顯示基板及其制作方法以及顯示基板制作系統(tǒng)和顯示裝置的制造方法
【技術領域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示技術領域，具體而言，涉及一種顯示基板制作方法、一種顯示基板制作系統(tǒng)、一種顯示基板和一種顯示裝置。
【背景技術】
[0002]通過高精度金屬掩膜板(即FMM)來形成子像素，主要是通過蒸鍍方式將子像素材料(例如有機發(fā)光材料，用于形成OLED中的子像素)按照預定程序蒸鍍到LTPS (低溫多晶硅)背板上，利用高精度金屬掩模板上的圖形開口，形成紅、綠、藍子像素。
[0003]而高精度金屬掩模板所需的精密度較高，其中用于形成像素的開口較小，容易受到外力和磁場的干擾而發(fā)生形變，導致形成的子像素也相應地發(fā)生形變。因此高精度掩膜板的制作良率并不高，難以達到較高的分辨率。

【發(fā)明內容】

[0004]本發(fā)明所要解決的技術問題是，提高通過掩膜板形成子像素的精度。
[0005]為此目的，本發(fā)明提出了一種顯示基板制作方法，包括:
[0006]形成第一電路、第二電路、第三電路和第四電路，分別用于驅動第一子像素、第二子像素、第三子像素和第四子像素；
[0007]通過第一掩膜板在所述第一電路和所述第四電路之上形成第一子像素，其中，所述第一掩膜板包括多個第一開口，每個第一開口對應一個第一子像素和一個第四子像素；
[0008]通過第二掩膜板在所述第二電路和所述第四電路之上形成第二子像素，其中，所述第二掩膜板包括多個第二開口，每個第二開口對應一個第二子像素和一個第四子像素；
[0009]通過第三掩膜板在所述第三電路和所述第四電路之上形成第三子像素，其中，所述第三掩膜板包括多個第三開口，每個第三開口對應一個第三子像素和一個第四子像素，
[0010]所述第四電路上的第一子像素、第二子像素和第三子像素疊加形成第四子像素。
[0011]優(yōu)選地，待形成的顯示基板中的每個像素包括沿第一方向排列的第一子像素、第二子像素、第三子像素和第四子像素，
[0012]則所述第一開口對應的第四子像素屬于第一像素，對應的第一子像素屬于與所述第一像素相鄰、且在所述第一像素沿第一方向上一側的第二像素；
[0013]所述第二開口對應的第四子像素屬于所述第一像素，對應的第二子像素屬于與所述第一像素相鄰、且在所述第一像素沿第二方向的一側或另一側的第三像素，所述第一方向與所述第二方向垂直；
[0014]所述第三開口對應的第三子像素和第四子像素屬于所述第一像素。
[0015]優(yōu)選地，所述多個第二開口沿所述第一方向設置，相鄰兩個第二開口中的一個第二開口對應的第四子像素位于第二子像素沿第二方向的一側，另一個第二開口對應的第四子像素位于第二子像素沿第二方向的另一側。
[0016]優(yōu)選地，所述第一子像素、第二子像素、第三子像素和第四子像素為矩形，
[0017]則所述第一開口、第二開口和第三開口為矩形。
[0018]優(yōu)選地，所述第一像素中相鄰的子像素相距預設距離，
[0019]所述第二像素中的第一子像素與所述第一像素中的第四子像素相距所述預設距離，
[0020]所述第三像素中的第二子像素與所述第一像素中的第四子像素相距所述預設距離，
[0021]則所述第一開口還對應所述第一像素的第四子像素和所述第二像素的第一子像素之間的區(qū)域，
[0022]所述第二開口還對應所述第一像素的第四子像素和所述第三像素的第二像素之間的區(qū)域，
[0023]所述第三開口還對應所述第一像素的第三子像素和第四子像素之間的區(qū)域。
[0024]優(yōu)選地，所述第一子像素為紅色子像素，所述第二子像素為綠色子像素，所述第三子像素為藍色子像素，所述第四子像素為白色子像素。
[0025]本發(fā)明還提出了一種顯示基板制作系統(tǒng)，包括:
[0026]電路形成單元，用于形成第一電路、第二電路、第三電路和第四電路，以分別驅動第一子像素、第二子像素、第三子像素和第四子像素；
[0027]第一掩膜板，包括多個第一開口，每個第一開口對應一個第一子像素和一個第四子像素，用于在所述第一電路和所述第四電路之上形成第一子像素；
[0028]第二掩膜板，包括多個第二開口，每個第二開口對應一個第二子像素和一個第四子像素，用于在所述第二電路和所述第四電路之上形成第二子像素；
[0029]第三掩膜板，包括多個第三開口，每個第三開口對應一個第三子像素和一個第四子像素，用于在所述第三電路和所述第四電路之上形成第三子像素，
[0030]所述第四電路上的第一子像素、第二子像素和第三子像素疊加形成第四子像素。
[0031]優(yōu)選地，待形成的顯示基板中的每個像素包括沿第一方向排列的第一子像素、第二子像素、第三子像素和第四子像素，
[0032]則所述第一開口對應的第四子像素屬于第一像素，對應的第一子像素屬于與所述第一像素相鄰、且在所述第一像素沿第一方向上一側的第二像素；
[0033]所述第二開口對應的第四子像素屬于所述第一像素，對應的第二子像素屬于與所述第一像素相鄰、且在所述第一像素沿第二方向的一側或另一側的第三像素，所述第一方向與所述第二方向垂直；
[0034]所述第三開口對應的第三子像素和第四子像素屬于所述第一像素。
[0035]優(yōu)選地，所述多個第二開口沿所述第一方向設置，相鄰兩個第二開口中的一個第二開口對應的第四子像素位于第二子像素沿第二方向的一側，另一個第二開口對應的第四子像素位于第二子像素沿第二方向的另一側。
[0036]優(yōu)選地，所述第一子像素、第二子像素、第三子像素和第四子像素為矩形，
[0037]則所述第一開口、第二開口和第三開口為矩形。
[0038]優(yōu)選地，所述第一像素中相鄰的子像素相距預設距離，
[0039]所述第二像素中的第一子像素與所述第一像素中的第四子像素相距所述預設距離，
[0040]所述第三像素中的第二子像素與所述第一像素中的第四子像素相距所述預設距離，
[0041]則所述第一開口還對應所述第一像素的第四子像素和所述第二像素的第一子像素之間的區(qū)域，
[0042]所述第二開口還對應所述第一像素的第四子像素和所述第三像素的第二像素之間的區(qū)域，
[0043]所述第三開口還對應所述第一像素的第三子像素和第四子像素之間的區(qū)域。
[0044]本發(fā)明還提出了一種顯示基板，包括多個像素，每個像素包括沿第一方向排列的第一子像素、第二子像素、第三子像素和第四子像素，
[0045]其中，第一像素中的第四子像素，和與所述第一像素相鄰、且位于所述第一像素沿第一方向上一側的第二像素中的第一子像素相鄰，
[0046]和與所述第一像素相鄰、且位于所述第一像素沿第二方向的一側或另一側的第三像素中的第二子像素相鄰，所述第一方向與所述第二方向垂直，
[0047]和所述第一像素中的第三子像素相鄰。
[0048]優(yōu)選地，所述第一子像素、第二子像素、第三子像素和第四子像素為矩形。
[0049]優(yōu)選地，所述第一像素中相鄰的子像素相距預設距離，
[0050]所述第二像素中的第一子像素與所述第一像素中的第四子像素相距所述預設距離，
[0051]所述第三像素中的第二子像素與所述第一像素中的第四子像素相距所述預設距離。
[0052]本發(fā)明還提出了一種顯示裝置，包括上述任一項中的顯示基板。
[0053]根據上述技術方案，由于掩膜板的每個開口對應兩個子像素區(qū)域，相對于現(xiàn)有技術中掩膜板的開口對應一個子像素區(qū)域，掩膜板的開口面積較大，可以降低受到外力或磁場而發(fā)生形變的程度，從而可以提高形成子像素的精度，提高制作良率。
【附圖說明】
[0054]通過參考附圖會更加清楚的理解本發(fā)明的特征和優(yōu)點，附圖是示意性的而不應理解為對本發(fā)明進行任何限制，在附圖中:
[0055]圖1示出了根據本發(fā)明一個實施例的顯示基板制作方法的示意流程圖；
[0056]圖2示出了根據本發(fā)明一個實施例的第一掩膜板的結構示意圖；
[0057]圖3示出了根據本發(fā)明一個實施例的第二掩膜板的結構示意圖；
[0058]圖4示出了根據本發(fā)明一個實施例的第三掩膜板的結構示意圖；
[0059]圖5示出了根據本發(fā)明一個實施例的顯示基板的子像素排列示意圖；
[0060]圖6示出了根據本發(fā)明一個實施例的疊加形成第四子像素的示意圖；
[0061]圖7示出了根據本發(fā)明又一個實施例的第一掩膜板的結構示意圖；
[0062]圖8示出了根據本發(fā)明又一個實施例的第二掩膜板的結構示意圖；
[0063]圖9示出了根據本發(fā)明又一個實施例的第三掩膜板的結構示意圖；
[0064]圖10示出了根據本發(fā)明又一個實施例的顯示基板的子像素