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曝光系統(tǒng)、曝光裝置及曝光方法與流程

文檔序號(hào):11458045閱讀:來源:國(guó)知局

技術(shù)特征:

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供了一種曝光系統(tǒng)、曝光裝置及曝光方法,其曝光系統(tǒng)包括:激光單元、光斑切換單元以及透鏡單元;所述激光單元發(fā)射激光束;所述光斑切換單元,根據(jù)需曝光的加工工件材質(zhì)對(duì)應(yīng)的光斑尺寸,使所述激光束在不同光路之間進(jìn)行切換,獲得對(duì)應(yīng)光斑尺寸的激光束;所述透鏡單元改變所述激光束的方向;通過光斑切換單元的設(shè)置,使得激光束在不同光路之間進(jìn)行切換,從而對(duì)光斑的尺寸范圍進(jìn)行切換,滿足了不同線寬工件對(duì)光斑尺寸的不同要求,提高了對(duì)不同工件的加工適應(yīng)性,有效的節(jié)約了成本。

技術(shù)研發(fā)人員:藍(lán)科;戈亞萍;陳勇輝
受保護(hù)的技術(shù)使用者:上海微電子裝備有限公司
技術(shù)研發(fā)日:2016.02.18
技術(shù)公布日:2017.08.25
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