1.一種彩膜基板,其特征在于,包括基板(162)、多個(gè)反射部(163、163’)、黑矩陣(166)和色阻(167)，多個(gè)該反射部(163、163’)間隔設(shè)置在該基板(162)上，該反射部(163、163’)用于反射環(huán)境光，相鄰的該反射部(163、163’)之間設(shè)置多個(gè)開口區(qū)域(101)，該基板(162)從各該開口區(qū)域(101)中露出，該黑矩陣(166)設(shè)置在該反射部(163、163’)上，該色阻(167)填充在該開口區(qū)域(101)內(nèi)。
2.如權(quán)利要求1所述的彩膜基板,其特征在于,該反射部(163)凸出于該基板(162)的表面。
3.如權(quán)利要求1所述的彩膜基板,其特征在于,該反射部(163)包括凸塊(164)和反射層(165)，該凸塊(164)的一側(cè)連接在該基板(162)上，該凸塊(164)的另一側(cè)設(shè)有斜面(102)，該反射層(165)設(shè)置在該凸塊(164)的斜面(102)上，該黑矩陣(166)設(shè)置在該反射層(165)上。
4.如權(quán)利要求3所述的彩膜基板,其特征在于,該色阻(167)包括紅色阻、綠色阻和藍(lán)色阻，該紅色阻與該綠色阻之間、該綠色阻與該藍(lán)色阻之間、該紅色阻與該藍(lán)色阻之間由該凸塊(164)間隔。
5.如權(quán)利要求4所述的彩膜基板,其特征在于,該紅色阻與該綠色阻之間的該反射層(165)是從該綠色阻到該紅色阻的方向向著靠近該基板(162)向下傾斜；該綠色阻與該藍(lán)色阻之間的該反射層(165)是從該藍(lán)色阻到該綠色阻的方向向著靠近該基板(162)向下傾斜；該紅色阻與該藍(lán)色阻之間的該反射層(165)是從該紅色阻到該藍(lán)色阻的方向向著靠近該基板(162)向下傾斜。
6.如權(quán)利要求3所述的彩膜基板,其特征在于,該凸塊(164)的斜面(102)與該基板(162)的表面之間的角度大于0°，且小于或等于30°。
7.如權(quán)利要求3所述的彩膜基板,其特征在于,該凸塊(164)和該基板(162)由玻璃制成，該凸塊(164)與該基板(162)一體成型。
8.如權(quán)利要求3所述的彩膜基板,其特征在于,該反射層(165)由金屬制成。
9.一種彩膜基板制作方法，其特征在于，該彩膜基板制作方法的步驟包括:
提供基板(162)，在該基板(162)上形成反射環(huán)境光的反射部(163)，該反射部(163)具有呈矩陣排列的多個(gè)開口區(qū)域(101)；
在該基板(162)上涂布黑矩陣(166)，通過曝光和顯影，去除該開口區(qū)域(101)內(nèi)的該黑矩陣(166)，保留該反射部(163)上的該黑矩陣(166)；
在該基板(162)上涂布色阻(167)，通過曝光和顯影，去除該黑矩陣(166)上的該色阻(167)，保留該開口區(qū)域(101)內(nèi)的該色阻(167)；以及
在該基板(162)上沉積透明金屬層，以形成透明電極。
10.一種顯示裝置，其特征在于，包括陣列基板、如權(quán)利要求1至8任一項(xiàng)所述的彩膜基板及二者之間的液晶層。