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光學(xué)衰減器及其制造方法與流程

文檔序號(hào):11530280閱讀:來(lái)源:國(guó)知局

技術(shù)特征:

技術(shù)總結(jié)
一種光學(xué)衰減器和/或光學(xué)終止器(100?500),包括具有兩個(gè)區(qū)域的光學(xué)通道(101、401),所述兩個(gè)區(qū)域具有不同的光學(xué)性質(zhì),例如光學(xué)吸收性較小的未摻雜硅區(qū)域和光學(xué)吸收性較大的摻雜硅區(qū)域。也可使用其它材料。兩個(gè)區(qū)域之間的界面處的小平面(122?422、424)相對(duì)于通道(101、401)的縱向軸線(124)以非垂直角度定向。該角度可以配置成減少背向反射??稍诓煌瑢?duì)的區(qū)域之間包括多個(gè)小平面(122?422、424)。該裝置可進(jìn)一步包括彎曲段(610)和/或漸縮段(512、612)以進(jìn)一步便于衰減和/或光學(xué)終止。

技術(shù)研發(fā)人員:約瑟夫·盧克·帕特瑞克·杜麥思;德瑞坦·瑟婁
受保護(hù)的技術(shù)使用者:華為技術(shù)有限公司
技術(shù)研發(fā)日:2016.07.15
技術(shù)公布日:2017.08.18
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