔對應(yīng)一個(gè)輔助吸附件220，該輔助吸附件220設(shè)置在所述通孔中，且吸附盤221的吸附表面能夠與吸附層210的吸附表面平齊。
[0032]在利用所述對盒設(shè)備對盒兩個(gè)基板時(shí)，多個(gè)輔助吸附件220可以和吸附層210—起吸附基板10，增加了基板10的受力點(diǎn)的個(gè)數(shù)，不同的受力點(diǎn)受力后互相協(xié)調(diào)，基板10不容易產(chǎn)生變形。
[0033]本發(fā)明所提供的對盒設(shè)備尤其適用于對柔性顯示面板的兩個(gè)基板進(jìn)行對盒。柔性顯示面板的基板為柔性基板，當(dāng)在不同位置處收到吸附力時(shí)，容易產(chǎn)生變形。由于本發(fā)明所提供的對盒設(shè)備產(chǎn)生的受力點(diǎn)個(gè)數(shù)較多，各個(gè)吸附點(diǎn)之間互相協(xié)調(diào)，不容易產(chǎn)生變形。
[0034]在本發(fā)明中，對輔助吸附件220的具體結(jié)構(gòu)并沒有特殊的限制，作為本發(fā)明的一種【具體實(shí)施方式】，如圖1所示，輔助吸附件220還包括吸附桿222，每個(gè)吸附桿222的第一端均設(shè)置有一個(gè)吸附盤221。如圖2所示，吸附盤221包括盤體221a和設(shè)置在該盤體221a的下表面上的吸附件。如圖3所示，盤體221a的上表面與吸附桿222的第一端鉸接，吸附盤221還包括設(shè)置在盤體221a的上表面上的平衡陀螺儀221d。
[0035]由于盤體221a與吸附桿222鉸接，因此，盤體221a可以相對于吸附桿222轉(zhuǎn)動。當(dāng)吸附基板10時(shí)，吸附層210以及吸附盤221對基板10的吸附力可以造成基板10的各個(gè)受力點(diǎn)之間互相牽制，由于盤體221a可以相對于吸附桿222轉(zhuǎn)動，因此，基板10的各個(gè)受力點(diǎn)之間能夠互相協(xié)調(diào)，從而可以抵消基板10的變形。并且，盤體221a上設(shè)置有平衡陀螺儀221d，從而可以保證吸附盤221始終處于水平狀態(tài)。
[0036]為了增加盤體221a相對于吸附桿222轉(zhuǎn)動的角度，優(yōu)選地，盤體221a的上表面與吸附桿222球鉸接。
[0037]在本發(fā)明中，對吸附件的具體結(jié)構(gòu)并沒有特殊的限定。例如，所述吸附件可以包括氣囊221b和/或靜電吸附層221c。
[0038]在圖2中所示的實(shí)施方式中，盤體221a上設(shè)置了兩個(gè)吸附件，一個(gè)是氣囊221b，另一個(gè)是靜電吸附層221 C。
[0039]為了便于安裝，優(yōu)選地，所述輔助吸附機(jī)構(gòu)還包括安裝架(未示出)，所述安裝架位于所述上機(jī)臺的上方，所述吸附桿的第二端穿過所述通孔與所述安裝架相連。
[0040]在本發(fā)明中，對主吸附層210的具體結(jié)構(gòu)并沒有特殊限制。例如，主吸附層210可以包括多個(gè)真空吸盤。優(yōu)選地，所述主吸附層由物理吸附材料制成。具體地，物理吸附材料是一種納米橡膠材料，經(jīng)過擠壓，納米橡膠材料的表面緊緊貼附在基板10的表面，納米橡膠材料的表面與基板10的表面之間產(chǎn)生范德華力，從而可以吸附基板10。利用所述物理吸附材料制成所述主吸附層的優(yōu)點(diǎn)在于，在壓合的過程中可以將所述上吸附臺的下壓量設(shè)定為比基板10和基板20對盒后的厚度低，例如，低0.Ιμπι。在這種狀態(tài)下，基板10和基板20之間的隔墊物受壓，可以使得環(huán)繞基板設(shè)置的封框膠被更充分地壓平，從而不會產(chǎn)生顯示面板的四周因?yàn)槿鄙俜饪蚰z而產(chǎn)生的白間隔缺陷。
[0041]在本發(fā)明中，為了便于設(shè)置基板，如圖4所示，所述對盒設(shè)備還可以包括具有多個(gè)叉齒的送料叉500，利用送料叉500可以將基板送入所述對盒腔室內(nèi)，并將所述基板放置在下機(jī)臺400上。為了便于放置基板，優(yōu)選地，所述下機(jī)臺上間隔設(shè)置有多個(gè)溝槽410，該溝槽貫穿下機(jī)臺400的長度方向或?qū)挾确较?，相鄰兩個(gè)溝槽410之間的距離與相鄰兩個(gè)叉齒之間的距離相匹配，以使得送料叉500的叉齒能夠進(jìn)入相應(yīng)的溝槽410中。
[0042]在送入基板時(shí)，首先利用送料叉500將基板運(yùn)送到下機(jī)臺400上方，叉齒與溝槽向?qū)?yīng)，然后向下移動送料叉，直至叉齒進(jìn)入相應(yīng)的溝槽、基板支撐在下機(jī)臺400上為止，撤出送料叉。
[0043]將基板設(shè)置在下機(jī)臺400上之后，驅(qū)動上吸附臺朝向下機(jī)臺400移動，并控制吸附層210和輔助吸附件220將基板吸走。然后再向下機(jī)臺400上設(shè)置另外一個(gè)基板。
[0044]優(yōu)選地，所述對盒設(shè)備還包括驅(qū)動機(jī)構(gòu)，所述驅(qū)動機(jī)構(gòu)用于驅(qū)動所述上吸附臺和下機(jī)臺400中的至少一者，以使得所述上吸附臺和下機(jī)臺400之間產(chǎn)生互相遠(yuǎn)離或互相靠近的相對運(yùn)動.
[0045]作為一種實(shí)施方式，驅(qū)動機(jī)構(gòu)可以僅驅(qū)動所述上吸附臺朝向或遠(yuǎn)離下機(jī)臺400移動。作為另一種實(shí)施方式，所述驅(qū)動機(jī)構(gòu)還可以僅驅(qū)動下機(jī)臺400朝向或遠(yuǎn)離所述上吸附臺移動。作為還一種實(shí)施方式，所述驅(qū)動機(jī)構(gòu)可以驅(qū)動下機(jī)臺400和上吸附臺同時(shí)移動。
[0046]為了獲得較好的壓合效果，優(yōu)選地，所述對盒設(shè)備還包括壓力檢測機(jī)構(gòu)，所述壓力檢測機(jī)構(gòu)用于檢測待對盒的兩塊基板之間的壓力值，并且，所述壓力檢測機(jī)構(gòu)能夠在所述壓力值達(dá)到預(yù)定值時(shí)向所述驅(qū)動機(jī)構(gòu)發(fā)出第一控制信號，所述驅(qū)動機(jī)構(gòu)能夠在接收到所述第一控制信號后停止驅(qū)動所述上吸附臺和下機(jī)臺400中的任意一者，以使得所述上吸附臺和下機(jī)臺400之間不再有相對移動。
[0047]優(yōu)選地，所述對盒設(shè)備還包括對位裝置，所述驅(qū)動機(jī)構(gòu)還用于移動設(shè)置在所述下機(jī)臺上的基板，所述對位裝置用于判斷所述下機(jī)臺上的基板與所述主吸附機(jī)構(gòu)上的基板是否對準(zhǔn)，當(dāng)所述對位裝置判定所述上機(jī)臺上的基板與所述主吸附機(jī)構(gòu)上的基板對準(zhǔn)時(shí)，能夠向所述驅(qū)動機(jī)構(gòu)發(fā)出第二控制信號，所述驅(qū)動機(jī)構(gòu)能夠在接收到所述第二控制信號后停止移動所述下機(jī)臺上的基板。
[0048]在本發(fā)明中，所述對盒設(shè)備可以為真空貼合設(shè)備。相應(yīng)地，如圖1所示，所述對盒設(shè)備還包括用于對所述對盒腔室抽真空的抽真空裝置300。
[0049]利用所述對盒設(shè)備對上基板和下基板對盒包括以下步驟:
[0050]上基板載入，并利用真空吸附盤將上基板固定到上部機(jī)臺，包括:
[0051 ]利用機(jī)械手將上基板設(shè)置在下機(jī)臺上；
[0052]控制吸附盤從上部機(jī)臺的通孔中伸出，對上基板進(jìn)行吸附；
[0053]所述吸附盤上的吸附件的表面接觸玻璃基板，并將表面狀態(tài)傳遞給所述平衡陀螺儀，對平整度進(jìn)行調(diào)節(jié)補(bǔ)償；
[0054]下基板載入；
[0055]閉合對盒腔室，并對所述對盒腔室進(jìn)行抽真空；
[0056]利用所述對位裝置判斷上基板和下基板是否對準(zhǔn)，當(dāng)所述上基板與所述下基板為對準(zhǔn)時(shí)，移動所述下基板，直至所述上基板與所述下基板對準(zhǔn)為止；
[0057]將上基板和下基板進(jìn)行壓合，包括:
[0058]移動上部機(jī)臺的電極根據(jù)所述平衡陀螺儀反饋的數(shù)據(jù)驅(qū)動上部機(jī)臺朝向下部機(jī)臺移動，并施加壓力(通常為2.5KN);
[0059]利用施加在上部機(jī)臺上的壓力將上基板和下基板壓縮到盒厚以下，以獲得基板盒；
[0060]向所述對盒腔室內(nèi)通入氣體，進(jìn)行真空破除；
[0061]所述吸附盤縮回上機(jī)臺上部，上基板與所述吸附層吸附力降低；
[0062]向上基板吹氣，進(jìn)行基板盒剝離；
[0063]機(jī)械手將對盒好的基板從對盒腔室中取出。
[0064]可以理解的是，以上實(shí)施方式僅僅是為了說明本發(fā)明的原理而采用的示例性實(shí)施方式，然而本發(fā)明并不局限于此。對于本領(lǐng)域內(nèi)的普通技術(shù)人員而言，在不脫離本發(fā)明的精神和實(shí)質(zhì)的情況下，可以做出各種變型和改進(jìn)，這些變型和改進(jìn)也視為本發(fā)明的保護(hù)范圍。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種對盒設(shè)備，所述對盒設(shè)備包括對盒腔室和設(shè)置在所述對盒腔室內(nèi)的上吸附臺和位于所述對盒腔室內(nèi)且與所述上吸附臺相對設(shè)置的下機(jī)臺，所述上吸附臺包括上機(jī)臺和設(shè)置在所述上機(jī)臺上的吸附層，其特征在于，所述對盒設(shè)備還包括多個(gè)輔助吸附件，所述輔助吸附件包括位于所述輔助吸附件一端的吸附盤，所述上吸附臺上設(shè)置有多個(gè)通孔，所述通孔貫穿所述上機(jī)臺和所述吸附層，每個(gè)所述通孔對應(yīng)一個(gè)所述輔助吸附件，所述輔助吸附件設(shè)置在所述通孔中，且所述吸附盤的吸附表面能夠與所述吸附層的吸附表面平齊。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的對盒設(shè)備，其特征在于，所述輔助吸附件還包括吸附桿，每個(gè)所述吸附桿的第一端均設(shè)置有一個(gè)所述吸附盤，所述吸附盤包括盤體和設(shè)置在所述盤體的下表面上的吸附件，所述盤體的上表面與所述吸附桿鉸接，所述吸附盤還包括設(shè)置在所述盤體的上表面上的平衡陀螺儀，所述吸附桿的至少一部分位于所述第一通孔中。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的對盒設(shè)備，其特征在于，所述吸附件包括氣囊和/或靜電吸附層。4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任意一項(xiàng)所述的對盒設(shè)備，其特征在于，所述輔助吸附機(jī)構(gòu)還包括安裝架，所述安裝架位于所述上機(jī)臺的上方，所述吸附桿的第二端穿過所述通孔與所述安裝架相連。5.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任意一項(xiàng)所述的對盒設(shè)備，其特征在于，所述主吸附層由物理吸附材料制成。6.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任意一項(xiàng)所述的對盒設(shè)備，其特征在于，所述下機(jī)臺上間隔設(shè)置有多個(gè)溝槽，所述溝槽貫穿所述下機(jī)臺的長度方向或?qū)挾确较?，所述對盒設(shè)備還包括送料叉，所述送料叉包括多個(gè)叉齒，相鄰兩個(gè)所述溝槽之間的間距與相鄰兩個(gè)所述叉齒之間的距離相匹配，以使得所述叉齒能夠進(jìn)入相應(yīng)的所述溝槽中。7.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任意一項(xiàng)所述的對盒設(shè)備，其特征在于，所述對盒設(shè)備還包括驅(qū)動機(jī)構(gòu)，所述驅(qū)動機(jī)構(gòu)用于驅(qū)動所述上吸附臺和所述下機(jī)臺中的至少一者，以使得所述上吸附臺和所述下機(jī)臺之間產(chǎn)生互相遠(yuǎn)離或互相靠近的相對運(yùn)動。8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的對盒設(shè)備，其特征在于，所述對盒設(shè)備還包括壓力檢測機(jī)構(gòu)，所述壓力檢測機(jī)構(gòu)用于檢測待對盒的兩塊基板之間的壓力值，并且，所述壓力檢測機(jī)構(gòu)能夠在所述壓力值達(dá)到預(yù)定值時(shí)向所述驅(qū)動機(jī)構(gòu)發(fā)出第一控制信號，所述驅(qū)動機(jī)構(gòu)能夠在接收到所述第一控制信號后停止驅(qū)動所述上吸附臺和所述下機(jī)臺中的任意一者。9.根據(jù)權(quán)利里要求7所述的對盒設(shè)備，其特征在于，所述對盒設(shè)備還包括對位裝置，所述驅(qū)動機(jī)構(gòu)還用于移動設(shè)置在所述下機(jī)臺上的基板，所述對位裝置用于判斷所述下機(jī)臺上的基板與所述主吸附機(jī)構(gòu)上的基板是否對準(zhǔn)，當(dāng)所述對位裝置判定所述上機(jī)臺上的基板與所述主吸附機(jī)構(gòu)上的基板對準(zhǔn)時(shí)，能夠向所述驅(qū)動機(jī)構(gòu)發(fā)出第二控制信號，所述驅(qū)動機(jī)構(gòu)能夠在接收到所述第二控制信號后停止移動所述下機(jī)臺上的基板。10.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任意一項(xiàng)所述的對盒設(shè)備，其特征在于，所述對盒設(shè)備還包括用于對所述對盒腔室抽真空的抽真空裝置。
【文檔編號】G02F1/1339GK106066555SQ201610515324
【公開日】2016年11月2日
【申請日】2016年6月30日
【發(fā)明人】井楊坤
【申請人】京東方科技集團(tuán)股份有限公司, 合肥京東方光電科技有限公司