本發(fā)明涉及光學(xué)儀器與光譜分析儀領(lǐng)域，具體是一種寬光譜高反光鏡，主要用來提高從紫外到紅外光線的光譜的反射率。

背景技術(shù)：

科研與實(shí)際生活中經(jīng)常使用分析儀器，在很多分析儀器中，如：分光光度計(jì)，是將成分復(fù)雜的光分解為光譜線的科學(xué)儀器，要求光源具有從真空紫外到紅外的光譜(160nm-3500nm)，由于儀器的結(jié)構(gòu)要求必須采用光柵分光與多個(gè)反光鏡組成的光路系統(tǒng)，如圖2所示。但目前所有的復(fù)制光柵與反光鏡的紫外線光都很弱，如圖3所示的反射光譜曲線，在200nm的反射率有60％。在圖2的光路系統(tǒng)中共有六個(gè)反光鏡，經(jīng)過六次反射后達(dá)到目標(biāo)的總能量為(0.6)⁶＝4.7％，這必然影響儀器的質(zhì)量。為此，必須提高反光鏡的反射率，以提高儀器的質(zhì)量。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的在于解決上述問題，提供一種寬光譜高反光鏡，可以提高反光鏡在190nm～1100nm波長光線的反射率，使其經(jīng)過多次反射后輸出綜合能量損失很小，進(jìn)而提高儀器的質(zhì)量。

為了達(dá)到上述目的，本發(fā)明是通過以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的：

本發(fā)明提供一種寬光譜高反光鏡，其特征在于：所述反光鏡包括由玻璃基片構(gòu)成的基板，在所述玻璃基板上設(shè)有反射層，所述反射層可以提高波長在190-1100nm之間光線的反射率。

進(jìn)一步地，所述反射層由五層材料膜組成。

進(jìn)一步地，所述五層材料膜的第二層材料膜與第四層材料膜的材質(zhì)相同。

進(jìn)一步地，所述材料膜通過物理鍍膜的方法鍍在玻璃基板上。

進(jìn)一步地，所述反射層的厚度小于玻璃基板的厚度。

進(jìn)一步地，所述材料膜為無機(jī)材料膜，由二氧化硅、三氧化二鋁、氟化鎂、氧化鎂、氧化鉿、金屬鋁或者兩種以上這些物質(zhì)的混合物構(gòu)成。

本發(fā)明的有益效果是：本發(fā)明是采用金屬與介質(zhì)膜組合，通過精心設(shè)計(jì)與特殊的制造工藝，鍍制的反光鏡其反射率從190nm～1100nm平均反射率大于88％，有意提高紫外與紅外的反射，并根據(jù)接收器的光譜光電效應(yīng)來調(diào)整反光鏡的反射光譜，使得光譜儀器的整個(gè)的輸出綜合能量達(dá)到平衡，提高儀器的質(zhì)量。圖4是根據(jù)用戶要求設(shè)計(jì)的反光鏡的反射光譜曲線，圖5是實(shí)際鍍制的反射光譜曲線。從圖4和圖5中可見在200nm處的反射率約為93％。經(jīng)過六次反射后達(dá)到目標(biāo)的總能量為(0.93)⁶＝64.7％。從圖3與圖5相比可看到能量提高很大，提高了儀器的質(zhì)量。

附圖說明

為了更清楚地說明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)性的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。

圖1為本發(fā)明反光鏡結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為現(xiàn)有的分光光度計(jì)的整體光路系統(tǒng)示意圖；

圖3為現(xiàn)有的反光鏡入射角為45°時(shí)的光譜反射曲線圖；

圖4為本發(fā)明反光鏡入射角為45°時(shí)的計(jì)算的光譜反射曲線圖；

圖5為本發(fā)明反光鏡入射角為45°時(shí)的實(shí)際光譜反射曲線圖。

圖1中：1-玻璃基板，2-第一材料膜，3-第二材料膜，4-第三材料膜，5-第四材料膜，6-第五材料膜。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖和實(shí)施例，對本發(fā)明的具體實(shí)施方式作進(jìn)一步描述。以下實(shí)施例僅用于更加清楚地說明本發(fā)明的技術(shù)方案，而不能以此來限制本發(fā)明的保護(hù)范圍。

如圖1所示，本發(fā)明提供一種寬光譜高反光鏡，其特征在于：所述反光鏡包括由玻璃基片構(gòu)成的基板1，在所述玻璃基板1上設(shè)有由五層材料膜2、3、4、5、6組成的反射層，其中第二層材料膜3與第四層材料膜5的材質(zhì)相同，所述材料膜通過物理鍍膜的方法鍍在玻璃基板1上，所述反射層可以提高波長在190-1100nm之間光線的反射率。

進(jìn)一步地，所述材料膜為無機(jī)材料膜，由二氧化硅、三氧化二鋁、氟化鎂、氧化鎂、氧化鉿、金屬鋁或者兩種以上這些物質(zhì)的混合物構(gòu)成。

本發(fā)明是采用金屬與介質(zhì)膜組合，通過精心設(shè)計(jì)與特殊的制造工藝，鍍制的反光鏡其反射率從190nm～1100nm平均反射率大于88％，有意提高紫外與紅外的反射，并根據(jù)接收器的光譜光電效應(yīng)來調(diào)整反光鏡的反射光譜，使得光譜儀器的整個(gè)的輸出綜合能量達(dá)到平衡，提高儀器的質(zhì)量。圖4是根據(jù)用戶要求設(shè)計(jì)的反光鏡的反射光譜曲線，圖5是實(shí)際鍍制的反射光譜曲線。從圖4和圖5中可見在200nm處的反射率約為93％。經(jīng)過六次反射后達(dá)到目標(biāo)的總能量為(0.93)⁶＝64.7％。從圖3與圖5相比可看到能量提高很大，提高了儀器的質(zhì)量。

以上所述僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例而已，并不用以限制本發(fā)明，凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi),所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。

技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開了一種寬光譜高反光鏡，其特征在于：所述反光鏡包括由玻璃基片構(gòu)成的基板，在所述玻璃基板上設(shè)有反射層，所述反射層可以提高波長在190?1100nm之間光線的反射率。本發(fā)明是采用金屬與介質(zhì)膜組合，通過精心設(shè)計(jì)與特殊的制造工藝，鍍制的反光鏡其反射率從190nm～1100nm平均反射率大于88％，有意提高紫外與紅外的反射，并根據(jù)接收器的光譜光電效應(yīng)來調(diào)整反光鏡的反射光譜，使得光譜儀器的整個(gè)的輸出綜合能量達(dá)到平衡，提高儀器的質(zhì)量。

技術(shù)研發(fā)人員：毛書正
受保護(hù)的技術(shù)使用者：上海默奧光學(xué)薄膜器件有限公司
技術(shù)研發(fā)日：2017.04.26
技術(shù)公布日：2017.08.25