技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開了一種應(yīng)用于近場掃描光刻的高精度被動對準(zhǔn)的柔性臺，包括上端臺面、下端臺面、基底，上端臺面與下端臺面之間通過雙正交柔性鉸鏈連接，掩膜通過真空吸附腔吸附在下端臺面上，再放置在基底上。雙正交柔性鉸鏈包括兩個正交的正圓柔性鉸鏈。運行過程中，一定的法向壓力從掩膜版、基底接觸面上給出，經(jīng)部件內(nèi)的各個鉸鏈分散傳遞，從而使得固定于下端臺面的掩膜與下部的基底實現(xiàn)動態(tài)的、被動的緊密接觸，有效地提高了光刻裝置的對準(zhǔn)效率，由于不存在過多的光電傳感器，可在不損失對準(zhǔn)精度的條件下最快速的實現(xiàn)被動校準(zhǔn)。

技術(shù)研發(fā)人員：王亮;張亮;秦金;譚浩森;許凱
受保護(hù)的技術(shù)使用者：中國科學(xué)技術(shù)大學(xué)
技術(shù)研發(fā)日：2017.06.26
技術(shù)公布日：2017.08.29