的表面活性劑包括展現(xiàn)出兩親性的 那些表面活性劑，意味著其可以同時(shí)具有親水性和疏水性。兩親性表面活性劑具有一個(gè)或 多個(gè)對(duì)水有較強(qiáng)親和力的親水性頭基，以及親有機(jī)物質(zhì)并且排斥水的長(zhǎng)疏水性尾。合適的 表面活性劑可以是離子性（即陰離子性、陽(yáng)離子性）或非離子性的。表面活性劑的其它實(shí)例 包括硅酮表面活性劑、聚（環(huán)氧烷）表面活性劑和氟化物表面活性劑。合適的非離子性表 面活性劑包括（但不限于）辛基苯酚和壬基苯酚乙氧基化物，如TRITON?X-114、X-100、 X-45、X-15,以及分支鏈仲醇乙氧基化物，如TERGITOL?TMN-6 (美國(guó)密歇根州米德蘭的陶 氏化學(xué)公司（TheDowChemicalCompany，Midland，MichiganUSA))。其它不例性表面活 性劑包括醇（伯醇和仲醇）乙氧基化物、胺乙氧基化物、葡糖苷、還原葡糖胺、聚乙二醇、聚 (乙二醇-共-丙二醇），或由新澤西州格倫洛克（GlenRock，N.J.)的制造商康費(fèi)納出版 公司（ManufacturersConfectionersPublishingCo.)于 2000 年出版的北美版《麥卡琴 乳化劑和清潔劑》(McCutcheon'sEmulsifiersandDetergents)中所公開(kāi)的其它表面活 性劑。炔系二醇衍生物類非離子性表面活性劑也是合適的。此類表面活性劑可以從賓夕法 尼亞州艾倫鎮(zhèn)（Allentown，PA)的空氣化工產(chǎn)品公司（AirProductsandChemicals，Inc.) 購(gòu)得并且是以商品名和DYNOL?出售。其它合適的表面活性劑包括其它 聚合化合物，如三嵌段Ε0-Ρ0-Ε0 共聚物PLURON丨C.?25R2、L121、L123、L31、L81、L101 和 P123(巴斯夫公司（BASF，Inc·))。
[0046] 表面活性添加劑可以有利地用于涂料組合物中以防止覆蓋層存在于CT0中或使 其最小化，所述覆蓋層可能導(dǎo)致從涂料組合物到抗蝕圖案的上表面中的不希望的酸擴(kuò)散。 合適的表面活性添加劑可以在處理第一圖案期間迀移到由涂料組合物形成的層的上表面。 任選地，表面活性堿產(chǎn)生劑，如表面活性熱堿產(chǎn)生劑可用于中和存在于覆蓋層中的酸。
[0047] 作為另一任選的添加劑，涂料組合物可以進(jìn)一步包括交聯(lián)劑但通常不含此類材 料。表面活性劑和其它任選的添加劑（如果使用）通常以較小量，如按涂料組合物的總固 體計(jì)0. 01到10重量％存在于組合物中。
[0048] 涂料組合物可以遵循已知程序制備。舉例來(lái)說(shuō)，可以通過(guò)將組合物的固體組分溶 解于溶劑組分中來(lái)制備組合物。涂料組合物的所需總固體含量將取決于如所需最終層厚度 的因素。優(yōu)選地，涂料組合物的厚度小于或等于抗蝕圖案的厚度，或不顯著大于抗蝕圖案的 厚度以使從覆蓋層擴(kuò)散到抗蝕圖案的頂表面中的酸的量最小化。優(yōu)選地，涂料組合物的固 體含量為按組合物的總重量計(jì)的〇. 1到10重量％，更優(yōu)選地1到5重量％。
[0049] 涂料組合物層110通常通過(guò)旋涂涂覆到襯底。涂料溶液的固體含量可以基于所采 用的特定涂布設(shè)備、溶液的粘度、涂布工具的速度和允許旋轉(zhuǎn)的時(shí)間量進(jìn)行調(diào)節(jié)以提供所 需的膜厚度。層110的典型厚度為100到1500:1。
[0050] 如圖1D中所示，襯底隨后經(jīng)烘烤以去除組合物層中的溶劑，以允許游離酸或熱產(chǎn) 生的酸擴(kuò)散到第一抗蝕圖案的側(cè)壁112中且允許在抗蝕劑側(cè)壁區(qū)中發(fā)生極性改變反應(yīng)。烘 烤可以用加熱板或烘箱進(jìn)行，其中加熱板是典型的。合適的烘烤溫度為大于50Γ，例如大于 70°C、大于90°C、大于120°C或大于150°C，其中70到160°C的溫度和約30到90秒的時(shí)間 為典型的。盡管單一烘烤步驟為典型的，也可以使用多步驟烘烤。
[0051] 在光酸產(chǎn)生劑用于涂料組合物中的情況下，組合物層110曝光于活化輻射以在上 述烘烤之前產(chǎn)生酸。在此狀況下優(yōu)選的是曝光為使用與第一曝光所用相同的光掩模的逐圖 案曝光。以此方式，可以防止第一抗蝕圖案104'的非側(cè)壁部分中的酸產(chǎn)生或使其最小化。
[0052] 光致抗蝕圖案隨后與負(fù)型顯影劑接觸以去除未經(jīng)可溶性轉(zhuǎn)變的第一光致抗蝕圖 案104'的那些部分，留下形成多圖案的可溶性轉(zhuǎn)變側(cè)壁112,其如圖1E中所示。顯影劑通 常為有機(jī)顯影劑，例如選自酮、酯、醚、烴和其混合物的溶劑。合適的酮溶劑包括例如丙酮、 2-己酮、5-甲基-2-己酮、2-庚酮、4-庚酮、1-辛酮、2-辛酮、1-壬酮、2-壬酮、二異丁基 酮、環(huán)己酮、甲基環(huán)己酮、苯基丙酮、甲基乙基酮和甲基異丁基酮。合適的酯溶劑包括例如乙 酸甲酯、乙酸丁酯、乙酸乙酯、乙酸異丙酯、乙酸戊酯、丙二醇單甲基醚乙酸酯、乙二醇單乙 醚乙酸酯、二乙二醇單丁醚乙酸酯、二乙二醇單乙醚乙酸酯、3-乙氧基丙酸乙酯、乙酸3-甲 氧基丁酯、乙酸3-甲基-3-甲氧基丁酯、甲酸甲酯、甲酸乙酯、甲酸丁酯、甲酸丙酯、乳酸乙 酯、乳酸丁酯和乳酸丙酯。合適的醚溶劑包括例如二噁烷、四氫呋喃和二醇醚溶劑，例如乙 二醇單甲醚、丙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、丙二醇單乙醚、二乙二醇單甲醚、三乙二醇單乙 醚和甲氧基甲基丁醇。合適的酰胺溶劑包括例如N-甲基-2-吡咯烷酮、N，N-二甲基乙酰 胺和N，N-二甲基甲酰胺。合適的烴溶劑包括例如芳族烴溶劑，如甲苯和二甲苯。另外，可 以使用這些溶劑的混合物，或與除上文所述的那些以外的溶劑混合或與水混合的所列溶劑 中的一者或多者。其它合適的溶劑包括用于光致抗蝕劑組合物中的那些。顯影劑優(yōu)選地為 2-庚酮或乙酸丁酯，如乙酸正丁酯。有機(jī)溶劑通常以按顯影劑的總重量計(jì)90重量％到100 重量％，更通常大于95重量％、大于98重量％、大于99重量％或100重量％的組合量存在 于顯影劑中。
[0053] 第二顯影劑材料可以包括任選的添加劑，例如表面活性劑，如關(guān)于光致抗蝕劑在 上文中所述。此類任選的添加劑通常將以較小濃度，例如以按顯影劑的總重量計(jì)約〇. 01到 5重量％的量存在。
[0054] 顯影劑可以通過(guò)已知技術(shù)，例如通過(guò)旋涂或覆液涂布（puddle-coating)而涂覆 于襯底。顯影時(shí)間為持續(xù)有效去除未經(jīng)可溶性轉(zhuǎn)變的光致抗蝕劑區(qū)的時(shí)段，其中5到30秒 的時(shí)間為典型的。顯影通常在室溫下進(jìn)行。
[0055] 參看圖1F，待蝕刻的一個(gè)或多個(gè)層使用多圖案112作為蝕刻掩模進(jìn)行蝕刻以形成 圖案102'。蝕刻底層的合適的蝕刻技術(shù)和化學(xué)物質(zhì)為所屬領(lǐng)域中已知的。干式蝕刻方法， 如反應(yīng)性離子蝕刻為典型的?？刮g劑側(cè)壁多圖案112可以隨后使用已知技術(shù)，例如氧等離 子體灰化從襯底去除。所得結(jié)構(gòu)為經(jīng)蝕刻特征102'的圖案，如線/隙、溝槽和/或接觸孔 圖案，如圖1G中所示。
[0056] 盡管圖1例示的方法利用正型顯影劑作為第一顯影劑且利用負(fù)型顯影劑作為第 二顯影劑，本發(fā)明的方法不限于此類順序。根據(jù)本發(fā)明的另一方面，正型顯影劑和負(fù)型顯影 劑的次序可以顛倒，使得負(fù)型顯影劑為第一顯影劑且正型顯影劑為第二顯影劑。使用此顯 影順序的根據(jù)本發(fā)明的多圖案化方法的示例性方法流程說(shuō)明于圖2中。關(guān)于圖1的描述一 般適用于此方法，除了以下的例外。在如圖2A中所示地曝光光致抗蝕劑層104之后，光致 抗蝕劑層104的未曝光區(qū)如圖2B中所示地通過(guò)負(fù)型顯影劑去除，留下形成第一抗蝕圖案 104'的曝光區(qū)。可以例如通過(guò)在涂料組合物中包括交聯(lián)劑而使得第一抗蝕圖案104'的側(cè) 壁部分不溶于待涂覆的正型顯影劑中。將交聯(lián)劑注入第一抗蝕圖案104'的側(cè)壁112中，其 在涂料組合物烘烤期間變得交聯(lián)，如圖2D中所示。如圖2E中所示，第一抗蝕圖案104'的 非交聯(lián)部分通過(guò)正型顯影劑去除，留下形成多圖案的不溶側(cè)壁部分112。
[0057] 圖3顯示根據(jù)本發(fā)明的另一方面的多圖案化方法流程。此方法包括在從第一抗蝕 圖案形成抗蝕多圖案之后的圖案收縮方法。圖案收縮通過(guò)在多圖案112上方形成涂層114 實(shí)現(xiàn)，其如圖3F中所示。合適的圖案收縮技術(shù)和材料為所屬領(lǐng)域中已知的。由于收縮涂料， 相鄰圖案之間的間距變小。此允許形成具有無(wú)法由直接圖案化容易地形成的極小尺寸的特 征，如接觸孔和溝槽。盡管此方法流程使用如關(guān)于圖1所論述的第一正型顯影和第二負(fù)型 顯影順序例示，但其也可以應(yīng)用于參看圖2描述的反向順序。
[0058] 以下非限制性實(shí)例說(shuō)明本發(fā)明。
[0059] 實(shí)例
[0060] 光致抗蝕劑組合物制備
[0061] 光致抗蝕劑組合物1
[0062] 將25. 4g聚合物A于PGMEA中的溶液（10% )、15. 95gPAGA于2-羥基異丁酸甲 酯中的溶液（2%)、9.905gPAGB于2-羥基異丁酸甲酯中的溶液（2%)、4.968(1，3-二羥 基-2-(羥甲基）丙-2-基）氨基甲酸叔丁酯于2-羥基異丁酸甲酯中的溶液（l%)、0.414g 于PGMEA中的添加劑A(23. 2% )、10.