專利名稱：：抗蝕劑的顯影方法以及顯影裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及刻蝕技術(shù)中的抗蝕劑的顯影方法以及顯影裝置。作為半導(dǎo)體元件安裝技術(shù)的TAB(載帶自動(dòng)鍵合)技術(shù)正在被實(shí)用化。在該技術(shù)中，具有在撓性電路底板上安裝半導(dǎo)體元件，適于大批量生產(chǎn)，能夠小型化，能夠形成精密圖形等等眾多的特征。這里，撓性電路底板經(jīng)過多個(gè)工序制造。即，經(jīng)過在以樹脂為主要材料的長(zhǎng)撓性薄膜上粘貼銅等金屬箔的工序，涂敷光抗蝕劑的工序，把電路圖形進(jìn)行曝光的工序，顯影電路圖形的工序，進(jìn)行刻蝕留下電路圖形的工序，除去光抗蝕劑的工序，電鍍工序等，制造出撓性電路底板。圖3中示出了這些工序中的把電路圖形進(jìn)行顯影的工序。圖中，卷繞在卷筒102上的撓性薄膜104是涂敷了光抗蝕劑(未圖示)，并且把電路圖形進(jìn)行了曝光的薄膜。撓性薄膜104由鏈輪106、112、114引導(dǎo)通過顯影容器108內(nèi)。在顯影容器108中積存顯影液110，涂敷在撓性薄膜104上的光抗蝕劑的被曝光的部分由顯影液110溶解并去除。另外，在這里使用的是正型光抗蝕劑。接著，撓性薄膜104經(jīng)過鏈輪116在清洗機(jī)118中被清洗，并在干燥機(jī)120中干燥后被卷筒122卷繞。在上述工序中，隨著進(jìn)行撓性薄膜104的顯影，顯影液110特別地將在撓性薄膜104的附近劣化，濃度降低。即，例如即使存在于同一顯影容器108內(nèi)，顯影液110的濃度也部分地不相同，在顯影程度上產(chǎn)生偏差。特別地，在電路圖形的間距細(xì)微的情況下，如果進(jìn)行后續(xù)的刻蝕工序，則由于其偏差的原因?qū)a(chǎn)生電路圖形的斷線和短路。另外，隨著增加使用次數(shù)，顯影液110的濃度不僅部分地而且整體地下降，使得顯影速度遲緩。為了避免這一點(diǎn)，需要調(diào)整撓性薄膜104的送出速度和顯影液的溫度等條件，使得操作復(fù)雜化。本發(fā)明是著眼于上述問題而產(chǎn)生的，其目的在于提供使刻蝕技術(shù)中的抗蝕劑的顯影圖形精度提高，避免操作的遲緩和復(fù)雜化的顯影方法以及顯影裝置。(1)本發(fā)明在刻蝕技術(shù)中抗蝕劑的顯影方法中，包括把被涂敷了抗蝕劑以及被照射了的顯影對(duì)象物浸泡在積存于容器內(nèi)的顯影液中，同時(shí)把由上述顯影液產(chǎn)生的液壓加入到上述顯影對(duì)象物上的工序。如果依據(jù)本發(fā)明，把顯影對(duì)象物浸泡在積存于容器中的顯影液內(nèi)，進(jìn)行顯影。從而，顯影液雖然接觸空氣，但由于僅是其液面因此接觸面積小，空氣中的二氧化碳難以溶入顯影液中。如果這樣做，則二氧化碳溶入顯影液中產(chǎn)生的碳酸和作為顯影液主要成分的堿的中和反應(yīng)減少，能夠抑制顯影液中的堿濃度的降低。另外，在簇射顯影液情況下由于顯影液成為細(xì)小的霧狀，故顯影液和空氣的接觸面積非常大，有相當(dāng)多的空氣中的二氧化碳溶入顯影液中，過早地使顯影液惡化。但是，如果依據(jù)本發(fā)明，將防止在簇射顯影液時(shí)產(chǎn)生那樣的泡沫。進(jìn)而，如果依據(jù)本發(fā)明，則由顯影液產(chǎn)生的液壓加入到顯影對(duì)象物上。該液壓不僅能夠加速顯影速度，而且能夠攪拌顯影液使?jié)舛染鶆?，降低后續(xù)的刻蝕工藝中的斷線和短路等的不良情況。另外，由于在液壓方向上進(jìn)行顯影，因而可能成為各向異性顯影，能夠在與表面幾乎成直角的方向顯影抗蝕劑，得到出色的抗蝕劑圖形。(2)上述顯影對(duì)象物可以是粘貼了金屬箔，而且對(duì)應(yīng)電路圖形照射了上述抗蝕劑而構(gòu)成撓性的薄膜。在TAB技術(shù)中使用這樣的撓性薄膜。(3)上述液壓也可以循環(huán)地加入積存在上述容器中的上述顯影液。通過這樣做，能夠在容器內(nèi)攪拌顯影液使其濃度均勻。(4)上述液壓最好根據(jù)上述顯影液的濃度進(jìn)行調(diào)整。這樣，如果改變顯影液的液壓，則能夠進(jìn)行顯影速度的調(diào)整。例如，在顯影液新，堿濃度高時(shí)，由于原來顯影液顯影速度很快，因此減小液壓，如果隨著進(jìn)行顯影，顯影液劣化，則通過加大液壓能夠抑制顯影速度的下降。這樣，不管顯影液的狀態(tài)如何，能夠在恒定的顯影時(shí)間內(nèi)進(jìn)行顯影。(5)上述液壓最好是隨著上述顯影液濃度的下降而升高。這樣，即使顯影液的濃度下降也能夠通過提高液壓維持顯影能力。(6)本發(fā)明在進(jìn)行刻蝕技術(shù)中的抗蝕劑顯影的顯影裝置中具有積存顯影液的容器；把被涂敷了抗蝕劑以及被照射的顯影對(duì)象物引導(dǎo)到上述容器內(nèi)使其浸泡在上述顯影液中的導(dǎo)向裝置；在浸泡于上述顯影液的上述顯影對(duì)象物上加入由上述顯影液產(chǎn)生的液壓的泵。使用該顯影裝置，能夠?qū)嵤┥鲜鲲@影方法。(7)上述顯影對(duì)象物是粘貼了金屬箔而且對(duì)應(yīng)電路圖形照射了上述抗蝕劑構(gòu)成的撓性薄膜，還可以具有進(jìn)行上述撓性薄膜的卷開的開卷筒和進(jìn)行卷繞上述撓性薄膜的卷繞筒。這樣，能夠有效地進(jìn)行對(duì)于在TAB技術(shù)中使用的撓性薄膜的抗蝕劑的顯影。(8)本發(fā)明的顯影裝置還可以具有調(diào)整上述顯影液的液壓的閥門。用該閥門調(diào)整顯影液的液壓，能夠維持恒定的顯影時(shí)間。圖1示出本發(fā)明實(shí)施形態(tài)的顯影裝置。圖2示出本發(fā)明另一個(gè)實(shí)施形態(tài)的顯影裝置。圖3示出以往的顯影裝置。下面，參照本發(fā)明的實(shí)施形態(tài)。圖1是示出本發(fā)明實(shí)施形態(tài)的顯影裝置的概略圖。該顯影裝置具有開卷筒10，顯影容器20，清洗機(jī)30，干燥機(jī)40以及卷繞筒50。開卷筒10上卷繞了在TAB技術(shù)中使用的撓性薄膜12。撓性薄膜12上作為金屬箔粘貼著例如銅箔，在該銅箔上涂敷著光抗蝕劑。進(jìn)而，光抗蝕劑對(duì)應(yīng)電路圖形進(jìn)行曝光。從而，撓性薄膜12成為等待刻蝕技術(shù)中的顯影工序的狀態(tài)，用圖1所示的顯影裝置進(jìn)行顯影工序。另外，撓性薄膜12卷繞在開卷筒10上，使得光抗蝕劑的涂敷面朝向外側(cè)。顯影容器20中積存著顯影液22，構(gòu)成為能夠把撓性薄膜12浸泡在顯影液22中進(jìn)行顯影。即，在開卷筒10側(cè)的顯影容器20的上方設(shè)有導(dǎo)向裝置14，撓性薄膜12沿顯影容器20的內(nèi)周面被引導(dǎo)到其內(nèi)部。另外，在顯影容器20的底部，撓性薄膜12通過導(dǎo)向裝置16被導(dǎo)向橫方向。進(jìn)而，借助導(dǎo)向裝置18，撓性薄膜12被導(dǎo)向上方，送出到顯影容器20以外。這樣，撓性薄膜12浸泡在顯影容器20中所積存的顯影液22內(nèi)進(jìn)行顯影。本實(shí)施形態(tài)中，在顯影容器20內(nèi)，把顯影液22的液壓加入到撓性薄膜12上。即，用泵26從設(shè)置在顯影容器20下部的管路24吸入顯影液22，從設(shè)置在管路28的頂端的排放口28a排放顯影液22。這樣，把液壓加入在撓性薄膜12上，能夠提高顯影能力，同時(shí)還能夠進(jìn)行顯影液22的攪拌。另外，管路24設(shè)定于對(duì)應(yīng)顯影容器20的開口位置使得能夠從排放口28a的上方位置吸入顯影液22。通過這樣做，即使在排放口28a上方的位置上，也能夠通過管路24的吸入攪拌顯影液。排放口28a構(gòu)成為面向撓性薄膜12中的光抗蝕劑的涂敷面，把排放的顯影液22噴涂到光抗蝕劑上。詳細(xì)地講，使撓性薄膜12其光抗蝕劑的涂敷面朝向顯影容器20的中央側(cè)那樣，使用導(dǎo)向裝置14、16進(jìn)行導(dǎo)向。從而，在顯影容器20的底部由于涂敷面朝向上方，因此排放口28a配置成朝向下方。另外，在管路28上設(shè)有閥門60，構(gòu)成為能夠調(diào)整從排放口28a排放的顯影液22的液壓。這樣，通過顯影容器20內(nèi)的撓性薄膜12用導(dǎo)向裝置32送到清洗機(jī)30的下方。清洗機(jī)30向撓性薄膜12上簇射清洗液，洗去顯影液22。其次，撓性薄膜12經(jīng)過導(dǎo)向裝置42傳送到干燥機(jī)40的下方進(jìn)行干燥，經(jīng)過導(dǎo)向裝置44被卷繞筒50卷繞。卷繞筒50用馬達(dá)52進(jìn)行旋轉(zhuǎn)。從而，通過卷繞筒50的旋轉(zhuǎn)，從開卷筒10經(jīng)過顯影容器20內(nèi)部卷繞撓性薄膜12。本實(shí)施形態(tài)如以上那樣構(gòu)成，以下說明其作用。首先，在開卷筒10上卷繞結(jié)束了光抗蝕劑的涂敷以及曝光的撓性薄膜12，拉出該撓性薄膜12，使其由導(dǎo)向裝置14、16、18、32、42、44導(dǎo)引，安裝到卷繞筒50上。另外，在顯影容器20中予先充滿顯影液22。接著，在使卷繞筒50旋轉(zhuǎn)的同時(shí)，驅(qū)動(dòng)泵26，在撓性薄膜12上加入顯影液22的液壓。這時(shí)，泵26在吸入顯影容器20內(nèi)的顯影液22的同時(shí)從排放口28a排放顯影液22。從而，由于顯影容器20內(nèi)的顯影液被攪拌，其堿濃度成為均勻。另外，顯影液22的液壓由于加入到撓性薄膜12中的光抗蝕劑的涂敷面上，因此能夠提高顯影效果。通過這樣做，能夠無偏差且均勻地進(jìn)行光抗蝕劑的顯影。還有，如果伴隨顯影的進(jìn)行，顯影液22的堿濃度降低，則通過用閥門60加大顯影液22的液壓，能夠提高顯影速度。反之，在新顯影液22的情況下，由于即使不加入液壓也能夠確保充分的顯影速度，所以通過閥門60減小顯影液22的液壓。這樣，通過調(diào)整排出的顯影液22的液壓，則無論顯影液的堿濃度的狀況如何，都能夠在恒定時(shí)間內(nèi)進(jìn)行顯影，大幅度地提高操作效率。另外，圖2示出本發(fā)明其它實(shí)施形態(tài)的顯影裝置。該圖所示的顯影裝置由于除去管路74的構(gòu)成以外和圖1所示的顯影裝置相同，因此標(biāo)注相同的符號(hào)并且省略說明。如圖2所示，管路74位于排放口28a的上方，而且，從顯影液22的液面進(jìn)入到頂端部分。通過這樣做，由于在最遠(yuǎn)離排放口28a的位置，吸入并且攪拌顯影液22，所以能夠進(jìn)行顯影液22的總體攪拌。其次，說明使用了上述顯影裝置進(jìn)行的實(shí)驗(yàn)結(jié)果。作為顯影液，使用氫氧化鈉(NaOH)溶液，把液溫設(shè)定為27.0℃，光抗蝕劑的厚度設(shè)定為4μm。而且，調(diào)查得到和用75秒曝光的掩模圖形線寬度相同的抗蝕劑圖形線寬度時(shí)的顯影液的堿濃度和排放的顯影液的液壓之間的關(guān)系。下表中示出其結(jié)果。</tables>如上表所示，在堿濃度為0.140～0.145mol/l時(shí)，使用新顯影液，能夠在低液壓下進(jìn)行充分的顯影。另一方面，在堿濃度是0.115～0.120mol/l時(shí)，顯影液的劣化加重，通過把顯影液的液壓提高到2.0kgf/cm2，能夠和使用新顯影液時(shí)的相同時(shí)間進(jìn)行顯影。這樣，通過實(shí)驗(yàn)也確認(rèn)了本發(fā)明的效果。權(quán)利要求書按照條約第19條的修改1.刻蝕技術(shù)中的抗蝕劑的顯影方法，包括把被涂敷了抗蝕劑以及被照射了的顯影對(duì)象物浸泡在容器內(nèi)所積存的顯影液中，同時(shí)，把由上述顯影液產(chǎn)生的液壓加到上述顯影對(duì)象物上的工序，并且根據(jù)上述顯影液的濃度調(diào)整上述液壓。2.權(quán)利要求1中記述的抗蝕劑的顯影方法，其中上述顯影對(duì)象物是粘貼了金屬箔而且對(duì)應(yīng)于電路圖形照射上述抗蝕劑構(gòu)成的撓性薄膜。3.權(quán)利要求2中記述的抗蝕劑的顯影方法，其中上述液壓循環(huán)地加入積存在上述容器中的上述顯影液。4.權(quán)利要求1至3的任一項(xiàng)中記述的抗蝕劑的顯影方法，其中上述液壓隨上述顯影液濃度的下降而升高。5.對(duì)刻蝕技術(shù)中的抗蝕劑進(jìn)行顯影的顯影裝置，具有積存顯影液的容器；把涂敷了抗蝕劑以及被照射了的顯影對(duì)象物引導(dǎo)到上述容器內(nèi)使其浸泡在上述顯影液中的導(dǎo)向裝置；把由上述顯影液產(chǎn)生的液壓加到浸泡在上述顯影液中的上述顯影對(duì)象物上的泵；調(diào)整上述顯影液液壓的閥門。6.權(quán)利要求5中記述的顯影裝置，其中上述顯影對(duì)象物是粘貼了金屬箔而且對(duì)應(yīng)電路圖形照射了上述抗蝕劑構(gòu)成的撓性薄膜，還具有進(jìn)行上述撓性薄膜的開卷的開卷筒和進(jìn)行上述撓性薄膜的卷繞的卷繞筒。權(quán)利要求1.刻蝕技術(shù)中抗蝕劑的顯影方法，包括把被涂敷了抗蝕劑以及被照射了的顯影對(duì)象物浸泡在容器內(nèi)所積存的顯影液中，同時(shí)，把由上述顯影液產(chǎn)生的液壓加到上述顯影對(duì)象物上的工序。2.權(quán)利要求1中記述的抗蝕劑的顯影方法，其中上述顯影對(duì)象物是粘貼了金屬簿而且對(duì)應(yīng)于電路圖形照射上述抗蝕劑構(gòu)成的撓性薄膜。3.權(quán)利要求2中記述的抗蝕劑的顯影方法，其中上述液壓循環(huán)地加入積存在上述容器中的上述顯影液。4.權(quán)利要求1至3的任一項(xiàng)中記述的抗蝕劑的顯影方法，其中根據(jù)上述顯影液的濃度調(diào)整上述液壓。5.權(quán)利要求4記述的抗蝕劑的顯影方法，其中上述液壓隨上述顯影液濃度的下降而升高。6.一種顯影裝置，在進(jìn)行圖刻蝕技術(shù)中的抗蝕劑的顯影的顯影裝置中，具有積存顯影液的容器；把被涂敷了抗蝕劑以及被照射的顯影對(duì)象物引導(dǎo)到上述容器內(nèi)使其浸泡在上述顯影液中的導(dǎo)向裝置；把由上述顯影液產(chǎn)生的液壓加到浸泡在上述顯影液中的上述顯影對(duì)象物上的泵。7.權(quán)利要求6中記述的顯影裝置，其中上述顯影對(duì)象物是粘貼了金屬簿而且對(duì)應(yīng)于電路圖形照射上述抗蝕劑構(gòu)成的撓性薄膜，還具有進(jìn)行上述撓性薄膜的開卷的開卷筒和進(jìn)行上述撓性薄膜的卷繞的卷繞筒。8.權(quán)利要求6或7中記述的顯影裝置，其中還具有調(diào)整上述顯影液的液壓的泵。全文摘要本發(fā)明的課題是提供提高刻蝕技術(shù)中抗蝕劑的顯影圖形的精度,避免操作的遲緩和煩雜的顯影方法以及顯影裝置。本發(fā)明的顯影裝置具有積存顯影液(22)的顯影容器(20),把被涂敷了光抗蝕劑和被曝光了的撓性薄膜(12)引導(dǎo)到顯影容器(20)內(nèi)使其浸泡在顯影液(22)中的導(dǎo)向裝置(14,16),從排放口(28a)把由顯影液(22)產(chǎn)生的液壓加到浸泡在顯影液(22)中的撓性薄膜(12)上的泵(26)。文檔編號(hào)G03F7/30GK1197518SQ97190887公開日1998年10月28日申請(qǐng)日期1997年7月3日優(yōu)先權(quán)日1996年7月11日發(fā)明者五味二夫申請(qǐng)人:精工愛普生株式會(huì)社