1.一種耦合裝置，用于物理地和光學地耦合光纖用以指定光信號的路徑，其包括：
基座，其具有限定在其上的結(jié)構(gòu)化反射表面以及光纖保持結(jié)構(gòu)，以使得光纖的端面位于沿光纖的軸線距結(jié)構(gòu)化反射表面預(yù)定的距離，其中，光纖的端面位于沿光纖的軸線距結(jié)構(gòu)化反射表面預(yù)定的距離，并且其中，所述光纖保持結(jié)構(gòu)相對于結(jié)構(gòu)化反射表面精確地對齊光纖，以使來自光纖的輸出光線能夠通過結(jié)構(gòu)化反射表面被反射至耦合裝置的外側(cè)，或者來自耦合裝置外側(cè)在結(jié)構(gòu)化反射表面入射的輸入光線能夠被反射朝向光纖。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的耦合裝置，其中，所述光纖保持結(jié)構(gòu)包括設(shè)置在基座上的凹槽，其中，所述凹槽相對于結(jié)構(gòu)化反射表面被對齊。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述耦合裝置，其中，所述凹槽包括肩部，其限定止動件，光纖的端面的一部分能夠抵靠所述止動件以限定光纖端面與結(jié)構(gòu)化反射表面之間的所述預(yù)定的距離。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的耦合裝置，其中，所述凹槽被精密地形成以相對于結(jié)構(gòu)化反射表面對齊光纖。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的耦合裝置，其中，所述凹槽是開放式凹槽。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的耦合裝置，其中，所述結(jié)構(gòu)化反射表面以及開放式凹槽通過沖壓可鍛材料形成。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的耦合裝置，其中，所述可鍛材料是金屬。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的耦合裝置，其中，所述結(jié)構(gòu)化反射表面是凹面。
9.一種發(fā)射器/接收器模塊，其包括：
如權(quán)利要求1所述的耦合裝置；
相對于結(jié)構(gòu)化反射表面支撐的至少一個光源和光線探測器，其中，所述光源產(chǎn)生將被結(jié)構(gòu)化反射表面反射的輸入光線，并且所述光探測器接收被結(jié)構(gòu)化反射表面反射的輸出光線。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的模塊，其中，所述光纖保持結(jié)構(gòu)包括設(shè)置在基座上的凹槽，其中，所述凹槽相對于結(jié)構(gòu)化反射表面被對齊。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的模塊，其中，所述凹槽包括肩部，其限定止動件，光纖的端面的一部分能夠抵靠所述止動件以限定光纖端面與結(jié)構(gòu)化反射表面之間的所述預(yù)定的距離。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的模塊，其中，所述凹槽被精密地形成以相對于結(jié)構(gòu)化反射表面對齊光纖。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的模塊，其中，所述凹槽是開放式凹槽。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的模塊，其中，結(jié)構(gòu)化反射表面以及開放式凹槽通過沖壓可鍛材料形成。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的模塊，其中，所述可鍛材料是金屬。
16.根據(jù)權(quán)利要求9所述的模塊，其中，所述結(jié)構(gòu)化反射表面是凹面。
17.根據(jù)權(quán)利要求9所述的模塊，其中，所述光源是發(fā)射器的一部分，并且所述光探測器是接收器的一部分。
18.一種主動式光纜，其包括：
具有至少一個光纖的光纖光纜；
如權(quán)利要求9所述的發(fā)射器模塊，其物理地以及光學地耦合至光纖的第一端面；以及
如權(quán)利要求9所述的接收器模塊，其物理地以及光學地耦合至光纖的第二端面。
19.一種制作權(quán)利要求1的耦合裝置的工藝，其包括：
沖壓基座以形成結(jié)構(gòu)化反射表面以及光纖保持結(jié)構(gòu)。
20.權(quán)利要求19的過程，其中，所述光纖保持結(jié)構(gòu)包括設(shè)置在基座上的凹槽，其中，凹槽相對于結(jié)構(gòu)化反射表面被對齊。