的濾光。[0051 ] 實(shí)施例3:
[0052]本實(shí)施例提供一種陣列基板，如圖4所示，包括多種不同顏色的子像素，每個(gè)子像素均包括由反光材料構(gòu)成的反光層，每個(gè)所述子像素的反光層均具有開口區(qū)，開口區(qū)中設(shè)有開口，且開口區(qū)的結(jié)構(gòu)僅能夠使得與該子像素顏色相同的光反射回去。
[0053]優(yōu)選的，所述開口區(qū)包括反光結(jié)構(gòu)的陣列，所述反光結(jié)構(gòu)為遮光部，所述反光結(jié)構(gòu)之間為透光部，且所述陣列基板還具有透明的像素電極，反光結(jié)構(gòu)的陣列與透明像素電極相鄰設(shè)置。
[0054]也就是說，本實(shí)施例的像素電極由ITO(氧化銦錫)構(gòu)成，反光結(jié)構(gòu)的陣列與透明像素電極相鄰設(shè)置。
[0055]優(yōu)選的，所述子像素包括紅色子像素、綠色子像素、藍(lán)色子像素；
[0056]所述反光結(jié)構(gòu)的截面為圓形；
[0057]與所述紅色子像素對應(yīng)的反光結(jié)構(gòu)的截面直徑為500nm，相鄰兩個(gè)反光結(jié)構(gòu)的間距為40nm;
[0058]與所述綠色子像素對應(yīng)的反光結(jié)構(gòu)的截面直徑為450nm，相鄰兩個(gè)反光結(jié)構(gòu)的間距為35nm;
[0059]與所述藍(lán)色子像素對應(yīng)的反光結(jié)構(gòu)的截面直徑為300nm，相鄰兩個(gè)反光結(jié)構(gòu)的間距為20nm。
[0060]也就是說，本實(shí)施例圖4中給出了較優(yōu)的反光結(jié)構(gòu)中對應(yīng)的R(紅)、G(綠)、B(藍(lán))的每個(gè)反光結(jié)構(gòu)的具體尺寸?？梢岳斫獾氖?，與上述的尺寸近似的情況下也可以實(shí)現(xiàn)不同顏色的濾光。
[0061 ] 實(shí)施例4:
[0062]本實(shí)施例提供一種陣列基板，其與實(shí)施例2的陣列基板類似，如圖3所示，包括黃色(Y)、品紅色(M)、青色(C)三種顏色的子像素，每個(gè)子像素均包括由導(dǎo)電反光材料構(gòu)成像素電極，不同顏色的子像素對應(yīng)的像素電極開口區(qū)27為不同線寬的光柵結(jié)構(gòu)，每種顏色的子像素對應(yīng)的像素電極271的開口尺寸如下:
[0063]與所述黃色子像素對應(yīng)的光柵結(jié)構(gòu)的遮光部寬度D為60nm，透光部寬度P為140nm;
[0064]與所述品紅色子像素對應(yīng)的光柵結(jié)構(gòu)的遮光部寬度D為76nm，透光部寬度P為124nm；
[0065]與所述青色子像素對應(yīng)的光柵結(jié)構(gòu)的遮光部寬度D為92nm，透光部寬度P為108nm。
[0066]本實(shí)施例的陣列基板的像素電極同時(shí)起到反射電極和彩色濾色片的作用，并且不同顏色的子像素的像素電極可以通過一次掩膜工藝制備完成，工藝簡單、成本低。同時(shí)本發(fā)明的像素電極作為彩色濾色片使用，具有較高的濾光效率，對本實(shí)施例的像素電極做反射光譜測試，反射效率如圖7所示，從圖7中可以看出，采用該像素電極作為反射電極使用，反射效率較高。
[0067]顯然，上述各實(shí)施例的【具體實(shí)施方式】還可進(jìn)行許多變化;例如:遮光部與反射光的部分的尺寸可以根據(jù)需要進(jìn)行調(diào)節(jié)。
[0068]實(shí)施例5:
[0069]本實(shí)施例提供一種實(shí)施例2的陣列基板的制備方法，所述陣列基板包括多種不同顏色的子像素，每個(gè)子像素均包括像素電極，所述像素電極通過以下方法形成:
[0070]沉積導(dǎo)電反光層，然后采用掩膜板對所述導(dǎo)電反光層進(jìn)行圖案化處理，使導(dǎo)電反光層形成開口區(qū)，且開口區(qū)的結(jié)構(gòu)僅能夠使得與該子像素顏色相同的光反射回去。
[0071]具體的，如圖6所示，所述制備方法包括以下步驟:
[0072]在襯底21上形成柵極20以及柵線；
[0073]形成柵極絕緣層22;
[0074]形成有源層23，以及數(shù)據(jù)線242、源漏極241。
[0075]沉積第一鈍化層25;
[0076]涂覆平坦層26，完成第一鈍化層25和平坦層26的圖案化；
[0077]沉積導(dǎo)電反光層，然后采用掩膜板對所述導(dǎo)電反光層進(jìn)行圖案化處理，得到周期性開口的像素電極271，且像素電極開口區(qū)27的結(jié)構(gòu)僅能夠使得與該子像素顏色相同的光反射回去。其中，所述導(dǎo)電反光層的材料可以是鋁、鋅、銀中的任意一種或幾種金屬的合金。
[0078]其中，像素區(qū)域內(nèi)導(dǎo)電反光層起反射濾光作用，如圖5-6所示(圖5為圖2中A-A’的截面圖，圖6為圖2中B-B’的截面圖)，導(dǎo)電反光層通過過孔與源漏極電連接，兼具像素電極的作用；同時(shí)在對應(yīng)于柵線、數(shù)據(jù)線和薄膜晶體管的位置保留有金屬，該部分金屬懸空或者與公共電極的金屬連接，作為遮光層272，起到保護(hù)薄膜晶體管以及防止漏光的作用。
[0079]本實(shí)施例的像素電極通過一次掩膜工藝制備完成，工藝簡單、成本低。
[0080]實(shí)施例6:
[0081]本實(shí)施例提供一種反射式顯示面板，其包括實(shí)施例2的陣列基板。
[0082]實(shí)施例7:
[0083]本實(shí)施例提供一種反射式液晶顯示器，如圖2-8所示，包括彩膜基板1、陣列基板2，夾在彩膜基板I與陣列基板2之間的液晶3;圖8中示出了陣列基板2與液晶3之間的像素電極271;前置光源8設(shè)于彩膜基板I遠(yuǎn)離陣列基板2的一側(cè)，前置光源8與彩膜基板I之間設(shè)置偏光片6和散射膜7。
[0084]實(shí)施例8:
[0085]本實(shí)施例提供了一種顯示裝置，其包括上述任意一種陣列基板。所述顯示裝置可以為:液晶顯示面板、電子紙、手機(jī)、平板電腦、電視機(jī)、顯示器、筆記本電腦、數(shù)碼相框、導(dǎo)航儀等任何具有顯示功能的產(chǎn)品或部件。
[0086]可以理解的是，以上實(shí)施方式僅僅是為了說明本發(fā)明的原理而采用的示例性實(shí)施方式，然而本發(fā)明并不局限于此。對于本領(lǐng)域內(nèi)的普通技術(shù)人員而言，在不脫離本發(fā)明的精神和實(shí)質(zhì)的情況下，可以做出各種變型和改進(jìn)，這些變型和改進(jìn)也視為本發(fā)明的保護(hù)范圍。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種陣列基板，包括多種不同顏色的子像素，其特征在于，每個(gè)子像素均包括由反光材料構(gòu)成的反光層，每個(gè)所述子像素的反光層均具有開口區(qū)，開口區(qū)中設(shè)有開口，且開口區(qū)的結(jié)構(gòu)僅能夠使得與該子像素顏色相同的光反射回去。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列基板，其特征在于，所述反光層由導(dǎo)電反光材料構(gòu)成，所述反光層為像素電極。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的陣列基板，其特征在于，所述不同顏色的子像素對應(yīng)的像素電極為不同線寬的光柵結(jié)構(gòu)，開口構(gòu)成透光部，其余部分為遮光部。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的陣列基板，其特征在于，所述子像素包括黃色子像素、品紅色子像素、青色子像素； 與所述黃色子像素對應(yīng)的光柵結(jié)構(gòu)的遮光部寬度為60nm，透光部寬度為140nm; 與所述品紅色子像素對應(yīng)的光柵結(jié)構(gòu)的遮光部寬度為76nm，透光部寬度為124nm; 與所述青色子像素對應(yīng)的光柵結(jié)構(gòu)的遮光部寬度為92nm，透光部寬度為108nm。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列基板，其特征在于，所述開口區(qū)包括反光結(jié)構(gòu)的陣列，所述反光結(jié)構(gòu)為遮光部，所述反光結(jié)構(gòu)之間為透光部，且所述陣列基板還具有透明像素電極，反光結(jié)構(gòu)的陣列與透明像素電極相鄰設(shè)置。6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的陣列基板，其特征在于，所述子像素包括紅色子像素、綠色子像素、藍(lán)色子像素； 所述反光結(jié)構(gòu)的截面為圓形； 與所述紅色子像素對應(yīng)的反光結(jié)構(gòu)的截面直徑為500nm，相鄰兩個(gè)反光結(jié)構(gòu)的間距為40nm； 與所述綠色子像素對應(yīng)的反光結(jié)構(gòu)的截面直徑為450nm，相鄰兩個(gè)反光結(jié)構(gòu)的間距為35nm； 與所述藍(lán)色子像素對應(yīng)的反光結(jié)構(gòu)的截面直徑為300nm，相鄰兩個(gè)反光結(jié)構(gòu)的間距為20nmo7.—種陣列基板的制備方法，所述陣列基板包括多種不同顏色的子像素，其特征在于，包括形成反光層的步驟，每個(gè)所述子像素對應(yīng)的反光層均具有開口區(qū)，開口區(qū)中設(shè)有開口，且開口區(qū)的結(jié)構(gòu)僅能夠使得與該子像素顏色相同的光反射回去。8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的陣列基板的制備方法，其特征在于，所述反光層通過以下方法形成: 沉積反光材料形成反光層，然后采用掩膜板將所述反光層圖案化。9.一種反射式顯示面板，其特征在于，包括權(quán)利要求1-6任一項(xiàng)所述的陣列基板。10.一種顯示裝置，其特征在于，包括前置光源和權(quán)利要求9所述的反射式顯示面板。
【專利摘要】本發(fā)明提供一種陣列基板及其制備方法、顯示面板、顯示裝置，屬于顯示技術(shù)領(lǐng)域，其可解決現(xiàn)有的反射式顯示面板的濾色片制備工藝復(fù)雜，成本高，濾光效率低的問題。本發(fā)明的陣列基板的每個(gè)子像素均包括由反光材料構(gòu)成的反光層，每個(gè)所述子像素的反光層均具有開口區(qū)，且開口區(qū)的結(jié)構(gòu)僅能夠使得與該子像素顏色相同的光反射回去，因此反光層同時(shí)起到反射和彩色濾色片的作用，并且不同顏色的子像素的反光層可以通過一次掩膜工藝制備完成，工藝簡單、成本低。同時(shí)本發(fā)明的陣列基板的反光層作為彩色濾色片使用，具有較高的濾光效率，濾光效率可以達(dá)到50％～70％。本發(fā)明的陣列基板適用于各種顯示裝置，尤其適用于反射式液晶顯示器。
【IPC分類】G02F1/1335
【公開號(hào)】CN105607334
【申請?zhí)枴緾N201610007270
【發(fā)明人】張鋒, 齊永蓮, 舒適, 徐傳祥, 牛菁, 劉靜
【申請人】京東方科技集團(tuán)股份有限公司
【公開日】2016年5月25日
【申請日】2016年1月6日