技術(shù)特征：

1.一種六氟化硫氣體檢測用紅外濾光片，其特征在于：

(1)采用單晶Si作基板；硅雙面拋光，厚度300±10μm，晶向<100>；

(2)鍍膜材料選擇硫化鋅ZnS和鍺Ge，在基板兩個表面上分別沉積主膜系面薄膜和干涉截止膜系面薄膜；

(3)主膜系面薄膜結(jié)構(gòu)采用Sub/(HL) 6H(LH)L(HL) 4H(LH)L(HL) 6H(LH)L/Air；

(4)干涉截止膜系面薄膜采用：Sub/0.265(0.5HL0.5H)⁶ 0.378(0.5HL0.5H)⁶ 0.53(0.5HL0.5H)⁶ 0.738(0.5HL0.5H)⁶/Air；

膜系中符號含義分別為：Sub為基板，Air為空氣，H和L分別代表膜層Ge(高折射率材料層)和膜層ZnS(低折射率材料層)的一個1/4波長光學(xué)厚度，中心波長λ＝10560nm，1H＝(4n_Hd)/λ；1L＝(4n_L d)/λ，結(jié)構(gòu)式中數(shù)字為膜層的厚度系數(shù)、結(jié)構(gòu)式中的指數(shù)是膜堆鍍膜的周期數(shù)。

2.如權(quán)利要求1所述的一種六氟化硫氣體檢測用紅外濾光片，其特征在于：采用真空熱蒸發(fā)薄膜沉積的方法制備鍍膜層，Ge選用電子束蒸鍍，沉積速率為ZnS選用多孔鉬舟電熱蒸鍍，沉積速率為開始蒸鍍真空度為1.0×10^-3Pa，沉積溫度為130℃。

3.如權(quán)利要求2所述的一種六氟化硫氣體檢測用紅外濾光片，其特征在于：采用光學(xué)監(jiān)控法控制膜層厚度，并輔以石英晶控控制沉積速率。

4.如權(quán)利要求1所述的一種六氟化硫氣體檢測用紅外濾光片，其特征在于：所述紅外濾光片，主膜系采用多腔窄帶膜系結(jié)構(gòu)，配合高截止深度的干涉截止膜系，中心波長為10560nm，10420nm～10700nm波段平均透過率為91.86％，半高寬為370nm；除中心波長10560nm帶寬370nm的通帶外，從1000～13000nm范圍內(nèi)的其余光譜全部截止，1000～10250nm平均透射率為0.27％，10870～13000平均透射率為0.4％。