機(jī)械制造的對(duì)準(zhǔn)基準(zhǔn)方法和對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及機(jī)械制造的對(duì)準(zhǔn)基準(zhǔn)方法和對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)，其中機(jī)械制造的對(duì)準(zhǔn)基準(zhǔn)方法包括以下步驟:通過(guò)干法在工件上的曝光敏感層中或上形成基準(zhǔn)；測(cè)量和記錄所述基準(zhǔn)在寫入系統(tǒng)所使用的第一坐標(biāo)系中的位置信息，以將第一曝光施加于所述工件；尋找圖案延遲器的基準(zhǔn)線，該基準(zhǔn)線與形成在所述圖案延遲器的上端和下端處的多個(gè)虛設(shè)圖案中的一個(gè)虛設(shè)圖案相距預(yù)定距離；將所述圖案延遲器的所述基準(zhǔn)線與所述顯示板的所述第一坐標(biāo)系中的位置信息對(duì)準(zhǔn)；以及當(dāng)所述圖案延遲器的所述基準(zhǔn)線在容許對(duì)準(zhǔn)誤差范圍內(nèi)與顯示板的第一位置信息和第二位置信息對(duì)準(zhǔn)時(shí)，將所述圖案延遲器附接至所述顯示板，本發(fā)明能實(shí)現(xiàn)機(jī)械制造的對(duì)準(zhǔn)基準(zhǔn)。
【專利說(shuō)明】
機(jī)械制造的對(duì)準(zhǔn)基準(zhǔn)方法和對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本發(fā)明涉及機(jī)械制造領(lǐng)域，尤其涉及機(jī)械制造的對(duì)準(zhǔn)基準(zhǔn)方法和對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)。
【背景技術(shù)】
[0002]立體圖像顯示裝置利用立體技術(shù)或自動(dòng)立體技術(shù)來(lái)顯示3D圖像。立體技術(shù)采取利用左眼與右眼之間的視差，并且可以使用或可以不使用特定眼鏡來(lái)提供3D效果。當(dāng)使用特定眼鏡時(shí)，由于直接發(fā)射型顯示裝置或投影儀以左右圖像的偏振方向改變的方式或按時(shí)分方式來(lái)顯示左右圖像，觀看者通過(guò)偏振眼鏡或快門眼鏡看見3D圖像。在沒(méi)有眼鏡的情況下，諸如視差屏障或雙凸透鏡的光學(xué)部件安裝在顯示屏前面或后面，以分離左右圖像的光軸。
[0003]在采用偏振眼鏡的3D圖像實(shí)現(xiàn)中，需要將諸如圖案延遲器(pattern retarder)的偏振分離元件附接(attach)在顯示板上。圖案延遲器使顯示在顯示板上的左眼和右眼圖像的偏振彼此不同。當(dāng)利用偏振眼鏡觀看顯示在立體圖像顯示裝置上的3D圖像時(shí)，觀看者通過(guò)偏振眼鏡的左眼濾光器感覺(jué)左眼圖像偏振光，并通過(guò)偏振眼鏡的右眼濾光器感覺(jué)右眼圖像偏振光，從而察覺(jué)到3D效果。
[0004]然而，快門眼鏡型立體圖像顯示裝置在顯示板上交替地顯示左右眼圖像，并且分別與左右眼圖像同步地打開快門眼鏡的左右快門，而不需要使用偏振分離元件。觀看者通過(guò)左快門看到左眼圖像而通過(guò)右快門看到右眼圖像，從而察覺(jué)到3D效果。盡管不需要任何偏振分離元件，但快門眼鏡型立體圖像顯示裝置因昂貴的快門眼鏡而遭受高價(jià)格。從3D圖像質(zhì)量的角度來(lái)看，快門眼鏡型立體圖像顯示裝置因?yàn)樽笥已蹐D像經(jīng)受具有預(yù)定時(shí)間間隔的時(shí)分而不利，與偏振眼鏡型顯示裝置相比，這增加了閃爍和3D串?dāng)_，從而造成觀看者的疲勞增加?！伴W爍”指其中顯示在顯示板上的圖像的亮度按恒定時(shí)間間隔波動(dòng)的現(xiàn)象。“3D串?dāng)_”指觀看者利用單只眼睛(左眼或右眼)同時(shí)察覺(jué)到顯示在顯示板上的左右眼圖像，致使用戶察覺(jué)到圖像交疊。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]鑒于目前技術(shù)存在的上述不足，本發(fā)明提供機(jī)械制造的對(duì)準(zhǔn)基準(zhǔn)方法和對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)，本發(fā)明能實(shí)現(xiàn)機(jī)械制造的對(duì)準(zhǔn)基準(zhǔn)。
[0006]本發(fā)明的采用如下技術(shù)方案:
[0007]機(jī)械制造的對(duì)準(zhǔn)基準(zhǔn)方法，包括以下步驟:
[0008]通過(guò)干法在工件上的曝光敏感層中或上形成基準(zhǔn)；
[0009]測(cè)量和記錄所述基準(zhǔn)在寫入系統(tǒng)所使用的第一坐標(biāo)系中的位置信息，以將第一曝光施加于所述工件；
[0010]尋找圖案延遲器的基準(zhǔn)線，該基準(zhǔn)線與形成在所述圖案延遲器的上端和下端處的多個(gè)虛設(shè)圖案中的一個(gè)虛設(shè)圖案相距預(yù)定距離；
[0011]將所述圖案延遲器的所述基準(zhǔn)線與所述顯示板的所述第一坐標(biāo)系中的位置信息對(duì)準(zhǔn)；以及當(dāng)所述圖案延遲器的所述基準(zhǔn)線在容許對(duì)準(zhǔn)誤差范圍內(nèi)與顯示板的第一位置信息和第二位置信息對(duì)準(zhǔn)時(shí)，將所述圖案延遲器附接至所述顯示板。
[0012]作為本發(fā)明的優(yōu)選技術(shù)方案，所述干法在光致抗蝕劑的聚合物層中形成所述基準(zhǔn)。
[0013]作為本發(fā)明的優(yōu)選技術(shù)方案，所述干法通過(guò)機(jī)械壓痕形成所述基準(zhǔn)。
[0014]作為本發(fā)明的優(yōu)選技術(shù)方案，所述第一位置信息，該第一位置信息形成在所述顯示板的左中間部分處;和第二位置信息，該第二位置信息形成在所述顯示板的右中間部分處，其中，所述第一位置信息和所述第二位置信息中的每個(gè)都包括:一個(gè)或更多個(gè)左圖案；和布置為從所述一個(gè)或更多個(gè)左圖案偏移的一個(gè)或更多個(gè)右圖案。
[0015]作為本發(fā)明的優(yōu)選技術(shù)方案，所述第一位置信息和所述第二位置信息與基于所述圖案延遲器的偏振選擇圖案的基準(zhǔn)線對(duì)準(zhǔn)。
[0016]作為本發(fā)明的優(yōu)選技術(shù)方案，所述第一位置信息和所述第二位置信息關(guān)于所述顯示板的中心對(duì)稱。
[0017]本發(fā)明的另外一面，包括干基準(zhǔn)形成站，物理地修改工件上的曝光敏感層，以在所述曝光敏感層中或上產(chǎn)生基準(zhǔn)；臺(tái)，接收所述工件以用于使用寫入系統(tǒng)進(jìn)行曝光;光學(xué)系統(tǒng)、檢測(cè)器和位置處理器，測(cè)量和記錄所述基準(zhǔn)在所述寫入系統(tǒng)所使用的第一坐標(biāo)系中的第一位置信息，以將第一曝光施加于所述工件，其中，在將所述工件重新定位在臺(tái)上之后，所述光學(xué)系統(tǒng)、檢測(cè)器和位置處理器還測(cè)量和記錄所述基準(zhǔn)的第二位置信息或所述基準(zhǔn)轉(zhuǎn)印到所述工件的另一層上的第二位置信息；曝光控制器，使用所述第二位置信息來(lái)相對(duì)于所述第一坐標(biāo)系對(duì)準(zhǔn)第二坐標(biāo)系；以及使用所述第二坐標(biāo)系將第二曝光施加于所述工件。
[0018]作為本發(fā)明的優(yōu)選技術(shù)方案，所述干基準(zhǔn)形成站物理地修改光致抗蝕劑的聚合物層。
[0019]作為本發(fā)明的優(yōu)選技術(shù)方案，所述干基準(zhǔn)形成站包括通過(guò)機(jī)械壓痕形成所述基準(zhǔn)的尖端和撞擊裝置。
[0020]作為本發(fā)明的優(yōu)選技術(shù)方案，所述機(jī)械壓痕經(jīng)由所述曝光敏感層暴露所述工件上的第一圖案化層。
[0021]本發(fā)明的機(jī)械制造的對(duì)準(zhǔn)基準(zhǔn)方法和對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)，其中機(jī)械制造的對(duì)準(zhǔn)基準(zhǔn)方法包括以下步驟:通過(guò)干法在工件上的曝光敏感層中或上形成基準(zhǔn)；測(cè)量和記錄所述基準(zhǔn)在寫入系統(tǒng)所使用的第一坐標(biāo)系中的位置信息，以將第一曝光施加于所述工件;尋找圖案延遲器的基準(zhǔn)線，該基準(zhǔn)線與形成在所述圖案延遲器的上端和下端處的多個(gè)虛設(shè)圖案中的一個(gè)虛設(shè)圖案相距預(yù)定距離;將所述圖案延遲器的所述基準(zhǔn)線與所述顯示板的所述第一坐標(biāo)系中的位置信息對(duì)準(zhǔn)；以及當(dāng)所述圖案延遲器的所述基準(zhǔn)線在容許對(duì)準(zhǔn)誤差范圍內(nèi)與顯示板的第一位置信息和第二位置信息對(duì)準(zhǔn)時(shí)，將所述圖案延遲器附接至所述顯示板，本發(fā)明能實(shí)現(xiàn)機(jī)械制造的對(duì)準(zhǔn)基準(zhǔn)。
【附圖說(shuō)明】
[0022]為了更清楚地說(shuō)明本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0023]圖1為本發(fā)明中機(jī)械制造的對(duì)準(zhǔn)基準(zhǔn)方法的流程示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0024]下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒景l(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
[0025]如圖1為本發(fā)明提供的機(jī)械制造的對(duì)準(zhǔn)基準(zhǔn)方法，包括以下步驟:
[0026]步驟S1:通過(guò)干法在工件上的曝光敏感層中或上形成基準(zhǔn)，其中，干法在光致抗蝕劑的聚合物層中形成所述基準(zhǔn)，或者干法通過(guò)機(jī)械壓痕形成所述基準(zhǔn)。
[0027]步驟S2:測(cè)量和記錄所述基準(zhǔn)在寫入系統(tǒng)所使用的第一坐標(biāo)系中的位置信息，以將第一曝光施加于所述工件，其中，所述第一位置信息，該第一位置信息形成在所述顯示板的左中間部分處;和第二位置信息，該第二位置信息形成在所述顯示板的右中間部分處，其中，所述第一位置信息和所述第二位置信息中的每個(gè)都包括:一個(gè)或更多個(gè)左圖案;和布置為從所述一個(gè)或更多個(gè)左圖案偏移的一個(gè)或更多個(gè)右圖案，更具體為，第一位置信息和所述第二位置信息與基于所述圖案延遲器的偏振選擇圖案的基準(zhǔn)線對(duì)準(zhǔn)。
[0028]步驟S3:尋找圖案延遲器的基準(zhǔn)線，該基準(zhǔn)線與形成在所述圖案延遲器的上端和下端處的多個(gè)虛設(shè)圖案中的一個(gè)虛設(shè)圖案相距預(yù)定距離；
[0029]步驟S4:將所述圖案延遲器的所述基準(zhǔn)線與所述顯示板的所述第一坐標(biāo)系中的位置信息對(duì)準(zhǔn)；以及當(dāng)所述圖案延遲器的所述基準(zhǔn)線在容許對(duì)準(zhǔn)誤差范圍內(nèi)與顯示板的第一位置信息和第二位置信息對(duì)準(zhǔn)時(shí)，將所述圖案延遲器附接至所述顯示板，其中，第一位置信息和所述第二位置信息關(guān)于所述顯示板的中心對(duì)稱。
[0030]本發(fā)明提供的另外一面，包括干基準(zhǔn)形成站，物理地修改工件上的曝光敏感層，以在所述曝光敏感層中或上產(chǎn)生基準(zhǔn)；臺(tái)，接收所述工件以用于使用寫入系統(tǒng)進(jìn)行曝光;光學(xué)系統(tǒng)、檢測(cè)器和位置處理器，測(cè)量和記錄所述基準(zhǔn)在所述寫入系統(tǒng)所使用的第一坐標(biāo)系中的第一位置信息，以將第一曝光施加于所述工件，其中，在將所述工件重新定位在臺(tái)上之后，所述光學(xué)系統(tǒng)、檢測(cè)器和位置處理器還測(cè)量和記錄所述基準(zhǔn)的第二位置信息或所述基準(zhǔn)轉(zhuǎn)印到所述工件的另一層上的第二位置信息；曝光控制器，使用所述第二位置信息來(lái)相對(duì)于所述第一坐標(biāo)系對(duì)準(zhǔn)第二坐標(biāo)系；以及使用所述第二坐標(biāo)系將第二曝光施加于所述工件。
[0031 ]在本實(shí)施例中，干基準(zhǔn)形成站物理地修改光致抗蝕劑的聚合物層。
[0032]在本實(shí)施例中，干基準(zhǔn)形成站包括通過(guò)機(jī)械壓痕形成所述基準(zhǔn)的尖端和撞擊裝置。
[0033]在本實(shí)施例中，機(jī)械壓痕經(jīng)由所述曝光敏感層暴露所述工件上的第一圖案化層。
[0034]綜上所述，本發(fā)明的機(jī)械制造的對(duì)準(zhǔn)基準(zhǔn)方法和對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)，其中機(jī)械制造的對(duì)準(zhǔn)基準(zhǔn)方法包括以下步驟:通過(guò)干法在工件上的曝光敏感層中或上形成基準(zhǔn)；測(cè)量和記錄所述基準(zhǔn)在寫入系統(tǒng)所使用的第一坐標(biāo)系中的位置信息，以將第一曝光施加于所述工件;尋找圖案延遲器的基準(zhǔn)線，該基準(zhǔn)線與形成在所述圖案延遲器的上端和下端處的多個(gè)虛設(shè)圖案中的一個(gè)虛設(shè)圖案相距預(yù)定距離;將所述圖案延遲器的所述基準(zhǔn)線與所述顯示板的所述第一坐標(biāo)系中的位置信息對(duì)準(zhǔn)；以及當(dāng)所述圖案延遲器的所述基準(zhǔn)線在容許對(duì)準(zhǔn)誤差范圍內(nèi)與顯示板的第一位置信息和第二位置信息對(duì)準(zhǔn)時(shí)，將所述圖案延遲器附接至所述顯示板，本發(fā)明能實(shí)現(xiàn)機(jī)械制造的對(duì)準(zhǔn)基準(zhǔn)。
[0035]以上所述，僅為本發(fā)明的【具體實(shí)施方式】，但本發(fā)明的保護(hù)范圍并不局限于此，任何熟悉本領(lǐng)域技術(shù)的技術(shù)人員在本發(fā)明公開的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到的變化或替換，都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。因此，本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)以所述權(quán)利要求的保護(hù)范圍為準(zhǔn)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.機(jī)械制造的對(duì)準(zhǔn)基準(zhǔn)方法，其特征在于，包括以下步驟: 通過(guò)干法在工件上的曝光敏感層中或上形成基準(zhǔn)； 測(cè)量和記錄所述基準(zhǔn)在寫入系統(tǒng)所使用的第一坐標(biāo)系中的 位置信息，以將第一曝光施加于所述工件； 尋找圖案延遲器的基準(zhǔn)線，該基準(zhǔn)線與形成在所述圖案延遲器的上端和下端處的多個(gè)虛設(shè)圖案中的一個(gè)虛設(shè)圖案相距預(yù)定距離； 將所述圖案延遲器的所述基準(zhǔn)線與所述顯示板的所述第一坐標(biāo)系中的位置信息對(duì)準(zhǔn)；以及當(dāng)所述圖案延遲器的所述基準(zhǔn)線在容許對(duì)準(zhǔn)誤差范圍內(nèi)與顯示板的第一位置信息和第二位置信息對(duì)準(zhǔn)時(shí)，將所述圖案延遲器附接至所述顯示板。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的機(jī)械制造的對(duì)準(zhǔn)基準(zhǔn)方法，其特征在于，所述干法在光致抗蝕劑的聚合物層中形成所述基準(zhǔn)。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的機(jī)械制造的對(duì)準(zhǔn)基準(zhǔn)方法，其特征在于，所述干法通過(guò)機(jī)械壓痕形成所述基準(zhǔn)。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的機(jī)械制造的對(duì)準(zhǔn)基準(zhǔn)方法，其特征在于，所述第一位置信息，該第一位置信息形成在所述顯示板的左中間部分處;和第二位置信息，該第二位置信息形成在所述顯示板的右中間部分處，其中，所述第一位置信息和所述第二位置信息中的每個(gè)都包括:一個(gè)或更多個(gè)左圖案;和布置為從所述一個(gè)或更多個(gè)左圖案偏移的一個(gè)或更多個(gè)右圖案。5.根據(jù)權(quán)利要求1-4任一所述的機(jī)械制造的對(duì)準(zhǔn)基準(zhǔn)方法，其特征在于，所述第一位置信息和所述第二位置信息與基于所述圖案延遲器的偏振選擇圖案的基準(zhǔn)線對(duì)準(zhǔn)。6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的機(jī)械制造的對(duì)準(zhǔn)基準(zhǔn)方法，其特征在于，所述第一位置信息和所述第二位置信息關(guān)于所述顯示板的中心對(duì)稱。7.—種根據(jù)權(quán)利要求5所述的機(jī)械制造的對(duì)準(zhǔn)基準(zhǔn)系統(tǒng)，其特征在于，包括干基準(zhǔn)形成站，物理地修改工件上的曝光敏感層，以在所述曝光敏感層中或上產(chǎn)生基準(zhǔn)；臺(tái)，接收所述工件以用于使用寫入系統(tǒng)進(jìn)行曝光;光學(xué)系統(tǒng)、檢測(cè)器和位置處理器，測(cè)量和記錄所述基準(zhǔn)在所述寫入系統(tǒng)所使用的第一坐標(biāo)系中的第一位置信息，以將第一曝光施加于所述工件，其中，在將所述工件重新定位在臺(tái)上之后，所述光學(xué)系統(tǒng)、檢測(cè)器和位置處理器還測(cè)量和記錄所述基準(zhǔn)的第二位置信息或所述基準(zhǔn)轉(zhuǎn)印到所述工件的另一層上的第二位置信息;曝光控制器，使用所述第二位置信息來(lái)相對(duì)于所述第一坐標(biāo)系對(duì)準(zhǔn)第二坐標(biāo)系；以及使用所述第二坐標(biāo)系將第二曝光施加于所述工件。8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的機(jī)械制造的對(duì)準(zhǔn)基準(zhǔn)方法，其特征在于，所述干基準(zhǔn)形成站物理地修改光致抗蝕劑的聚合物層。9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的機(jī)械制造的對(duì)準(zhǔn)基準(zhǔn)方法，其特征在于，所述干基準(zhǔn)形成站包括通過(guò)機(jī)械壓痕形成所述基準(zhǔn)的尖端和撞擊裝置。10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的機(jī)械制造的對(duì)準(zhǔn)基準(zhǔn)方法，其特征在于，所述機(jī)械壓痕經(jīng)由所述曝光敏感層暴露所述工件上的第一圖案化層。
【文檔編號(hào)】G03F9/00GK105867078SQ201610172910
【公開日】2016年8月17日
【申請(qǐng)日】2016年3月24日
【發(fā)明人】宋慧, 劉娜, 曾實(shí)現(xiàn), 劉紀(jì)新, 陳江波, 王培芹, 陳會(huì)偉
【申請(qǐng)人】青島黃海學(xué)院