專利名稱：解決染印法空白膠片乳劑層潛在龜裂的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及膠片制造和加工過程，特別是解決染印法空白膠片乳劑層潛在龜裂的方法。
在現(xiàn)有技術(shù)染印法空白膠片加工過程中，膠片乳劑層因?yàn)辇斄讯憩F(xiàn)出一種“毛玻璃”現(xiàn)象，在電影行業(yè)中稱之為“磨砂”。磨砂現(xiàn)象嚴(yán)重嚴(yán)重降低了膠片的清晰度、透明度，并增加了影象顆粒。這種現(xiàn)象是膠片通過顯影加工之后才表現(xiàn)出來，同時(shí)借助于顯微鏡才能觀察到乳劑層龜裂，因此，稱之為潛在龜裂。大量具有潛在龜裂的膠片，造成大量的廢品或次品拷貝，經(jīng)濟(jì)損失極其嚴(yán)重。潛在龜裂現(xiàn)象在國(guó)外文獻(xiàn)中沒有發(fā)現(xiàn)，這也許是國(guó)外膠片生產(chǎn)所采用的原料比國(guó)內(nèi)精，以及工業(yè)水平比國(guó)內(nèi)高。但潛在龜裂現(xiàn)象在國(guó)內(nèi)的染印法空白膠片加工過程中存在了十幾年，卻一直未得到解決。潛在龜裂其實(shí)在染印法空白膠片生產(chǎn)過程中就存在了，只不過在染印法加工過程中才表現(xiàn)出來。總之，染印法空白膠片的潛在龜裂現(xiàn)象在我國(guó)已存在十幾年，但至今未找到解決的辦法，造成了極其嚴(yán)重的經(jīng)濟(jì)損失。
本發(fā)明的目的在于提供一種徹底解決染印法空白膠片的“磨砂”現(xiàn)象的方法，克服現(xiàn)有技術(shù)的缺陷。
本發(fā)明的目的是通過如下技術(shù)方案來達(dá)到的。在染印法膠片的加工過程中，顯影之后定影之前的處理液中加入SO2-4離子;或在膠片生產(chǎn)過程中的涂布之前的乳劑中加入帶有SO2-4離子的無機(jī)化合物。
根據(jù)實(shí)驗(yàn)，由于磨砂程度不一樣，加入SO2-4離子的量有所不同，但加入較多不會(huì)有壞的影響，只是提高了生產(chǎn)成本。實(shí)驗(yàn)中，停顯液中加入量的范圍在0.02N到0.14N濃度的SO2-4離子(相當(dāng)于3克到20克的工業(yè)純Na2SO4)，膠片制造過程中，涂布之前的乳劑中加入帶有SO2-4離子的無機(jī)化合物，例如每公斤乳劑中加入10克到100克Na2SO4(工業(yè)純)以下結(jié)合工業(yè)流程圖，說明本發(fā)明的實(shí)施方法供膠片→聲帶印片→涂漿顯影→小水洗→停顯→定影→…→拷貝收片空白膠片經(jīng)聲帶印片進(jìn)入涂漿顯影，再依次進(jìn)入小水洗、停顯、定影…到最終拷貝收片。在顯影和定影之間的處理液中加入微量的SO2-4離子，經(jīng)這樣加工處理后的膠片，既不會(huì)產(chǎn)生磨砂，也不影響膠片的染色性能，而且提高了膠片的清晰度和透明度，降低了影象的顆粒度。同時(shí)這種加工處理，不降低正常膠片的一切性能。
嚴(yán)格講，小水洗的水也應(yīng)該加入SO2-4離子，但是小水洗是高壓噴淋，膠片在其中停留的時(shí)間極短，小于0.3秒，所以它對(duì)膠片磨砂的產(chǎn)生影響不大。
如附圖
所示，A部分有龜裂，B部分無龜裂，A部分是未經(jīng)SO2-4離子處理，B部分是經(jīng)SO2-4離子處理，其含量為每升停顯液中加入8克工業(yè)純Na2SO4。
以下是本發(fā)明的幾個(gè)實(shí)施例第一個(gè)實(shí)施例在每升停顯液中加入3克工業(yè)純Na2SO4，其結(jié)果，這種膠片的潛在龜裂得以解決。
第二個(gè)實(shí)施例在每升停顯液中加入8克工業(yè)純Na2SO4，其結(jié)果如附圖所示。
第三個(gè)實(shí)施例在每升停顯液中加入20克工業(yè)純Na2SO4，其結(jié)果，這種膠片的潛在龜裂得到很好的解決。
第四個(gè)實(shí)施例在涂布之前每公斤乳劑中加入30克工業(yè)純的Na2SO4，其結(jié)果，這種膠片的潛在龜裂得到很好的解決。
由上述可知，本發(fā)明達(dá)到發(fā)明目的，克服了現(xiàn)在技術(shù)的缺陷。
本發(fā)明由于消除了染印法空白片加工過程中的潛在龜裂現(xiàn)象，無論對(duì)染印法空白膠片生產(chǎn)和加工都具有極大的經(jīng)濟(jì)效益。
權(quán)利要求
1.解決染印法空白膠片乳劑層潛在龜裂的方法，其特征在于膠片加工過程中，顯影之后、定影之前的處理液中加入SO2-4離子。
2.解決染印法空白膠片乳劑層潛在龜裂的方法，其特征在于膠片生產(chǎn)制造中，涂布前的乳劑中加入帶有SO2-4離子的無機(jī)化合物。
3.如權(quán)利要求1所述的解決染印法空白膠片乳劑層潛在龜裂的方法，其特征在于顯影之后，定影之前的處理液中，每升加入0.02N到0.14N的SO2-4離子。
4.如權(quán)利要求2所述的解決染印法空白膠片乳劑層潛在龜裂的方法，其特征在于在涂布前的每公斤乳劑中加入10克到100克Na2SO4。
全文摘要
本發(fā)明是關(guān)于解決染印法的膠片乳劑層潛在龜裂的方法，解決了十幾年來未解決的問題徹底解決了染印法空白膠片的“磨砂”現(xiàn)象，克服了現(xiàn)有技術(shù)的缺陷。
文檔編號(hào)G03C5/28GK1042248SQ8910265
公開日1990年5月16日 申請(qǐng)日期1989年5月4日 優(yōu)先權(quán)日1989年5月4日
發(fā)明者周光平 申請(qǐng)人:周光平