一種光配向掩膜板對(duì)位的檢測(cè)方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及液晶顯示制造領(lǐng)域，特別涉及一種光配向時(shí)掩膜板對(duì)位的檢測(cè)方法。
【背景技術(shù)】
[0002]隨著信息社會(huì)的發(fā)展，人們對(duì)顯示器件的要求也越來(lái)越高，在平板顯示器件當(dāng)中，VA (Vertical Alignment，垂直配向顯示模式)，IPS (In Plan Switch，面內(nèi)開(kāi)關(guān)顯示模式)等廣視角顯示技術(shù)得到了飛躍的發(fā)展。進(jìn)而，UV2A光配向技術(shù)在TFT-LCD制造業(yè)內(nèi)更受青睞。
[0003]UV2A(Ultra V1let Vertical Alignment)技術(shù)是一種米用紫外線(UV =UltraV1let)進(jìn)行液晶配向的VA (Vertical Alignment，垂直配向)面板技術(shù)，其名稱來(lái)源于紫外線UV與液晶面板VA模式的相乘。通過(guò)導(dǎo)入U(xiǎn)V2A技術(shù)后，可以省去目前在VA模式液晶面板中用于控制液晶分子配向的狹縫隙和突起，因此通過(guò)UV2A技術(shù)液晶面板的開(kāi)口率、對(duì)比度和響應(yīng)速度都能得到提高，并能大幅削減生產(chǎn)程序。
[0004]UV2A技術(shù)的關(guān)鍵步驟是對(duì)陣列基板和彩膜基板進(jìn)行曝光。如圖1所示為現(xiàn)有技術(shù)的多疇顯示配向的示意圖，多疇顯示配向方法是分別在陣列基板側(cè)及CF基板側(cè)的一顆像素上進(jìn)行不同方向的曝光，為了確保在曝光掃描的過(guò)程中，UV2A MASK(掩膜板)與陣列基板或彩膜基板精準(zhǔn)對(duì)位，以確保曝光后，玻璃基板上各處相同設(shè)計(jì)的圖案尺寸應(yīng)保持一致，并且均與掩膜板設(shè)計(jì)相同。在玻璃基板20上會(huì)設(shè)計(jì)一對(duì)位圖案30，當(dāng)掩膜板10與玻璃基板20對(duì)準(zhǔn)時(shí)，在曝光掃描的過(guò)程中，利用CCD可追蹤到玻璃基板上這一對(duì)位圖案，如圖2所示。
[0005]但由于目前面板像素線寬愈做愈小，及制程能力的飄移，使得追蹤的圖案線寬太小，或者追蹤面板畫素的CCD感應(yīng)器老化，使得CCD偵測(cè)不到原本的追蹤對(duì)位圖案，而追蹤到像素內(nèi)其它的對(duì)位圖案，進(jìn)而使得UV2A掩膜板發(fā)生位移，造成曝光方向不對(duì)，若此時(shí)機(jī)臺(tái)不停止工作，則會(huì)造成產(chǎn)線上大量的損失。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]本發(fā)明揭示一種配向掩膜板對(duì)位的檢測(cè)方法，包括:一曝光機(jī)臺(tái)、設(shè)置于該機(jī)臺(tái)上
[0007]一光偵測(cè)器、與所述光偵測(cè)器相連接的一報(bào)警器、一玻璃基板以及一掩膜板；該掩膜板包括透光區(qū)與非透光區(qū)；檢測(cè)方法如下:
[0008]將所述的光偵測(cè)器設(shè)置于所述掩膜板的非透光區(qū)在所述曝光機(jī)臺(tái)上的投影區(qū)域；
[0009]曝光機(jī)臺(tái)將所述掩膜板與所述玻璃基板對(duì)位，并進(jìn)行UV2A曝光制程；
[0010]若所述掩膜板發(fā)生位移，所述光偵測(cè)器將接收到UV光；當(dāng)所述光偵測(cè)器接收到UV光時(shí)，將信號(hào)傳給曝光機(jī)臺(tái)的報(bào)警器，報(bào)警器報(bào)警；機(jī)臺(tái)停止工作；掩膜板與玻璃基板重新調(diào)整對(duì)位。
[0011]進(jìn)一步，所述的光偵測(cè)器可設(shè)置于所述掩膜板的非透光區(qū)在所述玻璃基板上的投影區(qū)域；
[0012]進(jìn)一步，所述的光偵測(cè)器可設(shè)置于所述掩膜板的透光區(qū)在所述曝光機(jī)臺(tái)上的投影區(qū)域；若所述掩膜板發(fā)生位移，所述光偵測(cè)器將接收不到UV光；當(dāng)所述光偵測(cè)器將接收不到UV光時(shí)，該光偵測(cè)器將信號(hào)傳給曝光機(jī)臺(tái)的報(bào)警器，報(bào)警器報(bào)警；機(jī)臺(tái)停止工作；掩膜板與玻璃基板重新調(diào)整對(duì)位；
[0013]進(jìn)一步，所述的光偵測(cè)器可設(shè)置于所述掩膜板的透光區(qū)在所述玻璃基板上的投影區(qū)域；
[0014]進(jìn)一步，所述的玻璃基板為TFT陣列基板；
[0015]進(jìn)一步，所述的玻璃基板為彩膜基板。
[0016]有益效果:通過(guò)在光配向制程的曝光機(jī)臺(tái)上中增加一光偵測(cè)器，在曝光掃描的過(guò)程中，不僅可確保UV2A掩膜板對(duì)位的精準(zhǔn)度；當(dāng)UV2A掩膜板對(duì)位發(fā)生位移時(shí)，也可及時(shí)停止曝光機(jī)臺(tái)工作，避免產(chǎn)線上大量的損失。
【附圖說(shuō)明】
[0017]圖1為現(xiàn)有技術(shù)的多疇顯不配向的不意圖；
[0018]圖2為圖1中玻璃基板上的對(duì)位圖案示意圖；
[0019]圖3為本發(fā)明的光配向示意圖；
[0020]其中，10、掩膜板，20、玻璃基板，30、對(duì)位圖案，50、光偵測(cè)器，60、報(bào)警器，101、透光區(qū)，102、非透光區(qū)。
【具體實(shí)施方式】
[0021]下面結(jié)合附圖和具體實(shí)施例，進(jìn)一步闡明本發(fā)明，應(yīng)理解這些實(shí)施例僅用于說(shuō)明本發(fā)明而不用于限制本發(fā)明的范圍，在閱讀了本發(fā)明之后，本領(lǐng)域技術(shù)人員對(duì)本發(fā)明的各種等價(jià)形式的修改均落于本申請(qǐng)所附權(quán)利要求所限定的范圍。
[0022]本發(fā)明提供一種可自動(dòng)報(bào)警的光配向掩膜板對(duì)位的檢測(cè)方法，當(dāng)曝光方向不對(duì)時(shí)，報(bào)告機(jī)臺(tái)報(bào)警并止工作，避免產(chǎn)線上大量的損失。該檢測(cè)方法為:在曝光機(jī)臺(tái)上設(shè)有一光偵測(cè)器50，以及與該光偵測(cè)器50相連接的報(bào)警器60。一掩膜板10，用于遮擋待曝光的玻璃基板10的有效區(qū)，包括透光區(qū)101和非透光區(qū)102。
[0023]將所述的光偵測(cè)器50設(shè)置于所述掩膜板的非透光區(qū)102在所述曝光機(jī)臺(tái)上的投影區(qū)域；或者設(shè)置于掩膜板的非透光區(qū)102在玻璃基板上的投影區(qū)域。即當(dāng)掩膜板10與玻璃基板20對(duì)準(zhǔn)時(shí)，光偵測(cè)器50被掩膜板的非透光區(qū)擋住，故接收不到UV光。其中，玻璃基板20為TFT陣列基板或者彩膜基板。
[0024]曝光機(jī)臺(tái)將所述掩膜板10與所述玻璃基板20對(duì)位，并進(jìn)行UV2A曝光制程；若所述掩膜板10發(fā)生位移，所述光偵測(cè)器50將接收到UV光；當(dāng)所述光偵測(cè)器50接收到UV光時(shí)，將信號(hào)傳給曝光機(jī)臺(tái)的報(bào)警器60，報(bào)警器報(bào)警；機(jī)臺(tái)停止工作；掩膜板與玻璃基板重新調(diào)整對(duì)位。
[0025]光偵測(cè)器50也可以設(shè)置于掩膜板10的透光區(qū)102在曝光機(jī)臺(tái)上或者玻璃基板的投影區(qū)域。當(dāng)掩膜板10與玻璃基板20對(duì)準(zhǔn)時(shí)，光偵測(cè)器50 —直可以接收UV光。
[0026]曝光機(jī)臺(tái)將所述掩膜板10與所述玻璃基板20對(duì)位，并進(jìn)行UV2A曝光制程；若所述掩膜板10發(fā)生位移，所述光偵測(cè)器50將接收到不到UV光；當(dāng)所述光偵測(cè)器50接收不到UV光時(shí)，將信號(hào)傳給曝光機(jī)臺(tái)的報(bào)警器60，報(bào)警器報(bào)警；機(jī)臺(tái)停止工作；掩膜板與玻璃基板重新調(diào)整對(duì)位。
[0027]通過(guò)本發(fā)明的檢測(cè)方法，可確保在曝光掃描的過(guò)程中，UV2A掩膜板對(duì)位的精準(zhǔn)度，發(fā)生位移時(shí)，及時(shí)停止曝光機(jī)臺(tái)工作，避免產(chǎn)線上大量的損失。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種光配向掩膜板對(duì)位的檢測(cè)方法，包括:一曝光機(jī)臺(tái)、設(shè)置于該機(jī)臺(tái)上一光偵測(cè)器、與所述光偵測(cè)器相連接的一報(bào)警器、一玻璃基板以及一掩膜板；該掩膜板包括透光區(qū)與非透光區(qū)；檢測(cè)方法如下: 將所述的光偵測(cè)器設(shè)置于所述掩膜板的非透光區(qū)在所述曝光機(jī)臺(tái)上的投影區(qū)域； 曝光機(jī)臺(tái)將所述掩膜板與所述玻璃基板對(duì)位，并進(jìn)行UV2A曝光制程； 若所述掩膜板發(fā)生位移，所述光偵測(cè)器將接收到UV光；當(dāng)所述光偵測(cè)器接收到UV光時(shí)，將信號(hào)傳給曝光機(jī)臺(tái)的報(bào)警器，報(bào)警器報(bào)警；機(jī)臺(tái)停止工作；掩膜板與玻璃基板重新調(diào)整對(duì)位。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光配向掩膜板對(duì)位的檢測(cè)方法，其特征在于:所述的光偵測(cè)器可設(shè)置于所述掩膜板的非透光區(qū)在所述玻璃基板上的投影區(qū)域。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光配向掩膜板對(duì)位的檢測(cè)方法，其特征在于:所述的光偵測(cè)器可設(shè)置于所述掩膜板的透光區(qū)在所述曝光機(jī)臺(tái)上的投影區(qū)域；若所述掩膜板發(fā)生位移，所述光偵測(cè)器將接收不到UV光；當(dāng)所述光偵測(cè)器將接收不到UV光時(shí)，該光偵測(cè)器將信號(hào)傳給曝光機(jī)臺(tái)的報(bào)警器，報(bào)警器報(bào)警；機(jī)臺(tái)停止工作；掩膜板與玻璃基板重新調(diào)整對(duì)位。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光配向掩膜板對(duì)位的檢測(cè)方法，其特征在于:所述的光偵測(cè)器可設(shè)置于所述掩膜板的透光區(qū)在所述玻璃基板上的投影區(qū)域。
5.根據(jù)權(quán)利要求1-4任一項(xiàng)所述的光配向掩膜板對(duì)位的檢測(cè)方法，其特征在于:所述的玻璃基板為TFT陣列基板。
6.根據(jù)權(quán)利要求1-4任一項(xiàng)所述的光配向掩膜板對(duì)位的檢測(cè)方法，其特征在于:所述的玻璃基板為彩膜基板。
【專利摘要】本發(fā)明公開(kāi)一種配向掩膜板對(duì)位的檢測(cè)方法，包括：一曝光機(jī)臺(tái)、設(shè)置于該機(jī)臺(tái)上一光偵測(cè)器、與所述光偵測(cè)器相連接的一報(bào)警器、一玻璃基板以及一掩膜板；該掩膜板包括透光區(qū)與非透光區(qū)；檢測(cè)方法為：將所述的光偵測(cè)器設(shè)置于所述掩膜板的非透光區(qū)在所述曝光機(jī)臺(tái)上的投影區(qū)域；曝光機(jī)臺(tái)將所述掩膜板與所述玻璃基板對(duì)位，并進(jìn)行UV2A曝光制程；若所述掩膜板發(fā)生位移，所述光偵測(cè)器將接收到UV光；將信號(hào)傳給曝光機(jī)臺(tái)的報(bào)警器，報(bào)警器報(bào)警；機(jī)臺(tái)停止工作；掩膜板與玻璃基板重新調(diào)整對(duì)位。通過(guò)本發(fā)明的檢測(cè)方法，在曝光掃描的過(guò)程中，不僅可確保UV2A掩膜板對(duì)位的精準(zhǔn)度；發(fā)生位移時(shí)，也可及時(shí)停止曝光機(jī)臺(tái)工作，避免產(chǎn)線上大量的損失。
【IPC分類】G03F1-44, G02F1-1337, G03F1-42
【公開(kāi)號(hào)】CN104536259
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201410828551
【發(fā)明人】黃秋蓉
【申請(qǐng)人】南京中電熊貓液晶顯示科技有限公司
【公開(kāi)日】2015年4月22日
【申請(qǐng)日】2014年12月26日