黑矩陣曝光圖案的補(bǔ)正方法和裝置以及曝光系統(tǒng)的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及液晶顯示器制備工藝技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種黑矩陣曝光圖案的補(bǔ)正方法和裝置以及曝光系統(tǒng)。
【背景技術(shù)】
[0002]隨著顯示技術(shù)的不斷發(fā)展，人們對顯示裝置的顯示效果要求越來越高。在薄膜晶體管液晶顯不裝置(TFT-LCD，Thin Film Transistor一Liquid Crystal Display)行業(yè)的制備彩膜基板(CF，Color Filter)工藝中，在基板上形成黑矩陣(BM，Black Matrix)是首道工藝，但在采用掩模板進(jìn)行曝光時(shí)，掩模板與基板之間沒有對位標(biāo)記，曝光時(shí)由于曝光設(shè)備存在波動(dòng)，在基板上形成黑色矩陣曝光圖案后，需要對曝光圖案的位置進(jìn)行補(bǔ)正，以保證形成的黑矩陣曝光圖案中對應(yīng)的每個(gè)液晶盒的位置與陣列基板達(dá)成精準(zhǔn)對盒。因?yàn)樵趯?shí)際生產(chǎn)中，彩膜基板與陣列基板對盒時(shí)，若液晶盒的位置偏離，會(huì)導(dǎo)致液晶面板漏光現(xiàn)象的發(fā)生。
[0003]現(xiàn)有的技術(shù)中，黑矩陣曝光圖案的補(bǔ)正方法是通過基板的支撐臺(tái)的移動(dòng)調(diào)整基板的Χ，γ和Θ三個(gè)參數(shù)，其中:Χ方向和Y方向在同一水平面內(nèi)，X方向和Y方向相互垂直，X和Y為水平面內(nèi)的調(diào)整參數(shù)，Θ是以曝光中心為軸(Ζ軸)，在回轉(zhuǎn)方向的調(diào)整參數(shù)，調(diào)整時(shí)，根據(jù)待修補(bǔ)區(qū)域?qū)?yīng)的液晶盒位置的實(shí)際測量值與設(shè)計(jì)值之間的差值計(jì)算出X、Y以及Θ值，以實(shí)現(xiàn)對與待修補(bǔ)區(qū)域?qū)?yīng)的掩模板和基板之間的相對位置的調(diào)整，進(jìn)而可以對黑矩陣曝光圖案正待修補(bǔ)的區(qū)域進(jìn)行補(bǔ)正。
[0004]如圖1和圖2所示，其中:圖1為一種畸形黑矩陣曝光圖案，圖2為另一種畸形黑矩陣曝光圖案，對于圖1和圖2所示的畸形黑矩陣曝光圖案，采用現(xiàn)有技術(shù)中的補(bǔ)正方法對待修補(bǔ)區(qū)域01補(bǔ)正，補(bǔ)正效果不好，甚至無法補(bǔ)正，影響顯示面板的品質(zhì)。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明提供了一種黑矩陣曝光圖案的補(bǔ)正方法和裝置以及曝光系統(tǒng)，用以提高補(bǔ)正精度，進(jìn)而提高顯示面板的顯示效果。
[0006]為達(dá)到上述目的，本發(fā)明提供以下技術(shù)方案:
[0007]本發(fā)明提供了一種黑矩陣曝光圖案的補(bǔ)正方法，包括:
[0008]獲得曝光裝置中用于支撐基板的工作臺(tái)在第一方向和第二方向上的位移調(diào)整參數(shù)、回轉(zhuǎn)方向上的回轉(zhuǎn)角度調(diào)整參數(shù)以及與所述掩模板之間距離的間隙調(diào)整參數(shù)，其中第一方向和第二方向相互垂直且位于同一水平面內(nèi)，所述回轉(zhuǎn)方向?yàn)樗龉ぷ髋_(tái)繞支撐掩模板的基臺(tái)的中心軸旋轉(zhuǎn)的方向；
[0009]根據(jù)所述第一方向和第二方向上的位移調(diào)整參數(shù)、角度調(diào)整參數(shù)以及間隙調(diào)整參數(shù)控制所述工作臺(tái)移動(dòng)。
[0010]本發(fā)明提供的黑矩陣曝光圖案的補(bǔ)正方法，可以在三維空間內(nèi)對掩模板和基臺(tái)的位置關(guān)系進(jìn)行調(diào)整，進(jìn)而可以調(diào)整基板與掩模板之間的位置關(guān)系，以便對有黑矩陣曝光圖案內(nèi)待修補(bǔ)區(qū)域進(jìn)行補(bǔ)正，調(diào)整后形成的曝光圖案更好，可以提高補(bǔ)正精度，進(jìn)而提高顯示面板的顯示效果。
[0011]在一些可選的實(shí)施方式中，所述獲得曝光裝置中用于支撐基板的工作臺(tái)在第一方向和第二方向上的位移調(diào)整參數(shù)、回轉(zhuǎn)方向上的回轉(zhuǎn)角度調(diào)整參數(shù)以及與所述掩模板之間距離的間隙調(diào)整參數(shù)包括:
[0012]獲取基板上的黑矩陣曝光圖案信息；
[0013]確定黑矩陣曝光圖案內(nèi)的待修補(bǔ)區(qū)域，并確定曝光裝置中用于支撐基板的工作臺(tái)在第一方向和第二方向上的位移調(diào)整參數(shù)、回轉(zhuǎn)方向上的回轉(zhuǎn)角度調(diào)整參數(shù)以及與所述掩模板之間距離的間隙調(diào)整參數(shù)。
[0014]在一些可選的實(shí)施方式中，所述確定黑矩陣曝光圖案內(nèi)的待修補(bǔ)區(qū)域，確定曝光裝置中用于支撐基板的工作臺(tái)在第一方向和第二方向上的位移調(diào)整參數(shù)、回轉(zhuǎn)方向上的回轉(zhuǎn)角度調(diào)整參數(shù)以及與所述掩模板之間距離的間隙調(diào)整參數(shù)具體包括:
[0015]根據(jù)所述待修補(bǔ)區(qū)域?qū)?yīng)的液晶盒的實(shí)際位置測量值與設(shè)計(jì)值之間的差值得到所述第一方向和第二方向上的位移調(diào)整參數(shù)、角度調(diào)整參數(shù)以及間隙調(diào)整參數(shù)控制所述工作臺(tái)移動(dòng)。
[0016]在一些可選的實(shí)施方式中，所述根據(jù)所述間隙調(diào)整參數(shù)控制所述工作臺(tái)移動(dòng)具體包括:
[0017]根據(jù)所述間隙調(diào)整參數(shù)控制所述工作臺(tái)的支撐座的高度。
[0018]本發(fā)明還提供了一種黑矩陣曝光圖案的補(bǔ)正裝置，包括:
[0019]獲得模塊，用于獲得曝光裝置中用于支撐基板的工作臺(tái)在第一方向和第二方向上的位移調(diào)整參數(shù)、回轉(zhuǎn)方向上的回轉(zhuǎn)角度調(diào)整參數(shù)以及與所述掩模板之間距離的間隙調(diào)整參數(shù)，其中第一方向和第二方向相互垂直且位于同一水平面內(nèi)，所述回轉(zhuǎn)方向?yàn)樗龉ぷ髋_(tái)繞支撐掩模板的基臺(tái)的中心軸旋轉(zhuǎn)的方向；
[0020]處理模塊，用于根據(jù)所述第一方向和第二方向上的位移調(diào)整參數(shù)、角度調(diào)整參數(shù)以及間隙調(diào)整參數(shù)控制所述工作臺(tái)移動(dòng)。
[0021]在一些可選的實(shí)施方式中，所述獲得模塊包括:
[0022]獲取模塊，用于獲取基板上的黑矩陣曝光圖案信息；
[0023]計(jì)算模塊，用于確定黑矩陣曝光圖案內(nèi)的待修補(bǔ)區(qū)域，并確定曝光裝置中用于支撐基板的工作臺(tái)在第一方向和第二方向上的位移調(diào)整參數(shù)、回轉(zhuǎn)方向上的回轉(zhuǎn)角度調(diào)整參數(shù)以及與所述掩模板之間距離的間隙調(diào)整參數(shù)。
[0024]在一些可選的實(shí)施方式中，所述計(jì)算模塊具體用于:
[0025]根據(jù)所述待修補(bǔ)區(qū)域?qū)?yīng)的液晶盒的實(shí)際位置測量值與設(shè)計(jì)值之間的差值得到所述第一方向和第二方向上的位移調(diào)整參數(shù)、角度調(diào)整參數(shù)以及間隙調(diào)整參數(shù)控制所述工作臺(tái)移動(dòng)。
[0026]在一些可選的實(shí)施方式中，所述處理模塊具體用于:
[0027]根據(jù)所述間隙調(diào)整參數(shù)控制所述工作臺(tái)的支撐座的高度。
[0028]本發(fā)明還提供了一種曝光系統(tǒng)，包括:用于支撐基板的工作臺(tái)、位于所述工作臺(tái)上方、用于支撐掩模板的基臺(tái)，所述工作臺(tái)背離所述基板的一面設(shè)有多個(gè)支撐座，還包括:
[0029]控制裝置，用于獲得曝光裝置中用于支撐基板的工作臺(tái)在第一方向和第二方向上的位移調(diào)整參數(shù)、回轉(zhuǎn)方向上的回轉(zhuǎn)角度調(diào)整參數(shù)以及與所述掩模板之間距離的間隙調(diào)整參數(shù)，其中第一方向和第二方向相互垂直且位于同一水平面內(nèi)，所述回轉(zhuǎn)方向?yàn)樗龉ぷ髋_(tái)繞支撐掩模板的基臺(tái)的中心軸旋轉(zhuǎn)的方向；
[0030]還用于根據(jù)所述第一方向和第二方向上的位移調(diào)整參數(shù)、角度調(diào)整參數(shù)以及間隙調(diào)整參數(shù)控制所述工作臺(tái)移動(dòng)。
[0031]在一些可選的實(shí)施方式中，上述曝光系統(tǒng)還包括:
[0032]采集裝置，用于獲取基板上的黑矩陣曝光圖案信息；
[0033]確定裝置，用于根據(jù)所述待修補(bǔ)區(qū)域?qū)?yīng)的液晶盒的實(shí)際位置測量值與設(shè)計(jì)值之間的差值得到所述第一方向和第二方向上的位移調(diào)整參數(shù)、角度調(diào)整參數(shù)以及間隙調(diào)整參數(shù)控制所述工作臺(tái)移動(dòng)。
【附圖說明】
[0034]圖1為一種畸形黑矩陣曝光圖案；
[0035]圖2為另一種畸形黑矩陣曝光圖案；
[0036]圖3為本發(fā)明提供的黑矩陣曝光圖案的補(bǔ)正方法的一種流程圖；
[0037]圖4為本發(fā)明提供的黑矩陣曝光圖案的補(bǔ)正方法的另一種流程圖；
[0038]圖5為本發(fā)明提供的黑矩陣曝光圖案的補(bǔ)正裝置的一種結(jié)構(gòu)示意圖；
[0039]圖6為本發(fā)明提供的黑矩陣曝光圖案的補(bǔ)正裝置的另一種結(jié)構(gòu)示意圖；
[0040]圖7為本發(fā)明提供的曝光系統(tǒng)的一種結(jié)構(gòu)示意圖；
[0041]圖8為本發(fā)明提供的曝光系統(tǒng)的另一種結(jié)構(gòu)示意圖。
[0042]附圖標(biāo)記:
[0043]01-待修補(bǔ)區(qū)域1-獲得模塊
[0044]11-獲取模塊12-計(jì)算模塊
[0045]2-處理模塊3-輸入裝置
[0046]4-工作臺(tái)41-支撐座
[0047]5-基板6_掩模板
[0048]7-控制裝置8-采集裝置
[0049]9-確定裝置
【具體實(shí)施方式】
[0050]下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例。
[0051]如圖3所示，圖3為本發(fā)明提供的黑矩陣曝光圖案的補(bǔ)正方法的一種流程圖；本發(fā)明提供的黑矩陣曝光圖案的補(bǔ)正方法，包括:
[0052]步驟S301:獲得曝光裝置中用于支撐基板的工作臺(tái)在第一方向和第二方向上的位移調(diào)整參數(shù)、回轉(zhuǎn)方向上的回轉(zhuǎn)角度調(diào)整參數(shù)以及與掩模板之間距離的間隙調(diào)整參數(shù)，其中第一方向和第二方向相互垂直且位于同一水平面內(nèi)，回轉(zhuǎn)方向?yàn)楣ぷ髋_(tái)繞支撐掩模板的基臺(tái)的中心軸旋轉(zhuǎn)的方向；
[0053]步驟S302:根據(jù)第一方向和第二方向上的位移調(diào)整參數(shù)、角度調(diào)整參數(shù)以及間隙調(diào)整參數(shù)控制工作臺(tái)移動(dòng)。
[0054]本發(fā)明提供的黑矩陣曝光圖案的補(bǔ)正方法，可以在三維空間內(nèi)對掩模板和基臺(tái)的位置關(guān)系進(jìn)行調(diào)整，進(jìn)而可以調(diào)整基板與掩模板之間的位置關(guān)系，以便對有黑矩陣曝光圖案內(nèi)待修補(bǔ)區(qū)域進(jìn)行補(bǔ)正，調(diào)整后形成的曝光圖案更好，可以提高補(bǔ)正精度，進(jìn)而提高顯示面板的顯示效果。
[0055]需要說明的是上述回轉(zhuǎn)角度可以理解為:假設(shè)工作臺(tái)和基臺(tái)均為長方體結(jié)構(gòu)，基臺(tái)的一邊投影在工作臺(tái)的支撐面上、與工作臺(tái)的一邊相交所成的角度為回轉(zhuǎn)角度。上述支撐掩模板的基臺(tái)的中心軸為垂直于基臺(tái)的中心的軸。
[0056]進(jìn)一步的，如圖4所示，圖4為本發(fā)明提供的黑矩陣曝光圖案的補(bǔ)正方法的另一種流程圖，上述步驟S301:獲得曝光裝置中用于支撐基板的工作臺(tái)在第一方向和第二方向上的位移調(diào)整參數(shù)、回轉(zhuǎn)方向上的回轉(zhuǎn)角度調(diào)整參數(shù)以及與掩模板之間距離的間隙調(diào)整參數(shù)包括:
[0057]步驟S3011:獲取基板上的黑矩陣曝光圖案信息；
[0058]步驟S3