基于反射原理的二維可見光隱裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明主要涉及可見光隱形的材料和儀器領(lǐng)域，特指一種基于反射原理的二維可見光隱裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]隱形技術(shù)已經(jīng)成為物理學(xué)家和材料學(xué)家的研究熱點(diǎn)之一，盡管現(xiàn)有已知的材料都無法直接用于實(shí)現(xiàn)隱形。隱形技術(shù)從電磁波的頻率段而言，可分為微波隱形、可見光隱形、雷達(dá)電波隱形等等?，F(xiàn)有技術(shù)隱形技術(shù)無法在可見光頻率階段實(shí)現(xiàn)二維隱形，因此設(shè)計(jì)一種具有一維完全隱形的可見光隱形衣具有重要的價(jià)值。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明需解決的技術(shù)問題是:針對現(xiàn)有技術(shù)存在的技術(shù)問題，本發(fā)明提供一種結(jié)構(gòu)簡單、能夠在二維空間中實(shí)現(xiàn)可見光隱形的、具有反射可見光功能的二維可見光隱裝置。
[0004]為了解決上述問題，本發(fā)明提出的解決方案為:一種基于反射原理的二維可見光隱裝置，包括光導(dǎo)層、位于所述光導(dǎo)層內(nèi)部的全反射層、裝設(shè)于所述全反射層內(nèi)部的隱形物體;所述光導(dǎo)層為矩形空心柱體，厚度約為1mm;所述光導(dǎo)層包括η個(gè)子層，自外向里依次為第一子層、第二子層、以及第η子層，每層厚度約為2-3微米;所述全反射層為折射率為零的材料制作，厚度約為3微米。
[0005]X向入射光線A和X向入射光線B入射到所述光導(dǎo)層中，經(jīng)過一系列的折射，沿著所述光導(dǎo)層2的形狀傳播，最后平行于原始入射光線離開所述光導(dǎo)層;所述Y向入射光線A和Y向入射光線B也沿著所述光導(dǎo)層2的形狀傳播，離開所述光導(dǎo)層時(shí)平行于原始入射光線;所述第一子層、與所述第二子層、以及所述第η子層的折射率不同，分別由所述光導(dǎo)層的形狀決定。
[0006]本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比，具有如下優(yōu)點(diǎn)和有益效果:
[0007](I)本發(fā)明的基于反射原理的二維可見光隱裝置，設(shè)有光導(dǎo)層，光導(dǎo)層又分為η個(gè)子層，每個(gè)子層具有不同的折射率，能夠使可見光沿著光導(dǎo)層的形狀傳播，類似于電流在導(dǎo)線中的傳播。由此可知，本發(fā)明結(jié)構(gòu)簡單、借助光導(dǎo)層實(shí)現(xiàn)了可見光任意彎曲傳播，且實(shí)現(xiàn)了在二維空間中可見光隱形。
【附圖說明】
[0008]圖1是本發(fā)明的基于反射原理的二維可見光隱裝置的結(jié)構(gòu)原理示意圖。
[0009]圖2是本發(fā)明的光導(dǎo)層的工作原理示意圖。
[0010]圖中，11—X向入射光線Α;12—X向入射光線B; 13—Y向入射光線Α; 14—Y向入射光線B ； 2一光導(dǎo)層;21—第一子層;22一第二子層;23一第η子層;3一全反射層;4一隱形物體；51 一第一法線;52—第二法線;60—入射光線;61—第一折射光線;62—第二折射光線;63—第η折射光線;64—出射光線。
【具體實(shí)施方式】
[0011 ]以下將結(jié)合附圖和具體實(shí)施例對本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)說明。
[0012]結(jié)合圖1和圖2所示，本發(fā)明的基于反射原理的二維可見光隱裝置，包括光導(dǎo)層2、位于光導(dǎo)層2內(nèi)部的全反射層3、裝設(shè)于全反射層3內(nèi)部的隱形物體4;光導(dǎo)層2為矩形空心柱體，厚度約為1mm;光導(dǎo)層2包括自外向里第一子層21、第二子層22、以及第η子層23，每層厚度約為2-3微米;全反射層3為折射率為零的材料制作，厚度約為3微米。
[0013]參見圖1和圖2所示，X向入射光線All和X向入射光線Β12入射到光導(dǎo)層2中，經(jīng)過一系列的折射，沿著光導(dǎo)層2的形狀傳播，最后平行于原始入射光線離開光導(dǎo)層2;Υ向入射光線Α13和Y向入射光線Β14也沿著光導(dǎo)層2的形狀傳播，離開光導(dǎo)層2時(shí)平行于原始入射光線；第一子層21、與第二子層22、以及第η子層23的折射率不同，分別由光導(dǎo)層2的形狀決定。
[0014]工作原理:假設(shè)入射光線60沿X方向入射到第一子層21中，經(jīng)折射變?yōu)榈谝徽凵涔饩€61，然后入射到第二子層22上，再次折射轉(zhuǎn)變?yōu)榈诙凵涔饩€62，以此類推，經(jīng)過η個(gè)子層的折射，最后由第η子層23折射出來，變成出射光線64;所有的入射光線60均沿著光導(dǎo)層2的形狀傳播，繞開了隱形物體4，而且傳播到了隱形物體4的另一側(cè)，就如果隱形物體4不存在一樣，從而實(shí)現(xiàn)了對隱形物體4的隱形。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.基于反射原理的二維可見光隱裝置，其特征在于:包括光導(dǎo)層(2)、位于所述光導(dǎo)層(2)內(nèi)部的全反射層(3)、裝設(shè)于所述全反射層(3)內(nèi)部的隱形物體(4);所述光導(dǎo)層(2)為矩形空心柱體，厚度約為1mm;所述光導(dǎo)層(2)包括η個(gè)子層，自外向里依次為第一子層(21)、第二子層(22)、以及第η子層(23)，每層厚度約為2-3微米;所述全反射層(3)為折射率為零的材料制作，厚度約為3微米;X向入射光線A (I I)和X向入射光線B (12)入射到所述光導(dǎo)層(2)中，經(jīng)過一系列的折射，沿著所述光導(dǎo)層(2)的形狀傳播，最后平行于原始入射光線離開所述光導(dǎo)層(2);所述Y向入射光線Α(13)和Y向入射光線Β(14)也沿著所述光導(dǎo)層(2)的形狀傳播，離開所述光導(dǎo)層(2)時(shí)平行于原始入射光線；所述第一子層(21)、與所述第二子層(22)、以及所述第η子層(23)的折射率不同，分別由所述光導(dǎo)層(2)的形狀決定。
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種基于反射原理的二維可見光隱裝置，屬于可見光隱形的材料和儀器領(lǐng)域。它包括光導(dǎo)層、位于光導(dǎo)層內(nèi)部的全反射層、裝設(shè)于全反射層內(nèi)部的隱形物體；光導(dǎo)層為矩形空心柱體，厚度約為10mm；光導(dǎo)層包括自外向里第一子層21、第二子層、以及第n子層，每層厚度約為2-3微米；全反射層為折射率為零的材料制作，厚度約為3微米；第一子層、與第二子層、以及第n子層的折射率不同，分別由光導(dǎo)層的形狀決定。本發(fā)明是一種結(jié)構(gòu)簡單、能夠在二維空間中實(shí)現(xiàn)可見光隱形的二維可見光隱裝置。
【IPC分類】G02B17/08, G02B1/00
【公開號】CN105572768
【申請?zhí)枴緾N201610092152
【發(fā)明人】班書昊, 李曉艷, 蔣學(xué)東, 席仁強(qiáng), 譚鄒卿, 王知鷙
【申請人】常州大學(xué)
【公開日】2016年5月11日
【申請日】2016年2月19日