本發(fā)明涉及顯示領(lǐng)域，特別涉及一種彩膜基板及其制造方法、顯示面板。

背景技術(shù)：

薄膜晶體管液晶顯示器(英文：Thin Film Transistor Liquid Crystal Display；簡(jiǎn)稱：TFT-LCD)包括顯示面板、背光源和驅(qū)動(dòng)電路板。顯示面板是由陣列基板和彩膜基板取向并對(duì)盒后，在中間加入液晶形成的。其中，取向的目的是使液晶能夠按照一定方向排列。并且，為了支撐陣列基板和彩膜基板不塌陷，在彩膜基板上還形成有隔墊物(英文：Photo Spacer；簡(jiǎn)稱：PS)層，該P(yáng)S層也稱為像素墻或隔離柱。

相關(guān)技術(shù)中，先在制造好的彩膜基板上形成PS層，然后在彩膜基板上沒有形成PS層的位置上進(jìn)行取向?qū)拥耐坎己湍Σ?英文：Rubbing)取向工藝。

但是，由于PS層的阻擋，彩膜基板上會(huì)存在摩擦不完整或者摩擦強(qiáng)度很小的區(qū)域，導(dǎo)致取向效果較差，液晶排列出現(xiàn)異常，影響顯示面板的顯示性能。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

為了解決相關(guān)技術(shù)中取向效果較差，液晶排列出現(xiàn)異常，影響顯示面板的顯示性能的問題，本發(fā)明實(shí)施例提供了一種彩膜基板及其制造方法、顯示面板。所述技術(shù)方案如下：

第一方面，提供了一種彩膜基板的制造方法，所述方法包括：

在襯底基板上形成色阻層；

在所述色阻層上形成取向膜；

在所述取向膜上形成隔墊物。

可選地，所述在所述取向膜上形成隔墊物，包括：

采用絲網(wǎng)印刷的方式在所述取向膜上形成隔墊物。

可選地，所述采用絲網(wǎng)印刷的方式在所述取向膜上形成隔墊物，包括：

在所述取向膜上設(shè)置掩膜版，所述掩膜版的一側(cè)貼合在所述取向膜上；

向所述掩膜版的鏤空區(qū)域中注入隔墊物材料，直至所述隔墊物材料注滿所述鏤空區(qū)域；

去除溢出所述鏤空區(qū)域的隔墊物材料；

去掉所述掩膜版。

可選地，所述在所述取向膜上形成隔墊物，包括：

采用轉(zhuǎn)印的方式在所述取向膜上形成隔墊物。

可選地，所述采用轉(zhuǎn)印的方式在所述取向膜上形成隔墊物，包括：

在基底上形成隔墊物；

將帶有隔墊物的基底扣置在所述取向膜上；

剝離所述基底。

可選地，所述在基底上形成隔墊物，包括：

在基底上采用納米壓印技術(shù)制造隔墊物。

可選地，所述在基底上采用納米壓印技術(shù)制造隔墊物，包括：

在所述基底上形成隔墊物材料層；

對(duì)所述隔墊物材料層進(jìn)行加熱，所述隔墊物材料層的加熱溫度大于所述隔墊物材料層的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度；

將壓制模具壓入所述隔墊物材料層，使得所述隔墊物材料層上形成隔墊物圖案；

對(duì)所述隔墊物材料層進(jìn)行降溫；

在所述隔墊物材料層的溫度低于所述玻璃化轉(zhuǎn)變溫度后，去除所述壓制模具；

去除形成有所述隔墊物圖案的隔墊物材料層上的低凹區(qū)域內(nèi)的隔墊物材料，以暴露出所述低凹區(qū)域下方的基底區(qū)域。

可選地，所述玻璃化轉(zhuǎn)變溫度為105攝氏度；

所述加熱溫度的溫度范圍為150攝氏度至230攝氏度。

第二方面，提供了一種彩膜基板，所述彩膜基板由第一方面所述的方法制造而成。

第三方面，提供了一種顯示面板，包括：第二方面所述的彩膜基板。

本發(fā)明實(shí)施例提供的技術(shù)方案帶來的有益效果是：

本發(fā)明實(shí)施例提供的彩膜基板及其制造方法、顯示面板，通過在形成隔墊物之前，將取向膜形成在色阻層上，使得在形成取向膜時(shí)，隔墊物不會(huì)對(duì)摩擦形成遮擋，相對(duì)于相關(guān)技術(shù)，避免了彩膜基板上摩擦不完整或者摩擦強(qiáng)度很小的區(qū)域的出現(xiàn)，保證了取向?qū)拥娜∠蛐Ч?，使得液晶能夠按照一定方向排列，從而保證了顯示面板的顯示性能。

附圖說明

為了更清楚地說明本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。

圖1是本發(fā)明實(shí)施例提供的一種彩膜基板的制造方法的流程圖；

圖2是本發(fā)明實(shí)施例提供的一種在襯底基板上形成色阻層后的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3是本發(fā)明實(shí)施例提供的一種在形成有色阻層的襯底基板上形成取向膜后的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖4-1是本發(fā)明實(shí)施例提供的一種采用絲網(wǎng)印刷的方式在取向膜上形成隔墊物的方法流程圖；

圖4-2為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種在取向膜上設(shè)置掩膜版后的俯視示意圖；

圖4-3為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種在形成有取向膜的襯底基板上形成隔墊物后的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖5-1是本發(fā)明實(shí)施例提供的一種采用轉(zhuǎn)印的方式在取向膜上形成隔墊物的方法流程圖；

圖5-2為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種在基底上采用納米壓印技術(shù)制造隔墊物的方法流程圖；

圖5-3為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種在基底上形成隔墊物材料層后的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖5-4為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種將壓制模具壓入隔墊物材料層后的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖5-5為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種去除隔墊物材料層上的壓制模具后的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖5-6為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種去除形成有隔墊物圖案的隔墊物材料層上的低凹區(qū)域內(nèi)的隔墊物材料，得到形成在基底上的隔墊物后的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖5-7為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種在基底上采用曝光顯影技術(shù)形成隔墊物的方法流程圖；

圖5-8為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種將帶有隔墊物的基底扣置在取向膜上之后的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖6-1是本發(fā)明實(shí)施例提供的一種顯示面板的制造方法的流程圖；

圖6-2是本發(fā)明實(shí)施例提供的一種陣列基板的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖6-3是本發(fā)明實(shí)施例提供的一種顯示面板的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

為使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，下面將結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明實(shí)施方式作進(jìn)一步地詳細(xì)描述。

隨著市場(chǎng)和客戶發(fā)展需求，市場(chǎng)對(duì)液晶顯示器的要求越來越高，為了提升和優(yōu)化其顯示效果，液晶顯示面板需要具有較高的盒間距，例如：盒間距≥15微米。但是，采用相關(guān)技術(shù)的制造方法制造該具有較高盒間距(即隔墊物具有較高的高度)的顯示面板時(shí)，由于隔墊物的遮擋，取向工藝的進(jìn)行會(huì)受到一定的影響，即彩膜基板上出現(xiàn)摩擦不完整或者摩擦強(qiáng)度很小的區(qū)域，導(dǎo)致取向效果較差，繼而使液晶排列出現(xiàn)異常，并且，對(duì)于扭曲向列(英文：Twist Nematic；簡(jiǎn)稱：TN)型的顯示面板，相關(guān)技術(shù)不能夠在取向膜上形成使液晶偏轉(zhuǎn)的預(yù)設(shè)傾角，最終影響顯示面板的顯示性能。本發(fā)明實(shí)施例提供的彩膜基板的制造方法，通過在形成隔墊物之前，將取向膜形成在色阻層上，使得在形成取向膜時(shí)，隔墊物不會(huì)對(duì)摩擦形成遮擋，因此，可以保證該方法適用于具有較高盒間距的顯示面板的生產(chǎn)，并且，對(duì)于TN型的顯示面板也能夠形成滿足條件的預(yù)設(shè)傾角，進(jìn)而保證了顯示面板的顯示性能。圖1是本發(fā)明實(shí)施例提供的一種彩膜基板的制造方法的流程圖，如圖1所示，該方法可以包括：

步驟101、在襯底基板上形成色阻層。

步驟102、在形成有色阻層的襯底基板上形成取向膜。

步驟103、在形成有取向膜的襯底基板上形成隔墊物。

綜上所述，本發(fā)明實(shí)施例提供的彩膜基板的制造方法，通過在形成隔墊物之前，將取向膜形成在色阻層上，使得在形成取向膜時(shí)，隔墊物不會(huì)對(duì)摩擦形成遮擋，相對(duì)于相關(guān)技術(shù)，避免了彩膜基板上摩擦不完整或者摩擦強(qiáng)度很小的區(qū)域的出現(xiàn)，保證了取向?qū)拥娜∠蛐Ч?，使得液晶能夠按照一定方向排列，從而保證了顯示面板的顯示性能。

進(jìn)一步地，在步驟101中，所述襯底基板可以為透明基板，其具體可以是采用玻璃、石英、透明樹脂等具有一定堅(jiān)固性的導(dǎo)光且非金屬材料制成的基板。所述色阻層用于形成彩色光線，該色阻層一般包括紅色濾光片、綠色濾光片和藍(lán)色濾光片。其中，紅色濾光片僅允許紅光通過，綠色濾光片僅允許綠光通過，藍(lán)色濾光片僅允許藍(lán)光通過。示例地，請(qǐng)參考圖2，其示出了在襯底基板001上形成色阻層002后的結(jié)構(gòu)示意圖。

實(shí)際應(yīng)用中，也可以通過其他方式形成彩色光線，本發(fā)明實(shí)施例對(duì)其不做具體限定。例如：可以使用散射介質(zhì)層形成彩色光線，該散射介質(zhì)層可以由量子點(diǎn)(英文：Quantum Dot；簡(jiǎn)稱：QD)材料制成。

需要說明的是，在襯底基板上形成色阻層之前還可以形成有黑矩陣。該黑矩陣能夠?qū)⒎窍袼貐^(qū)域覆蓋起來，從而起到防止光泄漏、提高顯示面板的顯示對(duì)比度，保證圖像顯示質(zhì)量的作用。

在步驟102中，在形成有色阻層的襯底基板上形成取向膜的過程可以包括：取向?qū)油坎己湍Σ寥∠蚬に嚒?/p>

示例地，請(qǐng)參考圖3，其示出了在形成有色阻層002的襯底基板001上形成取向膜003后的結(jié)構(gòu)示意圖。其中，取向膜003可以由聚酰亞胺(英文：Polyimide；簡(jiǎn)稱：PI)制成。

示例地，可以采用磁控濺射、熱蒸發(fā)或者等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積法(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition；簡(jiǎn)稱：PECVD)等方法在形成有色阻層的襯底基板上沉積一層具有一定厚度的聚酰亞胺材料，得到取向?qū)?。然后，使用取向輥在該取向?qū)由线M(jìn)行摩擦，在取向?qū)由闲纬删哂幸欢ǚ较蛐缘臏虾?，即得到取向膜。取向膜上溝痕的存在能夠使液晶按照一定方向排列。其中，取向膜的厚度的取值范圍可以根?jù)實(shí)際需要設(shè)置，本發(fā)明實(shí)施例對(duì)此不作限定。

在步驟103中，在形成有取向膜的襯底基板上形成隔墊物，可以有多種可實(shí)現(xiàn)方式，本發(fā)明實(shí)施例以以下三種為例進(jìn)行說明。

第一種可實(shí)現(xiàn)方式，采用絲網(wǎng)印刷的方式在取向膜上形成隔墊物。如圖4-1所示，該過程可以包括：

步驟1031a、在取向膜上設(shè)置掩膜版，掩膜版的一側(cè)貼合在取向膜上。

在取向膜003上設(shè)置掩膜版1后的俯視示意圖可以如圖4-2所示，其中，掩膜版1上包括有多個(gè)鏤空區(qū)域11，透過該鏤空區(qū)域11可以看見位于襯底基板上的取向膜003。

步驟1032a、向掩膜版的鏤空區(qū)域中注入隔墊物材料，直至隔墊物材料注滿鏤空區(qū)域。

可選地，該隔墊物材料可以為聚甲基丙烯酸甲酯(英文：polymethyl methacrylate；簡(jiǎn)稱：PMMA)或其他樹脂材料形成，此處不再贅述。

示例地，可以采用滴注或倒入等方式向掩膜版的鏤空區(qū)域中注入聚甲基丙烯酸甲酯或其他樹脂材料，直至隔墊物材料注滿鏤空區(qū)域。

步驟1033a、去除溢出鏤空區(qū)域的隔墊物材料。

可選地，在隔墊物材料注滿鏤空區(qū)域之后，可以使用刮刀將溢出鏤空區(qū)域的隔墊物材料去除，以保證形成的隔墊物形狀的完整性和準(zhǔn)確性。

步驟1034a、去掉掩膜版。

去掉掩膜版之后，就可得到形成的隔墊物。示例地，請(qǐng)參考圖4-3，其示出了在形成有取向膜003的襯底基板001上形成隔墊物004后的結(jié)構(gòu)示意圖。

需要說明的是，使用絲網(wǎng)印刷的方式在基底上制造隔墊物的方法，具有簡(jiǎn)單、易于實(shí)現(xiàn)和成本低的特點(diǎn)，因此，能夠?qū)⒃摲椒☉?yīng)用于生產(chǎn)線上隔墊物的大批量生產(chǎn)。

第二種可實(shí)現(xiàn)方式，采用轉(zhuǎn)印的方式在取向膜上形成隔墊物，如圖5-1所示，該過程可以包括：

步驟1031b、在基底上形成隔墊物。

可選地，在基底上形成隔墊物的一種可選實(shí)現(xiàn)方式可以為：在基底上采用納米壓印技術(shù)制造隔墊物。如圖5-2所示，該可實(shí)現(xiàn)方式具體可以包括：

步驟b11、在基底上形成隔墊物材料層。

可選地，請(qǐng)參考圖5-3，其示出了在基底201上形成隔墊物材料層0041后的結(jié)構(gòu)示意圖。其中，隔墊物材料層0041可以由聚甲基丙烯酸甲酯或其他樹脂材料形成，基底201可以為透明基板，其具體可以是采用玻璃、石英、透明樹脂等具有一定堅(jiān)固性的導(dǎo)光且非金屬材料制成的基底，此處不再贅述。

示例地，可以采用磁控濺射、熱蒸發(fā)或者PECVD等方法在基板上沉積一層具有一定厚度的聚甲基丙烯酸甲酯或其他樹脂材料，得到隔墊物材料層。該隔墊物材料層的厚度的取值范圍可以根據(jù)實(shí)際需要設(shè)置，本發(fā)明實(shí)施例對(duì)此不作限定。

步驟b12、對(duì)隔墊物材料層進(jìn)行加熱，隔墊物材料層的加熱溫度大于隔墊物材料層的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度。

對(duì)隔墊物進(jìn)行加熱，并使加熱溫度大于隔墊物材料層的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度，是為了使隔墊物材料的性狀在加熱溫度達(dá)到玻璃化轉(zhuǎn)變溫度后能夠發(fā)生改變，例如：由固態(tài)變?yōu)橐簯B(tài)，進(jìn)而能夠在后續(xù)過程中通過壓制改變其形狀，以實(shí)現(xiàn)有效的壓制。

可選地，隔墊物材料層的材料可以是聚甲基丙烯酸甲酯，聚甲基丙烯酸甲酯的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度為105攝氏度，示例地，對(duì)隔墊物材料層的加熱溫度的溫度范圍可以為150攝氏度至230攝氏度。

步驟b13、將壓制模具壓入隔墊物材料層，使得隔墊物材料層上形成隔墊物圖案。

可選地，在對(duì)隔墊物材料層加熱的過程中，可以將壓制模具壓入隔墊物材料層，使得隔墊物材料層上形成隔墊物圖案，也即是，使隔墊物材料層在壓制模具的壓制下形成與壓制模具的壓制圖案匹配的圖案。示例地，請(qǐng)參考圖5-4，其示出了將壓制模具3壓入隔墊物材料層0041后的結(jié)構(gòu)示意圖。其中，壓制模具3可以采用二氧化硅材料制成，使得在整個(gè)壓制過程中，壓制模具3不會(huì)與隔墊物材料層0041粘附。

需要說明的是，在隔墊物材料層上形成的隔墊物圖案與壓制模具上的壓制圖案互補(bǔ)。

步驟b14、對(duì)隔墊物材料層進(jìn)行降溫。

對(duì)隔墊物材料層進(jìn)行降溫，是為了使壓制形成的隔墊物圖案在降溫后能夠固化成型，以得到具有一定形狀的隔墊物圖案。

步驟b15、在隔墊物材料層的溫度低于玻璃化轉(zhuǎn)變溫度后，去除壓制模具。

示例地，請(qǐng)參考圖5-5，其示出了去除隔墊物材料層0041上的壓制模具3后的結(jié)構(gòu)示意圖，其中，形成有隔墊物圖案的隔墊物材料層0041上還包括有低凹區(qū)域內(nèi)的隔墊物材料0041a，該低凹區(qū)域內(nèi)的隔墊物材料0041a是在壓制過程中殘留在該低凹區(qū)域中的。

步驟b16、去除形成有隔墊物圖案的隔墊物材料層上的低凹區(qū)域內(nèi)的隔墊物材料，以暴露出基底上低凹區(qū)域下方的基底區(qū)域。

示例地，請(qǐng)參考圖5-6，其示出了去除形成有隔墊物圖案的隔墊物材料層上的低凹區(qū)域內(nèi)的隔墊物材料，得到形成在基底201上的隔墊物004后的結(jié)構(gòu)示意圖。

可選地，可以采用氧氣反應(yīng)型離子刻蝕的方法去除形成有隔墊物圖案的隔墊物材料層上的低凹區(qū)域內(nèi)的隔墊物材料，直至暴露出基底上的低凹區(qū)域下方的基底區(qū)域，以得到形成在基底上的隔墊物。

實(shí)際應(yīng)用中，在使用壓制模具進(jìn)行壓制時(shí)，隔墊物材料層上的低凹區(qū)域內(nèi)可能殘留有隔墊物材料，也可能沒有殘留隔墊物材料，當(dāng)?shù)桶紖^(qū)域內(nèi)殘留有隔墊物材料時(shí)，需要去除該低凹區(qū)域內(nèi)的隔墊物材料，當(dāng)?shù)桶紖^(qū)域內(nèi)沒有殘留隔墊物材料時(shí)，此時(shí)，低凹區(qū)域?qū)嶋H上為一鏤空區(qū)域，無需執(zhí)行隔墊物材料的去除動(dòng)作，即無需執(zhí)行步驟b16。

需要說明的是，使用納米壓印的方式在基底上制造隔墊物的方法，具有成本低和工藝簡(jiǎn)單、且制造出的隔墊物具有較高的精度的特點(diǎn)，因此，能夠?qū)⒃摲椒☉?yīng)用于生產(chǎn)線上隔墊物的大批量生產(chǎn)。

可選地，在基底上形成隔墊物的另一種可選實(shí)現(xiàn)方式可以為：在基底上采用曝光顯影技術(shù)制造隔墊物。如圖5-7所示，該可實(shí)現(xiàn)方式具體可以包括：

步驟b21、在基底上形成隔墊物材料層。

示例地，在基底上形成隔墊物材料層后的結(jié)構(gòu)示意圖可以參考圖5-3，其中該隔墊物材料層可以由聚甲基丙烯酸甲酯等感光材料制成，也即是，該隔墊物材料層可以由光刻膠制成。在基底上形成隔墊物材料層的過程可以相應(yīng)參考步驟b11的過程，此處不再贅述。

步驟b22、對(duì)隔墊物材料層進(jìn)行曝光和顯影以在基底上形成隔墊物。

例如，假設(shè)隔墊物材料層由正性光刻膠制成，可以對(duì)隔墊物層進(jìn)行曝光，能夠使隔墊物材料層形成完全曝光區(qū)和非曝光區(qū)，對(duì)曝光后的隔墊物材料層進(jìn)行顯影，可以使完全曝光區(qū)的光刻膠被完全去除，非曝光區(qū)的光刻膠全部保留，最終得到具有一定圖形的隔墊物。

示例地，對(duì)隔墊物材料層進(jìn)行曝光和顯影得到的隔墊物的結(jié)構(gòu)示意圖可以參考圖5-6。

需要說明的是，本發(fā)明實(shí)施例是以采用正性光刻膠形成隔墊物材料層為例進(jìn)行說明的，實(shí)際應(yīng)用中，還可以采用負(fù)性光刻膠形成隔墊物材料層，本發(fā)明實(shí)施例對(duì)此不做限定。

步驟1032b、將帶有隔墊物的基底扣置在取向膜上。

示例地，請(qǐng)參考圖5-8，其示出了將帶有隔墊物004的基底201扣置在取向膜003上之后的結(jié)構(gòu)示意圖。其中，扣置是指將隔墊物遠(yuǎn)離基底的一側(cè)貼附在取向膜遠(yuǎn)離襯底基板的一側(cè)上。

步驟1033b、剝離基底。

可選地，剝離基底即表示完成了在形成有取向膜的襯底基板上形成隔墊物的整個(gè)過程，示例地，請(qǐng)參考圖4-3，其示出了在形成有取向膜003的襯底基板001上形成隔墊物004后的結(jié)構(gòu)示意圖。

需要說明的是，本發(fā)明實(shí)施例提供的彩膜基板的制造方法步驟的先后順序可以進(jìn)行適當(dāng)調(diào)整，步驟也可以根據(jù)情況進(jìn)行相應(yīng)增減。任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本發(fā)明揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到變化的方法，都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)，因此不再贅述。

綜上所述，本發(fā)明實(shí)施例提供的彩膜基板的制造方法，通過在形成隔墊物之前，將取向膜形成在色阻層上，使得在形成取向膜時(shí)，隔墊物不會(huì)對(duì)摩擦形成遮擋，相對(duì)于相關(guān)技術(shù)，避免了彩膜基板上摩擦不完整或者摩擦強(qiáng)度很小的區(qū)域的出現(xiàn)，保證了取向?qū)拥娜∠蛐Ч?，使得液晶能夠按照一定方向排列，從而保證了顯示面板的顯示性能。

本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種彩膜基板，該彩膜基板由本發(fā)明的前述方法實(shí)施例所述的制造方法制造而成，其結(jié)構(gòu)示意圖可以參考請(qǐng)參考圖4-3，如圖4-3所示，該彩膜基板00可以包括：

襯底基板001。

在襯底基板001上設(shè)置有色阻層002。

在色阻層002上設(shè)置有取向膜003。

在取向膜003上設(shè)置有隔墊物004。

可選地，在襯底基板001和色阻層002之間還可以設(shè)置有黑矩陣。

綜上所述，本發(fā)明實(shí)施例提供的彩膜基板，通過在設(shè)置隔墊物之前，將取向膜設(shè)置在色阻層上，使得在形成取向膜時(shí)，隔墊物不會(huì)對(duì)摩擦形成遮擋，相對(duì)于相關(guān)技術(shù)，避免了彩膜基板上摩擦不完整或者摩擦強(qiáng)度很小的區(qū)域的出現(xiàn)，保證了取向?qū)拥娜∠蛐Ч?，使得液晶能夠按照一定方向排列，從而保證了顯示面板的顯示性能。

本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種顯示面板，其包括本發(fā)明實(shí)施例提供的任一彩膜基板。該顯示面板可以為：液晶面板、電子紙、手機(jī)、平板電腦、電視機(jī)、顯示器、筆記本電腦、數(shù)碼相框、導(dǎo)航儀等任何具有顯示功能的產(chǎn)品或部件的顯示面板。

綜上所述，本發(fā)明實(shí)施例提供的顯示面板，通過在設(shè)置隔墊物之前，將取向膜設(shè)置在彩膜基板的色阻層上，使得在形成取向膜時(shí)，隔墊物不會(huì)對(duì)摩擦形成遮擋，相對(duì)于相關(guān)技術(shù)，避免了彩膜基板上摩擦不完整或者摩擦強(qiáng)度很小的區(qū)域的出現(xiàn)，保證了取向?qū)拥娜∠蛐Ч?，使得液晶能夠按照一定方向排列，從而保證了顯示面板的顯示性能。

本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種顯示面板的制造方法，如圖6-1所示，該方法可以包括：

步驟601、制造彩膜基板。

可選地，制造彩膜基板的過程可以相應(yīng)參考步驟101至步驟103，此處不再贅述。

步驟602、制造陣列基板。

可選地，制造陣列基板的過程可以包括：在第一襯底基板上形成柵極圖形、在形成有柵極圖形的第一襯底基板上形成柵絕緣層、在形成有柵絕緣層的第一襯底基板上形成有源層、在形成有有源層的第一襯底基板上形成源漏極圖形、在形成有源漏極圖形的第一襯底基板上形成鈍化層和在形成有鈍化層的第一襯底基板上形成像素電極。

示例地，圖6-2為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種陣列基板01的結(jié)構(gòu)示意圖，其中，第一襯底基板011上依次形成有柵極圖形012、柵絕緣層013、有源層014、源漏極圖形015、鈍化層016和像素電極017，其中，柵極圖形012包括柵極，源漏極圖形015包括：源極0151和漏極0152。

需要說明的是，在形成有像素電極的襯底基板上還可以形成有取向膜。

步驟603、將陣列基板與彩膜基板對(duì)盒，并在陣列基板與彩膜基板之間填充液晶。

示例地，請(qǐng)參考圖6-3，其示出了將陣列基板01與彩膜基板00對(duì)盒，并在陣列基板01與彩膜基板00之間填充液晶02，形成顯示面板0后的結(jié)構(gòu)示意圖，在該顯示面板0中，陣列基板01和彩膜基板00形成有膜層的一側(cè)相對(duì)設(shè)置。

可選地，在陣列基板與彩膜基板之間填充液晶的方式可以為噴墨(英文：inkjet)等方式，本發(fā)明實(shí)施例對(duì)其不做具體限定。

需要說明的是，本發(fā)明實(shí)施例提供的顯示面板的制造方法步驟的先后順序可以進(jìn)行適當(dāng)調(diào)整，步驟也可以根據(jù)情況進(jìn)行相應(yīng)增減。任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本發(fā)明揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到變化的方法，都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)，因此不再贅述。

綜上所述，本發(fā)明實(shí)施例提供的顯示面板的制造方法，通過在設(shè)置隔墊物之前，將取向膜設(shè)置在彩膜基板的色阻層上，使得在形成取向膜時(shí)，隔墊物不會(huì)對(duì)摩擦形成遮擋，相對(duì)于相關(guān)技術(shù)，避免了彩膜基板上摩擦不完整或者摩擦強(qiáng)度很小的區(qū)域的出現(xiàn)，保證了取向?qū)拥娜∠蛐Ч沟靡壕軌虬凑找欢ǚ较蚺帕?，從而保證了顯示面板的顯示性能。

本領(lǐng)域普通技術(shù)人員可以理解實(shí)現(xiàn)上述實(shí)施例的全部或部分步驟可以通過硬件來完成，也可以通過程序來指令相關(guān)的硬件完成，所述的程序可以存儲(chǔ)于一種計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)中，上述提到的存儲(chǔ)介質(zhì)可以是只讀存儲(chǔ)器，磁盤或光盤等。

以上所述僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例，并不用以限制本發(fā)明，凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。