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一種AMOLED液晶顯示屏的制備方法與流程

文檔序號(hào):11322611閱讀:710來源:國(guó)知局

本發(fā)明涉及amoled液晶顯示屏技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種amoled液晶顯示屏的制備方法。



背景技術(shù):

在現(xiàn)有技術(shù)中,液晶顯示屏包括常黑模式和常白模式兩種模式。對(duì)于常黑模式的液晶顯示屏,在顯示過程中,由于液晶分子在液晶盒內(nèi)呈傾斜排列,在不同方向看時(shí),會(huì)出現(xiàn)灰階反轉(zhuǎn)的問題,這樣會(huì)導(dǎo)致非選擇像素并非完全呈暗態(tài)狀態(tài),非選擇像素點(diǎn)也能有部分光透過,如此會(huì)影響液晶顯示屏的顯示對(duì)比度,特別是在戶外環(huán)境光線較強(qiáng)時(shí),對(duì)比度更低。為解決上述存在的出現(xiàn)灰階反轉(zhuǎn),影響對(duì)比度的問題,常采用的方式是降低非顯示像素處的透光度,提高顯示像素與非顯示像素的對(duì)比度及增加液晶顯示屏的可視角度,從而適用于戶外顯示。



技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

本發(fā)明旨在提供了一種amoled液晶顯示屏的制備方法。

本發(fā)明提供如下技術(shù)方案:

一種amoled液晶顯示屏的制備方法,包括以下步驟:

(1)選用玻璃基板,對(duì)玻璃基板表面做清洗處理;

(2)選用包含氧化鈷、氧化鉻、氧化錳及氧化鎳中至少一種的顆粒的黑色材料涂布于清洗后的玻璃基板上,再依次對(duì)涂布均勻的黑色材料進(jìn)行曝光、顯影和固化;

(3)將包含氧化錮錫的電極材料均勻鍍于已制備好黑色掩膜的上玻璃基板及下玻璃基板上,鍍膜完成后對(duì)異物予以清洗;

(4)在ito導(dǎo)電層上涂布一層感光膠,并依次進(jìn)行曝光、顯影、腐蝕處理,完成后再進(jìn)行去膠及清洗處理,將所述感光膠層去除掉;

(5)在上述步驟完成的上玻璃基板及下玻璃基板的內(nèi)側(cè)面印刷配向膜并進(jìn)行打磨,打磨完成后,再進(jìn)行絲印、對(duì)版以及固化,完成配向膜制備;

(6)制備液晶層,在制備好的液晶層表面安裝偏光片;

(7)檢測(cè)黑色掩膜是否殘留過剩,高溫碳化使兩層ito導(dǎo)電層電性連通,并檢測(cè)感光膠層、ito導(dǎo)電層是否涂布及制備均勻和偏光片是否安裝到位。

所述步驟(3)中黑色掩膜的電阻率為96-102ω·cm。

所述步驟(3)中黑色掩膜中含有氧化鈷、氧化鉻、氧化錳及氧化鎳中至少一種的顆粒。

所述步驟(6)中液晶層為包含具有介電各向異性的液晶合成物質(zhì)的液晶層。

與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明的有益效果是:本發(fā)明解決了兩氧化錮錫電極之間有毛刺及易短路的問題,又同時(shí)保證能阻擋非顯示像素處即氧化錮錫電極間隙出的光的透射,降低非顯示像素的透光率,提高顯示像素與非顯示像素的對(duì)比度,增加了液晶顯示屏的可視角度。

具體實(shí)施方式

下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例,對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例,而不是全部的實(shí)施例?;诒景l(fā)明中的實(shí)施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例,都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。

實(shí)施例一種amoled液晶顯示屏的制備方法,包括以下步驟:

(1)選用玻璃基板,對(duì)玻璃基板表面做清洗處理;

(2)選用包含氧化鈷、氧化鉻、氧化錳及氧化鎳中至少一種的顆粒的黑色材料涂布于清洗后的玻璃基板上,再依次對(duì)涂布均勻的黑色材料進(jìn)行曝光、顯影和固化;

(3)將包含氧化錮錫的電極材料均勻鍍于已制備好黑色掩膜的上玻璃基板及下玻璃基板上,鍍膜完成后對(duì)異物予以清洗;

(4)在ito導(dǎo)電層上涂布一層感光膠,并依次進(jìn)行曝光、顯影、腐蝕處理,完成后再進(jìn)行去膠及清洗處理,將所述感光膠層去除掉;

(5)在上述步驟完成的上玻璃基板及下玻璃基板的內(nèi)側(cè)面印刷配向膜并進(jìn)行打磨,打磨完成后,再進(jìn)行絲印、對(duì)版以及固化,完成配向膜制備;

(6)制備液晶層,在制備好的液晶層表面安裝偏光片;

(7)檢測(cè)黑色掩膜是否殘留過剩,高溫碳化使兩層ito導(dǎo)電層電性連通,并檢測(cè)感光膠層、ito導(dǎo)電層是否涂布及制備均勻和偏光片是否安裝到位。

所述步驟(3)中黑色掩膜的電阻率為96-102ω·cm。

所述步驟(3)中黑色掩膜中含有氧化鈷、氧化鉻、氧化錳及氧化鎳中至少一種的顆粒。

所述步驟(6)中液晶層為包含具有介電各向異性的液晶合成物質(zhì)的液晶層。

對(duì)于本領(lǐng)域技術(shù)人員而言,顯然本發(fā)明不限于所述示范性實(shí)施例的細(xì)節(jié),而且在不背離本發(fā)明的精神或基本特征的情況下,能夠以其他的具體形式實(shí)現(xiàn)本發(fā)明。因此,無論從哪一點(diǎn)來看,均應(yīng)將實(shí)施例看作是示范性的,而且是非限制性的,本發(fā)明的范圍由所附權(quán)利要求而不是所述說明限定,因此旨在將落在權(quán)利要求的等同要件的含義和范圍內(nèi)的所有變化囊括在本發(fā)明內(nèi)。此外,應(yīng)當(dāng)理解,雖然本說明書按照實(shí)施方式加以描述,但并非每個(gè)實(shí)施方式僅包含一個(gè)獨(dú)立的技術(shù)方案,說明書的這種敘述方式僅僅是為清楚起見,本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)將說明書作為一個(gè)整體,各實(shí)施例中的技術(shù)方案也可以經(jīng)適當(dāng)組合,形成本領(lǐng)域技術(shù)人員可以理解的其他實(shí)施方式。



技術(shù)特征:

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開了一種AMOLED液晶顯示屏的制備方法,選用玻璃基板,對(duì)玻璃基板表面做清洗處理;選用黑色材料涂布于清洗后的玻璃基板上,再依次對(duì)涂布均勻的黑色材料進(jìn)行曝光、顯影和固化;將包含氧化錮錫的電極材料均勻鍍于已制備好黑色掩膜的上玻璃基板及下玻璃基板上,鍍膜完成后對(duì)異物予以清洗;在ITO導(dǎo)電層上涂布一層感光膠,并依次進(jìn)行曝光、顯影、腐蝕處理,完成后再進(jìn)行去膠及清洗處理,將所述感光膠層去除掉;上玻璃基板及下玻璃基板的內(nèi)側(cè)面印刷配向膜并進(jìn)行打磨,再進(jìn)行絲印、對(duì)版以及固化,完成配向膜制備;在制備好的液晶層表面安裝偏光片;檢測(cè)黑色掩膜是否殘留過剩,并檢測(cè)感光膠層、ITO導(dǎo)電層是否涂布及制備均勻和偏光片是否安裝到位。

技術(shù)研發(fā)人員:白航空
受保護(hù)的技術(shù)使用者:合肥市惠科精密模具有限公司
技術(shù)研發(fā)日:2017.06.02
技術(shù)公布日:2017.10.13
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