技術(shù)總結(jié)
本實(shí)用新型公開(kāi)可見(jiàn)光與紅外光兩用的低焦平面偏移量光學(xué)成像系統(tǒng)。根據(jù)一實(shí)施例的光學(xué)成像系統(tǒng)由物側(cè)至像側(cè)依次包括具屈折力的第一至第四透鏡及第一和第二成像面。第一至第四透鏡中至少一枚具正屈折力。光學(xué)成像系統(tǒng)的焦距為f，入射光瞳直徑為HEP，最大可視角度的一半為HAF，第一與第二成像面間于光軸上的距離為FS；第一至第四透鏡于1/2HEP高度且平行于光軸的厚度分別為ETP1～ETP4，ETP1～ETP4的總和為SETP，第一至第四透鏡于光軸的厚度分別為TP1～TP4，TP1～TP4的總和為STP，滿足下列條件：1≦f/HEP≦10；0<HAF≦150deg；0.5≦SETP/STP<1及│FS│≦30μm。該光學(xué)成像系統(tǒng)具備更大的收光及更佳的光路調(diào)節(jié)能力以提升成像品質(zhì)。

技術(shù)研發(fā)人員：賴建勛;廖國(guó)裕;劉耀維;張永明
受保護(hù)的技術(shù)使用者：先進(jìn)光電科技股份有限公司
文檔號(hào)碼：201621199588
技術(shù)研發(fā)日：2016.11.07
技術(shù)公布日：2017.05.17