本申請涉及電子設(shè)備領(lǐng)域，尤其是指一種電子設(shè)備。

背景技術(shù)：

1、隨著電子設(shè)備的快速迭代發(fā)展，越來越多的電子設(shè)備設(shè)有攝像模組以實現(xiàn)圖像拍攝功能，且越來越多的電子設(shè)備設(shè)有補光模塊，在環(huán)境較為昏暗時(例如夜景拍攝時)開啟，為拍攝過程中補光，以提升成像質(zhì)量。

2、傳統(tǒng)的補光元件為閃光燈，在拍攝過程中瞬間閃爍照亮拍攝環(huán)境，達到補光的目的。但在使用時發(fā)現(xiàn)，開啟閃光燈實際上僅能照亮其前方較小的范圍，且無法保證夜景拍攝時明暗的平衡，有時僅能到達照亮拍攝物體基本容貌的水平，導致拍攝的整體畫面質(zhì)量較差。

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、本申請?zhí)峁┑碾娮釉O(shè)備，能在拍攝過程中適應性提供不同的補光方案，以提升拍攝得到的整體畫面質(zhì)量。

2、本申請?zhí)峁┑碾娮釉O(shè)備，其中，所述電子設(shè)備包括：

3、發(fā)光模塊，用于發(fā)出補光光線；

4、調(diào)光模塊，設(shè)于所述發(fā)光模塊的出光側(cè)，所述調(diào)光模塊包括控光單元，沿所述發(fā)光模塊的發(fā)光方向，所述發(fā)光模塊的投影與所述控光單元的投影至少部分重合，所述補光光線穿過所述控光單元；

5、所述控光單元具有第一電路連接狀態(tài)及第二電路連接狀態(tài)，在所述第一電路連接狀態(tài)，所述控光單元用于供所述補光光線準直穿過形成直射光，在所述第二電路連接狀態(tài)，所述控光單元用于對所述補光光線進行發(fā)散形成散射光。

6、如上所述的電子設(shè)備，其中，所述控光單元包括：

7、殼體，沿所述發(fā)光模塊的發(fā)光方向具有相對的第一壁與第二壁，所述第一壁與所述第二壁中的至少一個為電極板；

8、溶液，填充于所述殼體的內(nèi)部；

9、帶電染色分子，設(shè)于所述殼體的內(nèi)部并溶解于所述溶液中；

10、所述電極板用于通電以產(chǎn)生吸引或排斥所述帶電染色分子的電荷。

11、如上所述的電子設(shè)備，其中，所述帶電染色分子為聚集誘導淬滅染色分子；

12、所述第一電路連接狀態(tài)為通電狀態(tài)，所述帶電染色分子吸附聚集于所述電極板的表面上并至少部分產(chǎn)生熒光聚集誘導淬滅現(xiàn)象，所述補光光線準直穿過所述調(diào)光模塊形成直射光；

13、所述第二電路連接狀態(tài)為斷電狀態(tài)，所述帶電染色分子溶解于所述溶液中，所述補光光線照射所述帶電染色分子且所述帶電染色分子散發(fā)出熒光形成散射光。

14、如上所述的電子設(shè)備，其中，在通電狀態(tài)下，通電電壓為第一電壓時，全部所述帶電染色分子吸附聚集在所述電極板的表面上產(chǎn)生熒光聚集誘導淬滅現(xiàn)象不散發(fā)熒光；

15、所述通電電壓為第二電壓時，一半以上的所述帶電染色分子吸附聚集在所述電極板的表面上產(chǎn)生熒光聚集誘導淬滅現(xiàn)象，所述補光光線照射未聚集在所述電極板的所述帶電染色分子并發(fā)出第一紅色熒光；

16、所述通電電壓為第三電壓時，一半以下的所述帶電染色分子吸附聚集在所述電極板的表面上產(chǎn)生熒光聚集誘導淬滅現(xiàn)象，所述補光光線照射未聚集在所述電極板的所述帶電染色分子并發(fā)出第二紅色熒光；

17、在斷電狀態(tài)下，全部所述帶電染色分子溶解在所述溶液中，所述補光光線照射所述帶電染色分子并發(fā)出第三紅色熒光；

18、所述第一電壓大于所述第二電壓，所述第二電壓大于所述第三電壓；

19、所述第一紅色熒光的強度值小于所述第二紅色熒光的強度值，所述第二紅色熒光的強度值小于所述第三紅色熒光的強度值。

20、如上所述的電子設(shè)備，其中，所述帶電染色分子為聚集誘導發(fā)光染色分子；

21、所述第一電路連接狀態(tài)為斷電狀態(tài)，所述帶電染色分子溶解于所述溶液中，所述補光光線準穿過所述調(diào)光模塊形成直射光；

22、所述第二電路連接狀態(tài)為通電狀態(tài)，所述帶電染色分子吸附聚集于所述電極板的表面上并產(chǎn)生熒光聚集誘導發(fā)光現(xiàn)象，所述補光光線照射所述帶電染色分子且所述帶電染色分子散發(fā)出熒光形成。

23、如上所述的電子設(shè)備，其中，所述溶液為均化性溶劑，用于促進帶電染色分子均勻溶解擴散。

24、如上所述的電子設(shè)備，其中，所述溶液中溶有中和離子，所述中和離子所帶電荷與所述帶電染色分子所帶電荷極性相反；

25、所述第一壁為第一電極板，所述第二壁為第二電極板，在通電狀態(tài)下，所述第一電極板與所述第二電極板極性相反，所述第一電極板用于吸附所述帶電染色分子，所述第二電極板用于吸附所述中和離子。

26、如上所述的電子設(shè)備，其中，所述第一壁與所述發(fā)光模塊之間的距離小于所述第二壁與所述發(fā)光模塊之間的距離。

27、如上所述的電子設(shè)備，其中，所述控光單元還包括第一透明基板及第二透明基板，所述第一透明基板覆蓋連接于所述第一壁，所述第二透明基板覆蓋連接于所述第二壁，所述發(fā)光模塊連接于所述第一透明基板遠離所述第一壁的一側(cè)。

28、如上所述的電子設(shè)備，其中，所述發(fā)光模塊包括：

29、聚光元件，所述聚光元件朝向所述調(diào)光模塊的一側(cè)表面上凹設(shè)有導光槽，所述導光槽的槽口朝向所述調(diào)光模塊，且沿著由所述導光槽的槽底至所述導光槽的槽口的方向，所述導光槽呈漸擴狀，所述導光槽的槽壁形成第一反射面；

30、光源，設(shè)于所述導光槽的槽底；

31、反光元件，至少一部分插入由所述槽口插入至所述導光槽中，沿著由所述導光槽的槽底至所述導光槽的槽口的方向，所述反光元件呈漸擴狀，且所述反光元件朝向所述導光槽的一側(cè)表面形成第二反射面，所述第一反射面與所述第二反射面之間形成反射環(huán)空，所述反光元件與所述導光槽的槽口邊緣之間形成環(huán)形的出光口。

32、如上所述的電子設(shè)備，其中，所述第一反射面與所述第二反射面為光滑的弧面；

33、和/或，所述第一反射面與所述第二反射面上設(shè)有波紋狀或鋸齒狀的反射紋路。

34、如上所述的電子設(shè)備，其中，所述聚光元件與所述調(diào)光模塊之間以及所述反光元件與所述調(diào)光模塊之間為粘接固定。

35、本申請?zhí)峁┑碾娮釉O(shè)備，包括相對設(shè)置的發(fā)光模塊與調(diào)光模塊，發(fā)光模塊發(fā)出的補光光線能夠穿過調(diào)光模塊射出；通過在調(diào)光模塊中設(shè)置控光單元，并使控光單元具有第一電路連接狀態(tài)與第二電路連接狀態(tài)，在第一電路連接狀態(tài)下，調(diào)光模塊與發(fā)光模塊配合發(fā)出直射光，提供較為聚集且亮度較高的光線用于補光，在第二電路連接狀態(tài)下，調(diào)光模塊與發(fā)光模塊配合發(fā)出散射光，提供較為均勻且亮度較為柔和的光線用于補光，以適應不同拍攝環(huán)境中的補光需求，提供不同的補光方案，以提升拍攝得到的整體畫面質(zhì)量。

技術(shù)特征：

1.一種電子設(shè)備，其特征在于，所述電子設(shè)備包括：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子設(shè)備，其特征在于，所述控光單元包括：

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的電子設(shè)備，其特征在于，所述帶電染色分子為聚集誘導淬滅染色分子；

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的電子設(shè)備，其特征在于，在通電狀態(tài)下，通電電壓為第一電壓時，全部所述帶電染色分子吸附聚集在所述電極板的表面上產(chǎn)生熒光聚集誘導淬滅現(xiàn)象不散發(fā)熒光；

5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的電子設(shè)備，其特征在于，所述帶電染色分子為聚集誘導發(fā)光染色分子；

6.根據(jù)權(quán)利要求2至5任一項所述的電子設(shè)備，其特征在于，所述溶液為均化性溶劑，用于促進帶電染色分子均勻溶解擴散。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的電子設(shè)備，其特征在于，所述溶液中溶有中和離子，所述中和離子所帶電荷與所述帶電染色分子所帶電荷極性相反；

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的電子設(shè)備，其特征在于，所述第一壁與所述發(fā)光模塊之間的距離小于所述第二壁與所述發(fā)光模塊之間的距離。

9.根據(jù)權(quán)利要求2至5任一項所述的電子設(shè)備，其特征在于，所述控光單元還包括第一透明基板及第二透明基板，所述第一透明基板覆蓋連接于所述第一壁，所述第二透明基板覆蓋連接于所述第二壁，所述發(fā)光模塊連接于所述第一透明基板遠離所述第一壁的一側(cè)。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子設(shè)備，其特征在于，所述發(fā)光模塊包括：

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的電子設(shè)備，其特征在于，所述第一反射面與所述第二反射面為光滑的弧面；

12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的電子設(shè)備，其特征在于，所述聚光元件與所述調(diào)光模塊之間以及所述反光元件與所述調(diào)光模塊之間為粘接固定。

技術(shù)總結(jié)
本申請公開了一種電子設(shè)備。電子設(shè)備包括發(fā)光模塊，用于發(fā)出補光光線；調(diào)光模塊，設(shè)于所述發(fā)光模塊的出光側(cè)，所述調(diào)光模塊包括控光單元，沿所述發(fā)光模塊的發(fā)光方向，所述發(fā)光模塊的投影與所述控光單元的投影至少部分重合，所述補光光線穿過所述控光單元；所述控光單元具有第一電路連接狀態(tài)及第二電路連接狀態(tài)，在所述第一電路連接狀態(tài)，所述控光單元用于供所述補光光線準直穿過形成直射光，在所述第二電路連接狀態(tài)，所述控光單元用于對所述補光光線進行發(fā)散形成散射光。本申請?zhí)峁┑碾娮釉O(shè)備，能在拍攝過程中適應性提供不同的補光方案，以提升拍攝得到的整體畫面質(zhì)量。

技術(shù)研發(fā)人員：謝華飛
受保護的技術(shù)使用者：維沃移動通信有限公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2024/12/19