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一種曲面顯示面板及其制作方法、曲面顯示裝置的制造方法

文檔序號:8942132閱讀:197來源:國知局
一種曲面顯示面板及其制作方法、曲面顯示裝置的制造方法
【技術領域】
[0001] 本發(fā)明涉及顯示技術領域,尤其涉及一種曲面顯示面板及其制作方法、曲面顯示 裝置。
【背景技術】
[0002] 目前在曲面液晶顯示面板領域,一般采用將平板貼合的液晶顯示面板在外力下彎 曲,根據設計尺寸和觀賞距離來決定彎曲程度,形成曲面結構。
[0003] 彩膜基板和陣列基板處于平面真空貼合時,彩膜基板上的黑矩陣(Black Matrix, BM)可以起到防止顏色不同的色阻之間產生混色和抑制漏光的作用。與像素內部正常顯示 區(qū)液晶分子受像素電壓和公共電壓作用不同,數據(Data)線附近的液晶分子受Data線電 場作用,呈紊亂狀態(tài),此區(qū)域需要彩膜基板上的BM來遮擋,防止漏光,如圖1所示,陣列基板 11和彩膜基板12之間的部分液晶分子位于正常顯示區(qū)15,其余部分液晶分子位于紊亂區(qū) 16,紊亂區(qū)16需要彩膜基板12上的黑矩陣13來遮擋,防止漏光,陣列基板11和彩膜基板 12之間還設置有隔墊物14,圖中的箭頭方向表示光線的傳播方向。
[0004] 成型后的液晶顯示面板經過外力彎曲處理成曲面時,彩膜基板上的BM與陣列基 板上對應需遮擋的位置發(fā)生劇烈位移,BM已經無法遮擋一些紊亂區(qū)和漏光區(qū),液晶顯示面 板的漏光和混色非常嚴重,如圖2 (a)和圖2(b)所示,圖2 (a)中箭頭21表示包括有一個藍 色(B)色阻和一個紅色(R)色阻的彩膜基板的漂移方向,從圖中可以看到,此時位于B色阻 和R色阻之間的黑矩陣13無法完全遮擋圖中右側的紊亂區(qū)16,液晶顯示面板將發(fā)生漏光, 如圖中的箭頭20所示。從圖2(b)中同樣可以看到液晶顯示面板發(fā)生漏光。
[0005] 綜上所述,現有技術形成的曲面液晶顯示面板存在較嚴重的漏光和混色問題。

【發(fā)明內容】

[0006] 本發(fā)明實施例提供了一種曲面顯示面板及其制作方法、曲面顯示裝置,用以改善 曲面顯示面板的漏光和混色。
[0007] 本發(fā)明實施例提供的一種曲面顯示面板,包括相對設置的第一基板和第二基板, 以及位于所述第一基板和所述第二基板之間的液晶層;
[0008] 所述第一基板包括透光區(qū)和非透光區(qū),所述非透光區(qū)設置有遮光層;
[0009] 所述第二基板包括至少三種顏色不同的色阻,所述第二基板靠近背光源的光線入 射方向;
[0010] 所述第一基板和所述第二基板對盒后沿所述第二基板的長軸延伸方向的截面為 弧形截面,該弧形截面的彎曲方向遠離所述光線的入射方向,所述第一基板的彎曲方向與 所述第二基板的彎曲方向相同。
[0011]由本發(fā)明實施例提供的曲面顯示面板,包括相對設置的第一基板和第二基板,以 及位于所述第一基板和所述第二基板之間的液晶層;第一基板包括透光區(qū)和非透光區(qū),非 透光區(qū)設置有遮光層。第二基板包括至少三種顏色不同的色阻,第二基板靠近背光源的光 線入射方向。由于本發(fā)明實施例在第一基板的非透光區(qū)設置遮光層,該部分區(qū)域對應顯示 面板的紊亂區(qū),當將對盒后形成的平面顯示面板發(fā)生彎曲后,遮光層與紊亂區(qū)不發(fā)生相對 位移,可以改善漏光,并且背光源的光線從第二基板側照射,遮光層起到抑制像素邊緣混色 的作用。
[0012] 較佳地,所述遮光層的材料為不透光的有機樹脂材料,或為金屬材料。
[0013] 較佳地,所述金屬材料為銅,或為鉬鋁鉬。
[0014] 較佳地,所述第一基板包括第一襯底基板,依次位于所述第一襯底基板上的像素 電極、柵極、第一絕緣層、半導體有源層、源極、漏極、第二絕緣層、公共電極和遮光層。
[0015] 較佳地,還包括設置在所述第一基板和所述第二基板之間的隔墊物,所述隔墊物 在所述第一基板上的正投影位于所述非透光區(qū)。
[0016] 本發(fā)明實施例還提供了一種曲面顯示裝置,該曲面顯示裝置包括上述的曲面顯示 面板,以及曲面背光源,所述曲面背光源設置在靠近所述第二基板的一側。
[0017] 本發(fā)明實施例還提供了一種曲面顯示面板的制作方法,所述方法包括:
[0018] 通過構圖工藝在第一襯底基板上制作遮光層,所述第一襯底基板包括透光區(qū)和非 透光區(qū),所述遮光層制作在所述非透光區(qū);
[0019] 通過構圖工藝在第二襯底基板上制作至少三種顏色不同的色阻;
[0020] 將所述第一襯底基板和所述第二襯底基板進行對盒,并在所述第一襯底基板和所 述第二襯底基板之間注入液晶層;
[0021] 將所述第一襯底基板和所述第二襯底基板向所述第一襯底基板側彎曲。
[0022] 較佳地,所述通過構圖工藝在第一襯底基板上制作遮光層具體包括:
[0023] 在所述第一襯底基板上沉積一層不透光的有機樹脂;
[0024] 對所述不透光的有機樹脂進行曝光、顯影,形成遮光層;
[0025] 或,
[0026] 在所述第一襯底基板上沉積一層金屬薄膜;
[0027] 在所述金屬薄膜上涂覆光刻膠,并對所述光刻膠進行曝光、顯影,僅保留位于所述 非透光區(qū)的光刻膠;
[0028] 通過刻蝕,去除未被光刻膠覆蓋區(qū)域的金屬薄膜,并去除剩余的光刻膠,形成遮光 層。
[0029] 較佳地,所述通過構圖工藝在第一襯底基板上制作遮光層之前,所述方法包括:
[0030] 在所述第一襯底基板上通過第一次構圖工藝制作像素電極和柵極;
[0031] 在完成上述步驟的第一襯底基板上制作第一絕緣層;
[0032] 在完成上述步驟的第一襯底基板上通過第二次構圖工藝制作半導體有源層,以及 源極和漏極;
[0033] 在完成上述步驟的第一襯底基板上通過第三次構圖工藝制作第二絕緣層;
[0034] 在完成上述步驟的第一襯底基板上通過第四次構圖工藝制作公共電極。
[0035] 較佳地,所述通過構圖工藝在第二襯底基板上制作至少三種顏色不同的色阻之 后,所述方法包括:
[0036] 在制作有至少三種顏色不同的色阻的第二襯底基板上制作一層平坦層;
[0037] 在完成上述步驟的第二襯底基板上通過構圖工藝制作若干隔墊物,所述隔墊物位 于所述第一襯底基板和所述第二襯底基板之間,所述隔墊物在所述第一襯底基板上的正投 影位于所述非透光區(qū)。
【附圖說明】
[0038] 圖1為現有技術平面顯示面板的截面結構示意圖;
[0039] 圖2(a)和圖2(b)分別為現有技術彩膜基板發(fā)生位移后產生的漏光和混色示意 圖;
[0040] 圖3(a)和圖3(b)分別為現有技術的平面顯示面板和曲面顯示面板的截面結構示 意圖;
[0041] 圖4(a)和圖4(b)分別為現有技術的另一平面顯示面板和曲面顯示面板的截面結 構示意圖;
[0042] 圖5(a)和圖5(b)分別為現有技術的又一平面顯示面板和曲面顯示面板的截面結 構示意圖;
[0043] 圖6為本發(fā)明實施例提供的一種曲面顯示面板的截面結構示意圖;
[0044] 圖7為本發(fā)明實施例提供的曲面顯示面板中的第一基板的截面結構示意圖;
[0045] 圖8為本發(fā)明實施例提供的一種曲面顯示面板的制作方法流程圖;
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