曝光裝置和曝光方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及曝光裝置和曝光方法，更詳細(xì)而言，涉及通過將曝光光隔著形成有掩模圖案的掩模照射到涂布有感光劑的工件來進(jìn)行曝光，從而將掩模圖案轉(zhuǎn)印到工件上的曝光裝置和曝光方法。
【背景技術(shù)】
[0002]以往，公開了包括光學(xué)系統(tǒng)的曝光裝置，該光學(xué)系統(tǒng)包括:鏡要素，其具有反射照明光的反射面；及多個(gè)驅(qū)動(dòng)單元，其對(duì)鏡要素的背面施加力而使反射面變形，該光學(xué)系統(tǒng)能將反射面變形為各種形狀(例如參照專利文獻(xiàn)I和2。)。如圖8所示，在專利文獻(xiàn)I的曝光裝置中，包括:鏡要素101，其具有反射照射光IL的反射面1la ;多個(gè)驅(qū)動(dòng)單元102，其配置在鏡要素101的背面；及保持塊103，其保持鏡要素101的周邊部的保持部101b，該曝光裝置利用多個(gè)驅(qū)動(dòng)單元102使鏡要素101的反射面1la變形為各種形狀，對(duì)難以用通常的成像特性校正機(jī)構(gòu)來校正的光軸上的像散這樣的非旋轉(zhuǎn)對(duì)稱的像差成分進(jìn)行校正。
[0003]在專利文獻(xiàn)2的曝光裝置中，經(jīng)由多個(gè)支承部件、球接頭和墊將平面鏡的背面支承于保持框，利用驅(qū)動(dòng)裝置來驅(qū)動(dòng)支承部件，與工件的形變對(duì)應(yīng)地校正平面鏡的曲率，從而根據(jù)工件的被曝光區(qū)域的形狀將掩模的圖案曝光。
[0004]現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
[0005]專利文獻(xiàn)
[0006]專利文獻(xiàn)1:日本特開2013-161992號(hào)公報(bào)
[0007]專利文獻(xiàn)2:日本特開2011-123461號(hào)公報(bào)

【發(fā)明內(nèi)容】

[0008]本發(fā)明要解決的問題
[0009]可是，在專利文獻(xiàn)2所記載的曝光裝置中，與工件的形變對(duì)應(yīng)地校正平面鏡的曲率時(shí)，由于曝光光的照度分布惡化，因此需要改善照度分布的惡化。
[0010]本發(fā)明是鑒于上述問題而完成的，其目的在于提供一種曝光裝置和曝光方法，即使在校正了反射鏡的曲率的情況下，也能夠改善曝光光的曝光區(qū)域的照度分布而提高曝光精度。
[0011]解決問題的方法
[0012]本發(fā)明的上述目的由下述的構(gòu)成實(shí)現(xiàn)。
[0013](I) 一種曝光裝置，包括:
[0014]工件支承部，所述工件支承部支承工件；
[0015]掩模支承部，所述掩模支承部支承掩模；
[0016]照明光學(xué)系統(tǒng)，所述照明光學(xué)系統(tǒng)具有光源和將來自該光源的曝光光反射的反射鏡；及
[0017]鏡彎曲機(jī)構(gòu)，所述鏡彎曲機(jī)構(gòu)能校正所述反射鏡的曲率，
[0018]所述曝光裝置將來自所述光源的曝光光隔著所述掩模照射到所述工件，將所述掩模的圖案轉(zhuǎn)印到所述工件，所述曝光裝置的特征在于，
[0019]包括對(duì)照射到所述工件的曝光光的照度進(jìn)行測(cè)定的照度計(jì)，
[0020]在曝光所述工件前，使用所述照度計(jì)測(cè)定經(jīng)由所述反射鏡照射到所述工件的所述曝光光的曝光區(qū)域的照度分布。
[0021](2)如(I)所述的曝光裝置，其特征在于，包括移動(dòng)所述工件支承部以便使所述工件與所述掩模在水平方向相對(duì)移動(dòng)的輸送機(jī)構(gòu)，
[0022]驅(qū)動(dòng)所述輸送機(jī)構(gòu)，能夠使所述照度計(jì)在所述曝光區(qū)域的整個(gè)范圍移動(dòng)。
[0023](3)如⑴或⑵所述的曝光裝置，其特征在于，
[0024]根據(jù)由所述照度計(jì)測(cè)定的所述曝光區(qū)域的照度分布，驅(qū)動(dòng)所述鏡彎曲機(jī)構(gòu)，從而校正所述反射鏡的曲率。
[0025](4)如⑴或⑵所述的曝光裝置，其特征在于，
[0026]所述照明光學(xué)系統(tǒng)包括多個(gè)所述反射鏡，并且，
[0027]所述鏡彎曲機(jī)構(gòu)包含分別能校正所述多個(gè)反射鏡的曲率的多個(gè)鏡彎曲機(jī)構(gòu)，
[0028]對(duì)于所述多個(gè)反射鏡的任意I個(gè)，驅(qū)動(dòng)所述鏡彎曲機(jī)構(gòu)，從而校正其曲率，
[0029]對(duì)于所述多個(gè)反射鏡的任意另I個(gè)，在校正了所述任意I個(gè)反射鏡的曲率的狀態(tài)下，根據(jù)由所述照度計(jì)測(cè)定的所述曝光區(qū)域的照度分布來驅(qū)動(dòng)所述鏡彎曲機(jī)構(gòu)，從而校正其曲率。
[0030](5) 一種曝光方法，使用(3)所述的曝光裝置，將來自所述光源的曝光光隔著所述掩模照射到所述工件，將所述掩模的圖案轉(zhuǎn)印到所述工件，其特征在于，包括如下的工序:
[0031]使用所述照度計(jì)測(cè)定經(jīng)由所述反射鏡將照射到所述工件的所述曝光光的曝光區(qū)域的照度分布；及
[0032]根據(jù)由所述照度計(jì)測(cè)定的所述曝光區(qū)域的照度分布來驅(qū)動(dòng)所述鏡彎曲機(jī)構(gòu)，從而校正所述反射鏡的曲率。
[0033](6) 一種曝光方法，使用(4)所述的曝光裝置，將來自所述光源的曝光光隔著所述掩模照射到所述工件，將所述掩模的圖案轉(zhuǎn)印到所述工件，其特征在于，包括如下的工序:
[0034]對(duì)于所述多個(gè)反射鏡的任意I個(gè)，驅(qū)動(dòng)所述鏡彎曲機(jī)構(gòu)，從而校正其曲率的工序；
[0035]使用所述照度計(jì)，測(cè)定經(jīng)由所述曲率由所屬鏡彎曲機(jī)構(gòu)進(jìn)行了校正的所述任意I個(gè)反射鏡照射到所述工件的所述曝光光的曝光區(qū)域的照度分布；及
[0036]對(duì)于所述多個(gè)反射鏡的任意另I個(gè)，在校正了所述任意I個(gè)反射鏡的曲率的狀態(tài)下，根據(jù)由所述照度計(jì)測(cè)定的所述曝光區(qū)域的照度分布來驅(qū)動(dòng)所述鏡彎曲機(jī)構(gòu)，從而校正其曲率。
[0037]發(fā)明的效果
[0038]根據(jù)本發(fā)明的曝光裝置和曝光方法，包括對(duì)照射到工件的曝光光的照度進(jìn)行測(cè)定的照度計(jì)，在曝光工件前，使用照度計(jì)測(cè)定經(jīng)由曲率由鏡彎曲機(jī)構(gòu)進(jìn)行了校正的反射鏡照射到工件的曝光光的曝光區(qū)域的照度分布。由此，能夠獲取曝光區(qū)域的照度分布，在未到達(dá)目標(biāo)照度分布的情況下，再次驅(qū)動(dòng)進(jìn)行了曲率校正的反射鏡、或者其他反射鏡的鏡彎曲機(jī)構(gòu)，進(jìn)行微調(diào)以便到達(dá)目標(biāo)照度分布，從而能夠改善曝光光的曝光區(qū)域的照度分布而提高曝光精度。
【附圖說明】
[0039]圖1是本發(fā)明所涉及的曝光裝置的主視圖。
[0040]圖2是示出本發(fā)明的第I實(shí)施方式所涉及的照明光學(xué)系統(tǒng)的圖。
[0041]圖3(a)是示出照明光學(xué)系統(tǒng)的反射鏡支承構(gòu)造的平面圖，(b)是沿著(a)的II1-1II線的剖視圖，(C)是沿著(a)的III’ -1II’線的剖視圖。
[0042]圖4(a)?(d)是說明測(cè)定曝光區(qū)域的照度分布的過程的概要圖。
[0043]圖5是圖1的V部放大圖。
[0044]圖6是示出本實(shí)施方式的曝光方法的流程圖的圖。
[0045]圖7是示出本發(fā)明的第2實(shí)施方式所涉及的照明光學(xué)系統(tǒng)的圖。
[0046]圖8是示出以往的反射鏡支承構(gòu)造的圖。
[0047]附圖標(biāo)記說明
[0048]I掩模臺(tái)(掩模支承部)
[0049]2工件臺(tái)(工件支承部)
[0050]3照明光學(xué)系統(tǒng)
[0051]5 X軸臺(tái)輸送機(jī)構(gòu)
[0052]6 Y軸臺(tái)輸送機(jī)構(gòu)
[0053]40照度計(jì)
[0054]60復(fù)合燈單元(光源)
[0055]65光學(xué)積分器
[0056]66、68平面鏡(包括鏡彎曲機(jī)構(gòu)的反射鏡)
[0057]70鏡變形單元(鏡彎曲機(jī)構(gòu))
[0058]EL 光路
[0059]M 掩模
[0060]PE曝光裝置
[0061]W 工件
【具體實(shí)施方式】
[0062](第一實(shí)施方式)
[0063]下面，基于附圖詳細(xì)說明本發(fā)明所涉及的曝光裝置的一個(gè)實(shí)施方式。圖1是示出本發(fā)明的曝光裝置的圖。
[0064]如圖1所示，接近曝光裝置PE使用比作為被曝光件的工件W小的掩模M，用掩模臺(tái)I保持掩模M，并且用工件臺(tái)(工件支承部)2保持工件W，使掩模M與工件W接近，以預(yù)定的曝光間隙對(duì)置配置，在該狀態(tài)下，從照明光學(xué)系統(tǒng)3向掩模M照射圖案曝光用的光，從而將掩模M的圖案曝光轉(zhuǎn)印到工件W上。另外，使工件臺(tái)2相對(duì)于掩模M在X軸方向和Y軸方向這兩軸方向步進(jìn)移動(dòng)，在每一步中進(jìn)行曝光轉(zhuǎn)印。
[0065]為了使工件臺(tái)2在X軸方向步進(jìn)移動(dòng)，在裝置底座4上設(shè)置有X軸臺(tái)輸送機(jī)構(gòu)5，該軸臺(tái)輸送機(jī)構(gòu)5使X軸輸送臺(tái)5a在X軸方向步進(jìn)移動(dòng)。為了使工件臺(tái)2在Y軸方向步進(jìn)移動(dòng)，在X軸臺(tái)輸送機(jī)構(gòu)5的X軸輸送臺(tái)5a上設(shè)置有Y軸臺(tái)輸送機(jī)構(gòu)6，該Y軸臺(tái)輸送機(jī)構(gòu)6使Y軸輸送臺(tái)6a在Y軸方向步進(jìn)移動(dòng)。在Y軸臺(tái)輸送機(jī)構(gòu)6的Y軸輸送臺(tái)6a上設(shè)置有工件臺(tái)2。在工件臺(tái)2的上表面，工件W在被工件卡盤等真空吸引的狀態(tài)下被保持。另外，在工件臺(tái)2的側(cè)部配設(shè)有用于測(cè)定掩模M的下表面高度的基板側(cè)變位傳感器15。所以，基板側(cè)變位傳感器15能夠與工件臺(tái)2 —起在X、Y軸方向移動(dòng)。
[0066]在裝置底座4上，沿X軸方向配置有多個(gè)(圖示的實(shí)施方式中為4條)X軸直線導(dǎo)軌的導(dǎo)軌51，在各導(dǎo)軌51上跨架有固定在X軸輸送臺(tái)5a的下表面的滑動(dòng)件52。由此，X軸輸送臺(tái)5a被X軸臺(tái)輸送機(jī)構(gòu)5的第I直線馬達(dá)20驅(qū)動(dòng)，能夠沿著導(dǎo)軌51在X軸方向往返移動(dòng)。另外，在X軸輸送臺(tái)5a上，沿Y軸方向配置有多個(gè)Y軸直線導(dǎo)軌的導(dǎo)軌53，在各導(dǎo)軌53上跨架有固定在Y軸輸送臺(tái)6a的下表面的滑動(dòng)件54。由此，Y軸輸送臺(tái)6a被Y軸臺(tái)輸送機(jī)構(gòu)6的第2直線馬達(dá)21驅(qū)動(dòng)，能夠沿著導(dǎo)軌53在Y軸方向往返移動(dòng)。
[0067]在Y軸臺(tái)輸送機(jī)構(gòu)6與工件臺(tái)2之間，為了使工件臺(tái)2在上下方向移動(dòng)，設(shè)置有:上下粗動(dòng)裝置7，其相對(duì)而言定位分辨能力粗糙，但是移動(dòng)行程和移動(dòng)速度大；及上下微動(dòng)裝置8，其與上下粗動(dòng)裝置7相比能以高分