，和/或以使所述第二放大成像的成像面積大于等于預(yù)定成像面積。
[0087]前述圖1實(shí)施例中的投影裝置中的各種變化方式和具體實(shí)例同樣適用于本實(shí)施例的投影方法，通過前述對投影裝置的詳細(xì)描述，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以清楚的知道本實(shí)施例中投影方法的實(shí)施方法，所以為了說明書的簡潔，在此不再詳述。
[0088]由此可見，本申請實(shí)施例中的技術(shù)方案可以僅使用一個凸面鏡擴(kuò)大投影源投射出的光線所形成的光影效果。避免了復(fù)雜的光學(xué)系統(tǒng)結(jié)構(gòu)，并且在反射過程中只經(jīng)歷了一次光線反射，從而使得光線畸變率降低。因此具有減少投影圖像或投影后的光影效果的畸變，降低投影裝置的光學(xué)系統(tǒng)復(fù)雜程度的技術(shù)效果。
[0089]本申請實(shí)施例至少還具有如下技術(shù)效果或優(yōu)點(diǎn):
[0090]進(jìn)一步地，本申請實(shí)施例中的技術(shù)方案還可以通過在凸面鏡的相對面設(shè)置凹面鏡，從而先將光束較大的成像光線聚斂，再經(jīng)規(guī)格較小的凸面鏡進(jìn)行放大，從而得到放大投影面積的投影成像或光影效果。因此，本申請實(shí)施例中的技術(shù)方案還具有提高適用性的技術(shù)效果。
[0091 ] 進(jìn)一步地，本申請實(shí)施例中的技術(shù)方案還可以通過設(shè)置平面鏡而實(shí)現(xiàn)對投影面積的微調(diào)式放大，因此具有進(jìn)一步提高放大投影面積的技術(shù)效果。
[0092]進(jìn)一步地，本申請實(shí)施例中的技術(shù)方案還可以通過采用處理器控制凸面鏡轉(zhuǎn)動，從而改變成像光線在所述凸面鏡上的入射角度。以此實(shí)現(xiàn)大幅度調(diào)整投影畫面的投影面積和/或清晰度。并且，還可以通過采用處理器控制平面鏡轉(zhuǎn)動，從而改變成像光線在所述平面鏡上的入射角度。以此實(shí)現(xiàn)小幅度調(diào)整投影畫面的投影面積和/或清晰度。因此，本申請實(shí)施例中的技術(shù)方案還具有提高投影操作效率和進(jìn)一步擴(kuò)大適用性的技術(shù)效果。
[0093]本領(lǐng)域內(nèi)的技術(shù)人員應(yīng)明白，本申請的實(shí)施例可提供為方法、系統(tǒng)、或計(jì)算機(jī)程序產(chǎn)品。因此，本申請可采用完全硬件實(shí)施例、完全軟件實(shí)施例、或結(jié)合軟件和硬件方面的實(shí)施例的形式。而且，本申請可采用在一個或多個其中包含有計(jì)算機(jī)可用程序代碼的計(jì)算機(jī)可用存儲介質(zhì)(包括但不限于磁盤存儲器、CD-ROM、光學(xué)存儲器等)上實(shí)施的計(jì)算機(jī)程序產(chǎn)品的形式。
[0094]本申請是參照根據(jù)本申請實(shí)施例的方法、設(shè)備(系統(tǒng))、和計(jì)算機(jī)程序產(chǎn)品的流程圖和/或方框圖來描述的。應(yīng)理解可由計(jì)算機(jī)程序指令實(shí)現(xiàn)流程圖和/或方框圖中的每一流程和/或方框、以及流程圖和/或方框圖中的流程和/或方框的結(jié)合。可提供這些計(jì)算機(jī)程序指令到通用計(jì)算機(jī)、專用計(jì)算機(jī)、嵌入式處理機(jī)或其他可編程數(shù)據(jù)處理設(shè)備的處理器以產(chǎn)生一個機(jī)器，使得通過計(jì)算機(jī)或其他可編程數(shù)據(jù)處理設(shè)備的處理器執(zhí)行的指令產(chǎn)生用于實(shí)現(xiàn)在流程圖一個流程或多個流程和/或方框圖一個方框或多個方框中指定的功能的裝置。
[0095]這些計(jì)算機(jī)程序指令也可存儲在能引導(dǎo)計(jì)算機(jī)或其他可編程數(shù)據(jù)處理設(shè)備以特定方式工作的計(jì)算機(jī)可讀存儲器中，使得存儲在該計(jì)算機(jī)可讀存儲器中的指令產(chǎn)生包括指令裝置的制造品，該指令裝置實(shí)現(xiàn)在流程圖一個流程或多個流程和/或方框圖一個方框或多個方框中指定的功能。
[0096]這些計(jì)算機(jī)程序指令也可裝載到計(jì)算機(jī)或其他可編程數(shù)據(jù)處理設(shè)備上，使得在計(jì)算機(jī)或其他可編程設(shè)備上執(zhí)行一系列操作步驟以產(chǎn)生計(jì)算機(jī)實(shí)現(xiàn)的處理，從而在計(jì)算機(jī)或其他可編程設(shè)備上執(zhí)行的指令提供用于實(shí)現(xiàn)在流程圖一個流程或多個流程和/或方框圖一個方框或多個方框中指定的功能的步驟。
[0097]具體來講，本申請實(shí)施例中的一種顯示方法對應(yīng)的計(jì)算機(jī)程序指令可以被存儲在光盤、硬盤、U盤等存儲介質(zhì)上，當(dāng)存儲介質(zhì)中的與一種投影方法對應(yīng)的計(jì)算機(jī)程序指令被一電子設(shè)備讀取或被執(zhí)行時，包括如下步驟:
[0098]控制所述凸面鏡在所述成像光線和所述第一反射光線所在平面的方向上轉(zhuǎn)動，以使所述第二放大成像的清晰度大于等于預(yù)定清晰閾值，和/或以使所述第二放大成像的成像面積大于等于預(yù)定成像面積。
[0099]可選地，所述存儲介質(zhì)中存儲的計(jì)算機(jī)程序指令在被執(zhí)行時，還包括如下步驟:
[0100]控制所述平面鏡在所述第一反射光線和所述第二反射光線所在平面的方向上轉(zhuǎn)動，以使所述第二放大成像的清晰度大于等于預(yù)定清晰閾值，和/或以使所述第二放大成像的成像面積大于等于預(yù)定成像面積。
[0101]盡管已描述了本申請的優(yōu)選實(shí)施例，但本領(lǐng)域內(nèi)的技術(shù)人員一旦得知了基本創(chuàng)造性概念，則可對這些實(shí)施例作出另外的變更和修改。所以，所附權(quán)利要求意欲解釋為包括優(yōu)選實(shí)施例以及落入本申請范圍的所有變更和修改。
[0102]顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對本申請進(jìn)行各種改動和變型而不脫離本申請的精神和范圍。這樣，倘若本申請的這些修改和變型屬于本申請權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本申請也意圖包含這些改動和變型在內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種投影裝置，包括: 投影源，用以投射成像光線，所述成像光線可投影形成一原始成像； 凸面鏡，用以反射所述成像光線形成第一反射光線，所述第一反射光線可投影形成第一放大成像，所述第一放大成像的成像面積大于所述原始成像的成像面積。2.如權(quán)利要求1所述的投影裝置，其特征在于，所述裝置還包括凹面鏡， 所述凹面鏡設(shè)置于所述凸面鏡的相對面，用以聚斂所述成像光線形成收斂光線； 所述凸面鏡，用以反射所述收斂光線形成所述第一反射光線。3.如權(quán)利要求1所述的投影裝置，其特征在于，所述裝置還包括: 平面鏡，用以反射所述第一反射光線形成第二反射光線，所述第二反射光線可投影形成第二放大成像，所述第二放大成像的成像面積大于所述原始成像的成像面積。4.如權(quán)利要求3所述的投影裝置，其特征在于，所述裝置還包括處理器， 所述處理器，用以控制所述凸面鏡在所述成像光線和所述第一反射光線所在平面的方向上轉(zhuǎn)動，以使所述第二放大成像的清晰度大于等于預(yù)定清晰閾值，和/或以使所述第二放大成像的成像面積大于等于預(yù)定成像面積。5.如權(quán)利要求4所述的投影裝置，其特征在于，所述處理器，還用以控制所述平面鏡在所述第一反射光線和所述第二反射光線所在平面的方向上轉(zhuǎn)動，以使所述第二放大成像的清晰度大于等于預(yù)定清晰閾值，和/或以使所述第二放大成像的成像面積大于等于預(yù)定成像面積。6.一種投影方法，包括: 通過投影裝置的投影源投射成像光線，所述成像光線可投影形成一原始成像； 通過所述投影裝置的凸面鏡反射所述成像光線形成第一反射光線，其中，所述第一反射光線可投影形成第一放大成像，且所述第一放大成像的成像面積大于所述原始成像的成像面積。7.如權(quán)利要求6所述的投影方法，其特征在于，所述方法還包括: 通過所述投影裝置中設(shè)置于所述凸面鏡的相對面的凹面鏡聚斂所述成像光線，形成收斂光線； 通過所述凸面鏡反射所述收斂光線形成所述第一反射光線。8.如權(quán)利要求6所述的投影方法，其特征在于，所述方法還包括: 通過平面鏡反射所述第一反射光線形成第二反射光線； 其中，所述第二反射光線可投影形成第二放大成像，所述第二放大成像的成像面積大于所述原始成像的成像面積。9.如權(quán)利要求8所述的投影方法，其特征在于，所述方法還包括: 通過所述投影裝置的處理器控制所述凸面鏡在所述成像光線和所述第一反射光線所在平面的方向上轉(zhuǎn)動，以使所述第二放大成像的清晰度大于等于預(yù)定清晰閾值，和/或以使所述第二放大成像的成像面積大于等于預(yù)定成像面積。10.如權(quán)利要求8所述的投影方法，其特征在于，所述方法還包括: 通過所述處理器控制所述平面鏡在所述第一反射光線和所述第二反射光線所在平面的方向上轉(zhuǎn)動，以使所述第二放大成像的清晰度大于等于預(yù)定清晰閾值，和/或以使所述第二放大成像的成像面積大于等于預(yù)定成像面積。
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種投影裝置及投影方法，通過使用一個凸面鏡擴(kuò)大投影源投射出的光線所形成的光影效果。避免了復(fù)雜的光學(xué)系統(tǒng)結(jié)構(gòu)，并且在反射過程中只經(jīng)歷了一次光線反射，從而使得光線畸變率降低。因此具有減少投影圖像或投影后的光影效果的畸變，降低投影裝置的光學(xué)系統(tǒng)復(fù)雜程度的技術(shù)效果。
【IPC分類】G03B21/28
【公開號】CN105116680
【申請?zhí)枴緾N201510623725
【發(fā)明人】程凱
【申請人】聯(lián)想(北京)有限公司
【公開日】2015年12月2日
【申請日】2015年9月25日