1.一種切趾光纖光柵刻寫系統(tǒng)，包括光學平臺(100)、準分子激光器(1)、反射鏡組(2)、光闌(3)、擴束柱透鏡組(4)、聚焦柱透鏡(5)、相位掩模板(6)和光纖夾持裝置(7)，所述反射鏡組(2)安裝在光學平臺(100)上用于調(diào)節(jié)準分子激光器(1)出射光束的位置和高度，所述光闌(3)、擴束柱透鏡組(4)、聚焦柱透鏡(5)、相位掩模板(6)和光纖夾持裝置(7)沿反射鏡組(2)反射的出射光束的射出方向依次布置在光學平臺(100)上，其特征在于：所述擴束柱透鏡組(4)和聚焦柱透鏡(5)之間設(shè)有切趾裝置(8)，所述切趾裝置(8)包括具有正模板(811)和負模板(812)的振幅掩模板(81)以及安裝于光學平臺(100)上的升降驅(qū)動組件，所述振幅掩模板(81)安裝于升降驅(qū)動組件的升降端；所述光纖夾持裝置(7)包括兩個光纖夾具(71)以及兩個安裝于光學平臺(100)上驅(qū)動兩個光纖夾具(71)繞與出射光束垂直的同一軸線旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)裝置(72)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的切趾光纖光柵刻寫系統(tǒng)，其特征在于：所述旋轉(zhuǎn)裝置(72)通過三維手動線位移平臺(73)安裝于光學平臺(100)上。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的切趾光纖光柵刻寫系統(tǒng)，其特征在于：所述升降驅(qū)動組件包括豎直線性位移平臺(82)，所述豎直線性位移平臺(82)的升降端設(shè)有載物臺(821)，所述振幅掩模板(81)裝設(shè)于載物臺(821)上。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的切趾光纖光柵刻寫系統(tǒng)，其特征在于：所述豎直線性位移平臺(82)通過一L型支架(83)安裝于光學平臺(100)上。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的切趾光纖光柵刻寫系統(tǒng)，其特征在于：所述反射鏡組(2)包括兩個針對248nm紫外激光高反的反射鏡，兩個反射鏡安裝在同一支柱上。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的切趾光纖光柵刻寫系統(tǒng)，其特征在于：所述旋轉(zhuǎn)裝置(72)為電動旋轉(zhuǎn)平臺。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的切趾光纖光柵刻寫系統(tǒng)，其特征在于：各電動旋轉(zhuǎn)平臺具有供光纖穿過的貫通孔，所述貫通孔沿電動旋轉(zhuǎn)平臺的旋轉(zhuǎn)軸線布置。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的切趾光纖光柵刻寫系統(tǒng)，其特征在于：所述相位掩模板(6)通過六維調(diào)節(jié)架安裝于光學平臺(100)上。
9.一種采用權(quán)利要求1所述刻寫系統(tǒng)刻寫切趾光纖光柵的方法，其特征在于：包括以下步驟：
(a)設(shè)置好準分子激光器(1)的重復頻率以及電壓；調(diào)節(jié)升降驅(qū)動組件，使振幅掩模板(81)的正模板(811)下沿正好位于出射光束上沿；
(b)截取合適長度的光纖，將待刻寫中間區(qū)域用化學剝除劑涂覆，再用酒精擦拭后將刻寫光纖夾持在光纖夾持裝置(7)的光纖夾具(71)上，將光纖與在線檢測系統(tǒng)相連；
(c)使用準分子激光器控制器控制激光器(1)開始輸出的同時啟動切趾裝置(8)，通過升降驅(qū)動組件使振幅掩模板(81)下降，直至振幅掩模板正模板(811)的上沿正好位于出射光束下沿，此時停止準分子激光器(1)輸出并停止振幅掩模板(81)的運動，在幅掩模板(81)下降的同時啟動旋轉(zhuǎn)裝置(72)旋轉(zhuǎn)光纖，在幅掩模板(81)下降的整個時間里面將光纖勻速地順時針旋轉(zhuǎn)180°，再逆時針旋轉(zhuǎn)180°，在準分子激光器(1)停止輸出激光的同時回到原點；然后降低相位掩模板高度，使光束移出柵區(qū)；
(d)補償時，先通過升降驅(qū)動組件使振幅掩模板的負模板(812)的下沿正好位于出射光束的上沿，使用準分子激光器控制器控制激光器(1)開始輸出的同時啟動切趾裝置(8)，通過升降驅(qū)動組件使振幅掩模板(81)下降，直至振幅掩模板負模板(812)的上沿正好位于出射光束下沿，此時停止準分子激光器(1)輸出并停止振幅掩模板(81)的運動，在幅掩模板(81)下降的同時啟動旋轉(zhuǎn)裝置(72)旋轉(zhuǎn)光纖，在幅掩模板(81)下降的整個時間里面將光纖勻速地順時針旋轉(zhuǎn)180°，再逆時針旋轉(zhuǎn)180°，在準分子激光器(1)停止輸出激光的同時回到原點。