一種投影裝置及方法
【專利摘要】本發(fā)明實(shí)施例公開了一種投影裝置，包括：投影腔、光源、掃描電機(jī)和處理器；所述光源和所述掃描電機(jī)位于所述投影腔內(nèi)部，所述處理器分別與所述光源和所述掃描電機(jī)連接；所述掃描電機(jī)的掃描鏡面上有反射層，所述反射層用于反射所述光源發(fā)出的光線。采用本發(fā)明實(shí)施例，具有可增大光線的反射范圍，擴(kuò)大投影視角的優(yōu)點(diǎn)。
【專利說明】
_種投影裝置及方法
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本發(fā)明涉及電子技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種投影裝置及方法。
【背景技術(shù)】
[0002]當(dāng)前，近眼光場顯示用于增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)(Augmented Real ity，簡稱AR)和虛擬現(xiàn)實(shí)(Virtual Reality，簡稱VR)等技術(shù)，可以帶來更加逼真的3D顯示效果，進(jìn)而成為了未來3D顯示技術(shù)的發(fā)展趨勢。在光場顯示技術(shù)中，寬視角微投影器件是生成光場的基礎(chǔ)部件，正在被許多廠家投入研究。在數(shù)字光處理(Digital Light ProCeSsing，DLP)系統(tǒng)中，數(shù)字微鏡元件(Digital Mirror Device，DMD)的尺寸決定了投影視場(Field Of View，F(xiàn)0V)大小，SP，DMD尺寸越大得到的投影FOV越大，DMD尺寸越小得到的投影FOV越小。然而，目前的半導(dǎo)體制造工藝使得DMD尺寸難以做大，現(xiàn)有的DLP投影系統(tǒng)的投影FOV受DMD尺寸的限制，投影FOV對應(yīng)的投影視角過小，難以滿足用戶觀影的需求。此外，大尺寸的DMD價格昂貴，通過改進(jìn)DMD尺寸來實(shí)現(xiàn)投影FOV的范圍擴(kuò)大的實(shí)現(xiàn)成本高。
[0003]現(xiàn)有技術(shù)一米用微電子機(jī)械系統(tǒng)(Micro-Electro-MechanicaISystem，MEMS)來做投影，通過壓電陶瓷電機(jī)或者電磁技術(shù)驅(qū)動鏡片進(jìn)行掃描，鏡片繞中心旋轉(zhuǎn)。然而，通過鏡片繞中心旋轉(zhuǎn)來進(jìn)行掃描，投影FOV受鏡子的最大旋轉(zhuǎn)角度限制，并且現(xiàn)有的鏡子的最大旋轉(zhuǎn)角度較小，使得投影FOV對應(yīng)的投影視角依然較小，無法滿足用戶的觀影需求。
[0004]現(xiàn)有技術(shù)二采用光纖掃描投影技術(shù)來做投影，通過微型電機(jī)驅(qū)動光纖達(dá)到共振狀態(tài)，通過光纖掃描來獲取較大的投影視角，以此來獲取能夠滿足用戶觀影的投影FOV的需求。然而，現(xiàn)有技術(shù)通過微型電機(jī)驅(qū)動光纖達(dá)到共振狀態(tài)對裝配要求較高，包括光纖伸出的長短、材料以及電機(jī)的位置都會影響到整個系統(tǒng)的共振頻率，操作難度高，實(shí)現(xiàn)成本高。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本申請?zhí)峁┝艘环N投影裝置及投影方法，可增大光線的反射范圍，擴(kuò)大投影視角。
[0006]第一方面提供了一種投影裝置，其可包括:
[0007]投影腔、光源、掃描電機(jī)和處理器；
[0008]所述光源和所述掃描電機(jī)位于所述投影腔內(nèi)部，所述處理器分別與所述光源和所述掃描電機(jī)連接；
[0009]所述掃描電機(jī)的掃描鏡面上有反射層，所述反射層用于反射所述光源發(fā)出的光線。
[0010]本申請?zhí)峁┑耐队把b置可在投影腔中設(shè)置掃描電機(jī)，在掃描電機(jī)的掃描鏡面上設(shè)置反射層。通過處理器驅(qū)動掃描電機(jī)進(jìn)行掃描，并通過掃描電機(jī)的掃描鏡頭上的反射層將光源發(fā)出的光線反射出投影腔。通過反射層反射光源發(fā)出的光線，可增大光線的反射范圍，進(jìn)而可擴(kuò)大投影視角，提高投影裝置的用戶體驗(yàn)。
[0011]結(jié)合第一方面，在第一種可能的實(shí)現(xiàn)方式中，所述反射層包括:電鍍涂層、蒸汽鍍涂層或粘合反光片中的至少一種。
[0012]本申請?zhí)峁┑耐队把b置可采用電鍍的方式在掃描電機(jī)的掃描鏡頭上鍍上可反射涂層，也可采用蒸汽鍍的方式在掃描電機(jī)的掃描鏡頭上鍍上可反射涂層，或者在掃描電機(jī)的掃描鏡頭上添加粘合反光片，提高了反射層的形式多樣性，增強(qiáng)了投影裝置的適用性。
[0013]結(jié)合第一方面，在第二種可能的實(shí)現(xiàn)方式中，所述反射層覆蓋的掃描鏡面的形狀為圓弧曲面。
[0014]本申請在圓弧曲面狀的掃描鏡頭上添加反射層，使得反射出投影腔的光線的掃描范圍大于掃描電機(jī)本身的掃描范圍。
[0015]結(jié)合第一方面至第一方面第二種可能的實(shí)現(xiàn)方式中任一種，在第三種可能的實(shí)現(xiàn)方式中，所述投影腔由底部、頂部和內(nèi)壁構(gòu)成；
[0016]所述投影腔的頂部有擴(kuò)散層，所述擴(kuò)散層用于將所述反射層反射過來的光線擴(kuò)散出所述投影腔。
[0017]本申請可在投影腔的頂部設(shè)置擴(kuò)散層，通過擴(kuò)散層將反射層反射過來的光線擴(kuò)散出投影腔，進(jìn)一步擴(kuò)大了投影視角，可提高用戶體驗(yàn)。
[0018]結(jié)合第一方面第三種可能的實(shí)現(xiàn)方式，在第四種可能的實(shí)現(xiàn)方式中，所述擴(kuò)散層包括:透鏡層，或者光柵層。
[0019]本申請?zhí)峁┑臄U(kuò)散層可包括透鏡層或者光柵層等，提高了擴(kuò)散層的選擇多樣性，增強(qiáng)投影裝置的適應(yīng)性。
[0020]結(jié)合第一方面至第一方面第二種可能的實(shí)現(xiàn)方式中任一種，在第五種可能的實(shí)現(xiàn)方式中，所述投影腔由底部、頂部和內(nèi)壁構(gòu)成；
[0021]所述光源位于所述投影腔的內(nèi)壁上，所述掃描電機(jī)位于所述投影腔的內(nèi)壁與所述投影腔的底部的銜接邊上。
[0022]本申請?zhí)峁┑耐队把b置可將光源設(shè)置在投影腔的內(nèi)壁上，將掃描電機(jī)設(shè)置在投影腔的內(nèi)壁和投影腔的底部的銜接邊上，可增大光源發(fā)出的光線照射到掃描電機(jī)上的照射范圍，進(jìn)而可提高照射在反射層上的入射光線通過反射層反射出去的范圍。
[0023]結(jié)合第一方面第五種可能的實(shí)現(xiàn)方式，在第六種可能的實(shí)現(xiàn)方式中，所述投影系統(tǒng)還包括:感光器件和反饋單元；
[0024]所述感光器件位于所述投影腔的內(nèi)壁或者所述投影腔的底部，所述反饋單元一端與所述感光器件相連，所述反饋單元另一端與所述處理器相連。
[0025]本申請?zhí)峁┑耐队把b置可將感光器件設(shè)置在投影腔的內(nèi)壁和投影腔的底部，進(jìn)而可更好地采集掃描電機(jī)在光源的照射下投射在感光器件上的陰影，并通過反饋單元反饋給處理器，以通過處理器調(diào)整投影裝置的工作模式，增強(qiáng)了投影裝置的可控制性，進(jìn)而提高投影裝置的適用性。
[0026]結(jié)合第一方面，在第七種可能的實(shí)現(xiàn)方式中，所述掃描電機(jī)用于根據(jù)所述處理器設(shè)定的指定掃描模型進(jìn)行旋轉(zhuǎn)掃描，所述反射層的覆蓋面積的直徑小于或者等于所述掃描電機(jī)的旋轉(zhuǎn)線速度和所述光源的脈沖寬度的乘積。
[0027]本申請?zhí)峁┑耐队把b置可通過掃描電機(jī)的旋轉(zhuǎn)掃描來擴(kuò)大反射層的反射范圍，反射層的覆蓋面積的直徑由掃描電機(jī)的旋轉(zhuǎn)線速度和光源的脈沖寬度決定，可保證投影裝置投影得到的圖像的清晰度，提高投影裝置的用戶體驗(yàn)。
[0028]第二方面，提供了一種投影方法，其可包括:
[0029]掃描電機(jī)根據(jù)指定掃描模式進(jìn)行旋轉(zhuǎn)掃描；
[0030]當(dāng)光源發(fā)出的光線照射到所述掃描電機(jī)的掃描鏡面上時，所述掃描電機(jī)通過所述掃描鏡面上的反射層反射所述光線。
[0031]結(jié)合第二方面，在第一種可能的實(shí)現(xiàn)方式中，所述指定掃描模式包括:Z字形掃描模式、螺旋形掃描模式或者圓圈形掃描模式中的至少一種。
[0032]結(jié)合第二方面，在第二種可能的實(shí)現(xiàn)方式中，所述反射層覆蓋的掃描鏡面的形狀為圓弧曲面；
[0033]所述圓弧曲面確定的圓弧與所述掃描電機(jī)旋轉(zhuǎn)掃描時確定的掃描圓弧為共心圓弧。
【附圖說明】
[0034]為了更清楚地說明本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案，下面將對實(shí)施例描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0035]圖1是本發(fā)明實(shí)施例提供的投影裝置的一結(jié)構(gòu)示意圖；
[0036]圖2是本發(fā)明實(shí)施例提供的投影裝置的另一結(jié)構(gòu)示意圖；
[0037]圖3是本發(fā)明實(shí)施例提供的投影裝置的另一結(jié)構(gòu)示意圖；
[0038]圖4是本發(fā)明實(shí)施例提供的投影方法的流程示意圖；
[0039]附圖標(biāo)記:
[0040]I一投影腔，11一投影腔底部；
[0041]12—投影腔頂部，13—投影腔內(nèi)壁；
[0042]3一掃描電機(jī)，31—反射層；
[0043]4 一處理器，41 一反饋單元；
[0044]2—光源，5—凸面反射面；
[0045]6一投影視角I對應(yīng)曲線，61—投影視角2對應(yīng)曲線；
[0046]7 一擴(kuò)散層，8—感光器件。
【具體實(shí)施方式】
[0047]下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒景l(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有作出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
[0048]參見圖1，是本發(fā)明實(shí)施例提供的投影裝置的一結(jié)構(gòu)示意圖。本發(fā)明實(shí)施例提供的投影裝置，包括:投影腔1、光源2、掃描電機(jī)3和處理器4。
[0049]具體實(shí)現(xiàn)中，上述投影腔I可包括圓柱體投影腔、正方體投影腔、長方體投影腔或者正六邊體投影腔等多邊體投影腔，具體可根據(jù)實(shí)際應(yīng)用場景需求或者裝置的制造工藝確定，在此不做限制。圖1所示的投影腔為投影腔的正視圖，圖1所示示意圖僅用于更好地描述投影裝置的結(jié)構(gòu)特征，更多的示意圖具體可根據(jù)實(shí)際應(yīng)用場景確定，在此不作限制。
[0050]具體實(shí)現(xiàn)中，上述投影腔可由底部11、頂部12和內(nèi)壁13構(gòu)成。其中，若投影腔I為圓柱體投影腔，上述內(nèi)壁13則為投影腔的側(cè)面，該側(cè)面的展開圖為矩形。若上述投影腔I為正方體投影腔或者長方體投影腔，上述內(nèi)壁13則為投影腔的四個側(cè)面，所有側(cè)面均為了一個正方形或者長方形。若上述投影腔I為正六邊體投影腔等多邊體投影腔，上述內(nèi)壁13則為投影腔的六個側(cè)面，所有側(cè)面均為一個矩形。上述投影腔I的內(nèi)壁13的具體形狀可根據(jù)實(shí)際應(yīng)用場景確定，在此不做限制。
[0051]上述光源2和掃描電機(jī)3位于投影腔I內(nèi)部。具體的，上述光源2設(shè)置于投影腔的內(nèi)壁13上，掃描電機(jī)3設(shè)置于投影腔的內(nèi)壁13與投影腔的底部11的銜接邊上。具體的，若投影腔I為圓柱體投影腔，光源2設(shè)置在投影腔的內(nèi)壁13上的任一位置，掃描電機(jī)3則可設(shè)置在光源2發(fā)出的光線的照射范圍內(nèi)。若投影腔I是多邊體投影腔，光源2可設(shè)置在投影腔的內(nèi)壁13的任意一個側(cè)面上，掃描電機(jī)3則可設(shè)置在光源2所處側(cè)面的對稱面上，或者光源2所處側(cè)面的對稱面及其相鄰面等位置。上述光源2所處側(cè)面的對稱面或者光源2所處側(cè)面的對稱面及其相鄰面為光源2發(fā)出的光線的照射范圍內(nèi)的任意面。上述掃描電機(jī)3的固定腳可設(shè)置在投影腔I的內(nèi)壁13上，掃描電機(jī)3的固定腳也可設(shè)置在投影腔I的底部11上。掃描電機(jī)3的具體設(shè)置方式可根據(jù)實(shí)際應(yīng)用場景確定，在此不做限制。
[0052]上述掃描電機(jī)3的掃描鏡面上有反射層31。上述反射層31用于反射光源2發(fā)出的光線，以將光源2發(fā)出的光線反射出投影腔I。具體的，上述反射層31的材質(zhì)可包括電鍍涂層、蒸汽鍍涂層或者粘合反光片等。其中，上述電鍍涂層具體可為電鍍金屬層，上述蒸汽鍍涂層具體可為蒸汽鍍金屬層。上述反射層31的制作方式和材質(zhì)具體可根據(jù)實(shí)際應(yīng)用場景確定，在此不做限制。
[0053]進(jìn)一步的，上述反射層31覆蓋在掃描鏡面上的覆蓋面形狀可包括圓形、等邊多邊形或者不規(guī)則圖形等，具體可根據(jù)投影裝置的制造工藝確定，在此不做限制。在本發(fā)明實(shí)施例中，反射層31的覆蓋面的最大直徑等于掃描電機(jī)3旋轉(zhuǎn)掃描時的旋轉(zhuǎn)線速度和光源的脈沖寬度的乘積，可保證投影圖像的清晰度，提高投影圖像的顯示效果。若反射層31的覆蓋面為圓形，則圓形的直徑即為覆蓋面的最大直徑。若反射層31的覆蓋面為等邊多邊形，則等邊多邊形的中心到各個角的直線為最大直徑。若反射層面31的覆蓋面為不規(guī)則圖形，則可將不規(guī)則圖形劃分為多個規(guī)則小圖形，規(guī)則小圖形中的最大直徑為覆蓋面的最大直徑，其他規(guī)則小圖形的直徑小于覆蓋面的最大直徑。其中，上述脈沖寬度決定了反射光線形成的投影圖像的分辨率。若反射層31的覆蓋面的最大直徑過大，則將使得投影圖像變模糊。若反射層31的覆蓋面積的最大直徑過小，則將使得投影圖像的像素點(diǎn)分布不連續(xù)，影響圖像的顯示效果。
[0054]進(jìn)一步的，上述反射層31覆蓋的掃描鏡面的形狀可為圓弧曲面，圓弧曲面確定的圓弧跟掃描電機(jī)3旋轉(zhuǎn)掃描時確定的掃描圓弧為共心圓弧。掃描電機(jī)3進(jìn)行旋轉(zhuǎn)掃描時可使掃描電機(jī)3的掃描鏡面上的反射層31的運(yùn)動軌跡形成凸面反射面，如圖1中的凸面反射面5，可使得反射出投影腔的光線的掃描范圍大于掃描電機(jī)本身的掃描范圍。上述凸面反射面5與反射層31覆蓋的掃描鏡面的形狀確定的曲面圓弧為共心圓弧。當(dāng)反射層31的面積足夠小時，反射層31覆蓋的掃描鏡面的形狀則近似為平面。其中，當(dāng)反射層的面積足夠小時，反射層覆蓋的掃描鏡面對應(yīng)的圓弧的圓心角為Θ，并且滿足sin0約等于Θ。
[0055]上述處理器4可設(shè)置在投影腔I內(nèi)部，也可設(shè)置在投影腔I外部，在此不做限制。下面將以處理器設(shè)置在投影腔I外部為例進(jìn)行說明。處理器4分別和光源2和掃描電機(jī)3連接。
[0056]具體實(shí)現(xiàn)中，處理器4可預(yù)先設(shè)定驅(qū)動掃描電機(jī)3進(jìn)行旋轉(zhuǎn)掃描的掃描模型，并存儲到投影裝置的存儲器(圖1中未示出)中。當(dāng)投影裝置開啟工作模式時，處理器4則可從存儲器中獲取上述掃描模型輸出的指定掃描模式，并根據(jù)上述指定掃描模式驅(qū)動掃描電機(jī)3進(jìn)行旋轉(zhuǎn)掃描。具體的，處理器4可根據(jù)預(yù)設(shè)的指定掃描模式確定掃描電機(jī)進(jìn)行旋轉(zhuǎn)掃描的轉(zhuǎn)動方向、掃描頻率以及所需的掃描電壓大小等掃描參數(shù)，進(jìn)而可根據(jù)上述掃描參數(shù)驅(qū)動掃描電機(jī)進(jìn)行旋轉(zhuǎn)掃描。其中，上述指定掃描模式可包括:Z字形掃描模式、螺旋形掃描模式或者圓圈形掃描模式等，在此不做限制。
[0057]進(jìn)一步的，具體實(shí)現(xiàn)中，處理器4還可根據(jù)掃描電機(jī)3旋轉(zhuǎn)掃描過程中掃描鏡面與光源2的相對位置關(guān)系，確定光源發(fā)出的光線照射掃描鏡面時掃描鏡面的反射層31上入射光線的方向，進(jìn)而可確定反射層31將上述入射光線反射出去時的反射光線的方向。處理器4確定了反射光線的方向之后，則可根據(jù)存儲器中存儲的待投影圖像的數(shù)據(jù)確定光源發(fā)出的光線的光線參數(shù)，以使反射光線形成的圖像與上述待投影圖像相同。其中，上述光線參數(shù)包括:光線強(qiáng)度和光線顏色等。處理器4確定了光線參數(shù)之后，則可根據(jù)上述光線參數(shù)驅(qū)動光源2生成上述光線參數(shù)對應(yīng)的光線并照射入所述投影腔I中，以通過掃描電機(jī)的掃描鏡面上的反射層31將光線反射出投影腔I。
[0058]例如，假設(shè)在時刻A，掃描電機(jī)3旋轉(zhuǎn)掃描到位置Al(圖1中的實(shí)線位置)，處理器4可根據(jù)掃描電機(jī)3的位置Al和光源2的位置，確定此時光源2發(fā)出的光線照射在反射層31上的入射光線的入射角度α?。進(jìn)一步的，處理器4可根據(jù)入射角度α?確定入射光線經(jīng)過反射層31反射得到的反射光線的反射角度，進(jìn)而可根據(jù)待投影圖像的數(shù)據(jù)確定該反射角度投影需要的光線強(qiáng)度和光線顏色等光線參數(shù)。假設(shè)在時刻B，掃描電機(jī)3旋轉(zhuǎn)掃描到位置BI (圖1中的虛線位置)，處理器4可根據(jù)掃描電機(jī)3的位置BI和光源2的位置，確定此時光源2發(fā)出的光線照射在反射層31上的入射光線的入射角度α2。進(jìn)一步的，處理器4可根據(jù)入射角度α2確定入射光線經(jīng)過反射層31反射得到的反射光線的反射角度，進(jìn)而可根據(jù)待投影圖像的數(shù)據(jù)確定該反射角度投影需要的光線強(qiáng)度和光線顏色等光線參數(shù)。
[0059]投影裝置通過掃描電機(jī)3的旋轉(zhuǎn)掃描和反射層31反射光線來使得反射出投影腔的光線的掃描范圍大于掃描電機(jī)本身的掃描范圍，進(jìn)而得到較大范圍的投影視角(假設(shè)為投影視角I)，如曲線6對應(yīng)的圓心角(圖1中未示出)。其中，上述曲線6對應(yīng)的圓心角可根據(jù)掃描電機(jī)3的反射層在時刻A反射出去的反射光線的反射角度，以及掃描電機(jī)3的反射層在時亥IjB反射出去的反射光線的反射角度確定，具體角度大小可根據(jù)實(shí)際應(yīng)用場景確定，在此不再贅述。
[0060]參見圖2，圖2是本發(fā)明實(shí)施例提供的投影裝置的另一結(jié)構(gòu)示意圖。
[0061]在一些可行的實(shí)施方式中，本發(fā)明實(shí)施例提供的投影裝置還包括擴(kuò)散層7。其中，上述擴(kuò)散層7可包括:透鏡層或者光柵層等，具體可根據(jù)實(shí)際制造工藝確定，在此不做限制。進(jìn)一步的，上述擴(kuò)散層7的厚度以及尺寸等參數(shù)也可根據(jù)實(shí)際應(yīng)用場景需求和制造工藝等因素確定，在此不做限制。
[0062]具體實(shí)現(xiàn)中，上述擴(kuò)散層7設(shè)置于投影腔的頂部12，用于將反射層31反射過來的光線擴(kuò)散出投影腔，得到更大的投影視角(假設(shè)為投影視角2)，如曲線61對應(yīng)的圓心角(圖2中未示出)。其中，上述曲線61對應(yīng)的圓心角可根據(jù)掃描電機(jī)3的反射層31在時刻A反射出去的反射光線的反射角度、掃描電機(jī)3的反射層31在時刻B反射出去的反射光線的反射角度，以及擴(kuò)散層7的材質(zhì)的光線擴(kuò)散參數(shù)(例如透鏡的折射率等)確定，具體角度大小可根據(jù)實(shí)際應(yīng)用場景確定，在此不再贅述。
[0063]參見圖3，圖3是本發(fā)明實(shí)施例提供的投影裝置的另一結(jié)構(gòu)示意圖。
[0064]在一些可行的實(shí)施方式中，本發(fā)明實(shí)施例提供的投影裝置還包括感光器件8和反饋單元41。上述感光器件8設(shè)置于投影腔I的內(nèi)壁13，或者設(shè)置于投影腔I的底部11，或者設(shè)置于投影腔I的內(nèi)壁13和底部U。其中，若投影腔I為圓柱體投影腔，則上述感光器件8可設(shè)置在掃描電機(jī)3的固定腳所在位置確定的指定面積大小的內(nèi)壁上。例如，假設(shè)掃描電機(jī)3的固定腳所在的位置為投影腔I內(nèi)壁上的位置M，則可以M為中心確定與投影腔I的內(nèi)壁13和底部11的銜接邊的平行線L。假設(shè)平行線L的長為a，投影腔I的高度(即內(nèi)壁13展開圖的寬度)為b，則可將a*b的面積確定為掃描電機(jī)3的固定腳所在位置確定的指定面積大小。上述感光器件8可設(shè)置在上述指定面積大小的內(nèi)壁上。若投影腔I為多邊體投影腔，掃描電機(jī)3的固定腳設(shè)置在內(nèi)壁13包含的多個側(cè)面中的某一個，假設(shè)為側(cè)面I，則可將感光器件8設(shè)置在側(cè)面I上。具體實(shí)現(xiàn)中，上述感光器件8在投影腔I的內(nèi)壁或者底部的位置可根據(jù)掃描電機(jī)3的設(shè)置位置確定。當(dāng)光源2發(fā)出的光線照射在掃描電機(jī)3上時，掃描電機(jī)3的掃描鏡面將光源2的光線發(fā)射出去使得掃描電機(jī)3在投影腔I的底部或者內(nèi)壁形成了陰影。感光器件8可設(shè)置在掃描電機(jī)3在投影腔I的底部或者內(nèi)壁形成的陰影的范圍內(nèi)任意位置，用于感應(yīng)掃描電機(jī)3的掃描鏡面的陰影。
[0065]上述反饋單元41 一端與感光器件8相連，反饋單元41另一端與處理器4相連。上述反饋單元41用于根據(jù)感光器件8感應(yīng)到的陰影計算掃描電機(jī)3的掃描鏡面的位置并反饋給處理器4。處理器4將反饋單元41反饋的掃描鏡面的位置的測量值和預(yù)設(shè)的掃描模型估計的掃描鏡面的位置的測量值進(jìn)行比較，確定兩個位置的測量值的差值，進(jìn)而可根據(jù)上述差值修正掃描模型。通過反饋單元41的反饋來修正掃描模型，提高掃描模型估計掃描鏡面的位置的準(zhǔn)確性，進(jìn)而可提高投影的圖像的質(zhì)量，增加系統(tǒng)的魯棒性。
[0066]參見圖4，是本發(fā)明實(shí)施例提供的投影方法的流程示意圖。本發(fā)明實(shí)施例提供的投影方法，包括步驟:
[0067]SlOl，掃描電機(jī)根據(jù)指定掃描模式進(jìn)行旋轉(zhuǎn)掃描。
[0068]S102，當(dāng)光源發(fā)出的光線照射到所述掃描電機(jī)的掃描鏡面上時，所述掃描電機(jī)通過所述掃描鏡面上的反射層反射所述光線。
[0069]在一些可行的實(shí)施方式中，所述指定掃描模式包括:Z字形掃描模式、螺旋形掃描模式或者圓圈形掃描模式中的至少一種。
[0070]在一些可行的實(shí)施方式中，所述反射層覆蓋的掃描鏡面的形狀為圓弧曲面；
[0071]所述圓弧曲面確定的圓弧與所述掃描電機(jī)旋轉(zhuǎn)掃描時確定的掃描圓弧為共心圓弧。
[0072]具體實(shí)現(xiàn)中，上述投影方法中掃描電機(jī)所執(zhí)行的實(shí)現(xiàn)方式可參見上述實(shí)施例中所描述的掃描電機(jī)的實(shí)現(xiàn)方式，在此不再贅述。
[0073]本領(lǐng)域普通技術(shù)人員可以理解實(shí)現(xiàn)上述實(shí)施例方法中的全部或部分流程，是可以通過計算機(jī)程序來指令相關(guān)的硬件來完成，所述的程序可存儲于一計算機(jī)可讀取存儲介質(zhì)中，該程序在執(zhí)行時，可包括如上述各方法的實(shí)施例的流程。其中，所述的存儲介質(zhì)可為磁碟、光盤、只讀存儲記憶體(Read-Only Memory，ROM)或隨機(jī)存儲記憶體(Random AccessMemory，RAM)等ο
[0074]以上所掲露的僅為本發(fā)明較佳實(shí)施例而已，當(dāng)然不能以此來限定本發(fā)明之權(quán)利范圍，因此依本發(fā)明權(quán)利要求所作的等同變化，仍屬本發(fā)明所涵蓋的范圍。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種投影裝置，其特征在于，包括:投影腔、光源、掃描電機(jī)和處理器； 所述光源和所述掃描電機(jī)位于所述投影腔內(nèi)部，所述處理器分別與所述光源和所述掃描電機(jī)連接； 所述掃描電機(jī)的掃描鏡面上有反射層，所述反射層用于反射所述光源發(fā)出的光線。2.如權(quán)利要求1所述的投影裝置，其特征在于，所述反射層包括:電鍍涂層、蒸汽鍍涂層或粘合反光片中的至少一種。3.如權(quán)利要求1所述的投影裝置，其特征在于，所述反射層覆蓋的掃描鏡面的形狀為圓弧曲面。4.如權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的投影裝置，其特征在于，所述投影腔由底部、頂部和內(nèi)壁構(gòu)成； 所述投影腔的頂部有擴(kuò)散層，所述擴(kuò)散層用于將所述反射層反射過來的光線擴(kuò)散出所述投影腔。5.如權(quán)利要求4所述的投影裝置，其特征在于，所述擴(kuò)散層包括:透鏡層，或者光柵層。6.如權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的投影裝置，其特征在于，所述投影腔由底部、頂部和內(nèi)壁構(gòu)成； 所述光源位于所述投影腔的內(nèi)壁上，所述掃描電機(jī)位于所述投影腔的內(nèi)壁與所述投影腔的底部的銜接邊上。7.如權(quán)利要求6所述的投影裝置，其特征在于，所述投影系統(tǒng)還包括:感光器件和反饋單元； 所述感光器件位于所述投影腔的內(nèi)壁或者所述投影腔的底部，所述反饋單元一端與所述感光器件相連，所述反饋單元另一端與所述處理器相連。8.一種投影方法，其特征在于，包括: 掃描電機(jī)根據(jù)指定掃描模式進(jìn)行旋轉(zhuǎn)掃描； 當(dāng)光源發(fā)出的光線照射到所述掃描電機(jī)的掃描鏡面上時，所述掃描電機(jī)通過所述掃描鏡面上的反射層反射所述光線。9.如權(quán)利要求8所述的投影方法，其特征在于，所述指定掃描模式包括:Z字形掃描模式、螺旋形掃描模式或者圓圈形掃描模式中的至少一種。10.如權(quán)利要求8所述的投影方法，其特征在于，所述反射層覆蓋的掃描鏡面的形狀為圓弧曲面； 所述圓弧曲面確定的圓弧與所述掃描電機(jī)旋轉(zhuǎn)掃描時確定的掃描圓弧為共心圓弧。
【文檔編號】G03B21/20GK105842971SQ201610370520
【公開日】2016年8月10日
【申請日】2016年5月27日
【發(fā)明人】林濤
【申請人】華為技術(shù)有限公司