本發(fā)明涉及一種光斑布局結(jié)構(gòu)、面形測(cè)量方法及曝光視場(chǎng)控制值計(jì)算方法，應(yīng)用于光刻技術(shù)領(lǐng)域。

背景技術(shù)：

投影光刻機(jī)是一種把掩模上的圖案通過投影物鏡投影到硅片表面的設(shè)備。在光刻機(jī)的曝光過程中，如果硅片相對(duì)于物鏡焦平面離焦或傾斜使曝光視場(chǎng)內(nèi)某些區(qū)域處于有效焦深之外，將嚴(yán)重影響光刻質(zhì)量，因此，需要采用調(diào)焦調(diào)平系統(tǒng)進(jìn)行精確控制。通常使用的調(diào)焦調(diào)平方法有兩種，一種是在曝光的同時(shí)，使用特定布局的測(cè)量光斑實(shí)時(shí)測(cè)量工件臺(tái)的高度和傾斜值，控制工件臺(tái)進(jìn)行調(diào)焦調(diào)平曝光；另一種是在曝光前，先通過多個(gè)光斑測(cè)量曝光視場(chǎng)中基板的面形，通過計(jì)算獲得曝光運(yùn)動(dòng)控制值，然后再進(jìn)行曝光操作。

采用第一種方法，特定布局的測(cè)量光斑往往是針對(duì)某一特定的光斑視場(chǎng)，不能適用于多種大小不同的曝光視場(chǎng)，而且在進(jìn)行邊緣曝光時(shí)，特定布局的測(cè)量光斑在邊緣曝光視場(chǎng)中會(huì)出現(xiàn)無效的現(xiàn)象，這種方法也不適合做面形掃描運(yùn)動(dòng)，效率較低。

第二種方法采用排成一條直線的光斑布局，通過位于直線兩端的光斑測(cè)量工件臺(tái)的高度，控制工件臺(tái)位于有效焦深范圍內(nèi)，通過中間的光斑掃描測(cè)量基板的面形，計(jì)算得到曝光控制值后進(jìn)行曝光，在測(cè)量邊緣視場(chǎng)時(shí)需要減速使兩端的測(cè)量光斑停在基板范圍內(nèi)，防止光斑超出基板而失效。這種方法掃描速度慢，耗時(shí)較長(zhǎng)，效率低。同時(shí)，這種方法無法進(jìn)行實(shí)時(shí)調(diào)焦調(diào)平。

在曝光控制中，由于光斑超出基板會(huì)失效，所以無法使用多個(gè)光斑直接控制邊緣視場(chǎng)曝光，一般采用參考場(chǎng)的方式，即用附近的內(nèi)部曝光視場(chǎng)控制值直 接代替邊緣視場(chǎng)的控制值。這種處理方法不適用于焦深較小，且邊緣面形與內(nèi)部面形相差較大的情況，如基板邊緣翹曲的情況，這種方法往往會(huì)在基板邊緣出現(xiàn)離焦，而不能被采用。

光刻機(jī)應(yīng)用在各種不同的場(chǎng)景中，需要使用不同的機(jī)型實(shí)現(xiàn)不同尺寸基板的曝光，曝光視場(chǎng)也會(huì)大小不同，因此，需要一種光斑布局結(jié)構(gòu)、面形測(cè)量方法及曝光視場(chǎng)控制值計(jì)算方法，可以滿足更多的光刻場(chǎng)景，而且能夠同時(shí)應(yīng)用于實(shí)時(shí)面形測(cè)量和掃描面形測(cè)量，使得其應(yīng)用的光斑測(cè)量裝置具有更好的通用性和適用性。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是提供一種提高掃描測(cè)量效率、適用于實(shí)時(shí)面形測(cè)量和掃描面形測(cè)量場(chǎng)景及多種不同大小曝光視場(chǎng)的光斑布局結(jié)構(gòu)、面形測(cè)量方法及曝光視場(chǎng)控制值計(jì)算方法。

為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采用如下技術(shù)方案予以實(shí)現(xiàn)：

一種光斑布局結(jié)構(gòu)，包括多個(gè)測(cè)量光斑，所述多個(gè)測(cè)量光斑至少構(gòu)成一組正交直線，所述正交直線上的測(cè)量光斑由中心向外發(fā)散布置，每條直線上的測(cè)量光斑數(shù)目至少為4個(gè)，所述測(cè)量光斑測(cè)量平面面形。

優(yōu)選的，所述測(cè)量光斑構(gòu)成/形、\形、十字形、米字形或者x字形，所述米字形由兩組正交直線交叉組合形成。

優(yōu)選的，所述測(cè)量光斑呈旋轉(zhuǎn)的十字形結(jié)構(gòu)排布。

優(yōu)選的，所述旋轉(zhuǎn)的十字形結(jié)構(gòu)由十字形逆時(shí)針旋轉(zhuǎn)18°～35°形成。

優(yōu)選的，所述測(cè)量光斑以相等距離從中心向外發(fā)散布局。

一種面形測(cè)量方法，采用所述的光斑布局結(jié)構(gòu)，包括：

步驟1，控制工件臺(tái)進(jìn)行曝光掃描運(yùn)動(dòng)，讀取所述光斑布局結(jié)構(gòu)中光斑的光斑讀數(shù)，獲得各個(gè)時(shí)刻各個(gè)光斑的高度值和水平位置；

步驟2，將各個(gè)所述光斑讀數(shù)轉(zhuǎn)換為工件臺(tái)坐標(biāo)系中的坐標(biāo)值，所述坐標(biāo)值為光斑掃描測(cè)量的原始面形數(shù)據(jù)。

優(yōu)選的，根據(jù)所述測(cè)量光斑的有效性，指定為有效光斑，所述光斑讀數(shù)選取于所述有效光斑。

優(yōu)選的，所述測(cè)量光斑有效性的設(shè)定方法采用硬件配置或軟件設(shè)定。

優(yōu)選的，步驟1中，所述掃描運(yùn)動(dòng)的路徑為保持所述工件臺(tái)高度和傾斜不變，采用柵格線方式、繞圈方式或交叉線方式。

優(yōu)選的，步驟2中，通過公式1和2將所述光斑讀數(shù)的水平位置轉(zhuǎn)換為工件臺(tái)坐標(biāo)系中的水平坐標(biāo)值，

公式1：x[n][i]＝xws[n]+xspot[i]；

公式2：y[n][i]＝y(tǒng)ws[n]+yspot[i]；

其中，xws[n]、yws[n]分別為第n時(shí)刻工件臺(tái)曝光視場(chǎng)的x向、y向水平位置，xspot[i]、yspot[i]分別為第i個(gè)光斑相對(duì)于曝光視場(chǎng)中心的x向、y向水平位置，x[n][i]、y[n][i]分別為第n時(shí)刻第i光斑在工件臺(tái)坐標(biāo)系的水平位置。

優(yōu)選的，步驟2中，通過公式3或4將所述光斑讀數(shù)的高度值轉(zhuǎn)換為工件臺(tái)坐標(biāo)系中的高度坐標(biāo)值，

如果步驟1中工件臺(tái)的傾斜值為零，轉(zhuǎn)換關(guān)系式為：

公式3：z[n][i]＝zws[n]+z[n]spot[i]；

如果步驟1中工件臺(tái)的傾斜值不為零，轉(zhuǎn)換關(guān)系式為：

公式4：z[n][i]＝zws[n]+z[n]spot[i]+rxws[n]×yspot[i]-ryws[n]×xspot[i]；

其中，zws[n]為第n時(shí)刻工件臺(tái)曝光視場(chǎng)的高度值，z【n】spot[i]為第n時(shí)刻第i個(gè)光斑測(cè)量高度值，rxws[n]、ryws[n]分別為第n時(shí)刻工件臺(tái)曝光視場(chǎng)的x向、y向傾斜值，xspot[i]、yspot[i]分別為第i個(gè)光斑相對(duì)于曝光視場(chǎng)中心的x向、y向水平位置，z[n][i]為第n時(shí)刻第i光斑在工件臺(tái)坐標(biāo)系的高度測(cè)量值。

一種曝光視場(chǎng)控制值計(jì)算方法，采用所述的面形測(cè)量方法獲得所述原始面形數(shù)據(jù)，通過如下步驟對(duì)所述原始面形數(shù)據(jù)進(jìn)行處理，獲得工件臺(tái)的曝光視場(chǎng)控制值，包括：

步驟1，使用數(shù)學(xué)擬合模型對(duì)所述原始面形數(shù)據(jù)進(jìn)行擬合，得到允許誤差范圍內(nèi)的密集點(diǎn)面形數(shù)據(jù)；

步驟2，根據(jù)設(shè)定的閾值，對(duì)密集點(diǎn)面形數(shù)據(jù)進(jìn)行平面擬合，如果曝光視場(chǎng)的有效密集點(diǎn)數(shù)量大于設(shè)定的閾值，直接使用所述密集點(diǎn)面形數(shù)據(jù)進(jìn)行平面擬合，如果曝光視場(chǎng)的有效密集點(diǎn)數(shù)量小于設(shè)定的閾值，通過向內(nèi)偏移曝光視場(chǎng)或擴(kuò)大附近選區(qū)，再使用數(shù)學(xué)擬合模型對(duì)所述原始面形數(shù)據(jù)進(jìn)行擬合，直到有效密集點(diǎn)數(shù)量達(dá)到設(shè)定的閾值，再使用所述密集點(diǎn)面形數(shù)據(jù)進(jìn)行平面擬合。

優(yōu)選的，在步驟1之前還包括：對(duì)所述原始面形數(shù)據(jù)進(jìn)行預(yù)處理，所述預(yù)處理包括過濾跳變點(diǎn)。

優(yōu)選的，步驟1中，所述數(shù)學(xué)擬合模型采用線性插值、多次曲面或澤爾尼克擬合模型。

優(yōu)選的，步驟2中，所述平面擬合的公式為：

z＝z0-ry×x+rx×y

其中，x，y，z為密集點(diǎn)面形數(shù)據(jù)，z0為曝光視場(chǎng)面形的高度值，rx為曝光視場(chǎng)面形的x向傾斜值，ry為曝光視場(chǎng)面形的y向傾斜值，z0、rx、ry經(jīng)過適當(dāng)轉(zhuǎn)換得到曝光視場(chǎng)的控制值。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明提供的技術(shù)方案采用至少包括一組正交直線的光斑布局結(jié)構(gòu)，既可以實(shí)時(shí)測(cè)量多個(gè)光斑讀數(shù)，通過平面擬合得到基板面形的高度值和傾斜值，通過設(shè)定所述光斑布局結(jié)構(gòu)中各個(gè)光斑的有效性，適用于多種大小不同的曝光視場(chǎng)，還可以通過工件臺(tái)的掃描運(yùn)動(dòng)，讀取有效光斑讀數(shù)，將各個(gè)光斑讀數(shù)轉(zhuǎn)換為工件臺(tái)坐標(biāo)系中的坐標(biāo)值，所述坐標(biāo)值為光斑掃描測(cè)量的原始面形數(shù)據(jù)，對(duì)所述原始面形數(shù)據(jù)進(jìn)行處理，獲得工件臺(tái)的曝光視場(chǎng)控制值，進(jìn)行調(diào)焦調(diào)平曝光，在對(duì)邊緣視場(chǎng)進(jìn)行掃描時(shí)，無須考慮光斑的有效性，運(yùn)動(dòng)速度可以進(jìn)一步提高，提高了掃描測(cè)量效率。因此，本發(fā)明的技術(shù)方案同時(shí)具有實(shí)時(shí)測(cè)量和掃描測(cè)量面形的功能，使得本技術(shù)方案具有更好的通用性和適用性。

附圖說明

圖1是本發(fā)明一實(shí)施例中所述米字形光斑布局的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2是本發(fā)明一實(shí)施例中所述米字形光斑布局的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3是本發(fā)明一實(shí)施例中所述面形測(cè)量方法的流程示意圖；

圖4是本發(fā)明一實(shí)施例中所述光斑測(cè)量系統(tǒng)測(cè)量面形數(shù)據(jù)的示意圖；

圖5是本發(fā)明一實(shí)施例中所述柵格線方式路徑的示意圖；

圖6是本發(fā)明一實(shí)施例中所述繞圈方式路徑的示意圖；

圖7是本發(fā)明一實(shí)施例中所述交叉線方式路徑的示意圖；

圖8是本發(fā)明一實(shí)施例中所述光斑測(cè)量系統(tǒng)原始面形數(shù)據(jù)的三維效果圖；

圖9是本發(fā)明一實(shí)施例中所述原始面形數(shù)據(jù)經(jīng)過處理的流程示意圖；

圖10是圖8中所述原始面形數(shù)據(jù)經(jīng)過處理后的三維效果圖；

圖11是本發(fā)明一實(shí)施例中所述標(biāo)準(zhǔn)十字形光斑布局的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖12是本發(fā)明一實(shí)施例中所述標(biāo)準(zhǔn)十字形光斑布局的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖13是本發(fā)明一實(shí)施例中所述x字形光斑布局的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖14是本發(fā)明一實(shí)施例中所述米x字形光斑布局的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖15是本發(fā)明一實(shí)施例中所述旋轉(zhuǎn)十字形光斑布局的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖16是本發(fā)明一實(shí)施例中所述旋轉(zhuǎn)十字形光斑布局的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖中所示：100、光斑；101、曝光視場(chǎng)；102、光斑投射器光照范圍；103、光斑路徑；111、第一曝光視場(chǎng)；112、第一曝光視場(chǎng)；113、第一曝光視場(chǎng)；200、基板；300、工件臺(tái)；400、光斑投射器。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明作詳細(xì)描述：

參照?qǐng)D1和圖4，本發(fā)明的光斑布局結(jié)構(gòu)，包括多個(gè)測(cè)量光斑，所述多個(gè)測(cè)量光斑至少構(gòu)成一組正交直線，所述正交直線上的測(cè)量光斑由中心向外發(fā)散布置，每條直線上的測(cè)量光斑數(shù)目至少為4個(gè)，所述測(cè)量光斑測(cè)量平面面形。作為一種具體的應(yīng)用，提出了一種光斑測(cè)量系統(tǒng)。

具體的，本發(fā)明光斑布局結(jié)構(gòu)應(yīng)用的光斑測(cè)量系統(tǒng)，包括光斑投射器400、光斑接收器及信號(hào)處理單元，所述光斑投射器400發(fā)射光束照射在基板200的曝光視場(chǎng)101中形成至少包括一組正交直線的中心向外發(fā)散式光斑布局結(jié)構(gòu)并發(fā)生反射，每個(gè)直線方向上的光斑100數(shù)量至少為4個(gè)，所述光斑接收器接收反射光束并產(chǎn)生電信號(hào)，所述信號(hào)處理單元處理所述電信號(hào)并獲得基板200面形的位置信息。

較佳的，所述光斑布局結(jié)構(gòu)中的光斑100可進(jìn)行有效性選擇。通過設(shè)定所述光斑布局結(jié)構(gòu)中光斑100的有效性來指定有效光斑。所述光斑100有效性的設(shè)定方法采用硬件配置或軟件設(shè)定。所述光斑布局結(jié)構(gòu)中的光斑100以相等距離從中心向外發(fā)散。

具體的，通過硬件的不同配置，所述光斑布局結(jié)構(gòu)可以采用米字形光斑布局(如圖1和圖2所示)、標(biāo)準(zhǔn)十字形光斑布局(如圖11和圖12所示)、x字形光斑布局(如圖13和圖14所示)或旋轉(zhuǎn)十字形光斑布局(如圖15和圖16所示)。即根據(jù)不同需要安裝相應(yīng)類形的光斑投射器400，適用于各種場(chǎng)景需求。需要說明的是，在圖1-2、圖5-8、圖10-16中，標(biāo)示出的長(zhǎng)度尺寸僅作為示意，不作為對(duì)結(jié)構(gòu)特征的具體限定。光斑投射器光照范圍102覆蓋所有的光斑100。

通過軟件設(shè)定，指定某些光斑100的光斑讀數(shù)為有效或無效，所述光斑布局結(jié)構(gòu)采用的米字形光斑布局可以轉(zhuǎn)換成標(biāo)準(zhǔn)十字形或x字形光斑布局。因此，所述米字形光斑布局具有很好的適用性。

優(yōu)選的，所述光斑布局結(jié)構(gòu)采用旋轉(zhuǎn)十字形，所述旋轉(zhuǎn)十字形的旋轉(zhuǎn)角度為18°～35°。

需要說明的是，上述幾種光斑布局結(jié)構(gòu)僅為本發(fā)明光斑布局結(jié)構(gòu)的幾種優(yōu)選實(shí)施方式，在此基礎(chǔ)上，經(jīng)過合理的變動(dòng)可以得到更多的實(shí)施方式，其亦在本發(fā)明的構(gòu)思范圍之內(nèi)。

較佳的，根據(jù)實(shí)際曝光視場(chǎng)101的尺寸大小，通過硬件配置或軟件指定有效光斑，改變所述光斑布局結(jié)構(gòu)中每個(gè)直線方向上測(cè)量光斑的數(shù)量，可以適用于多種大小不同的曝光視場(chǎng)101(如圖2、12、14和16中，包括第一曝光視場(chǎng)111、第二曝光視場(chǎng)112和第三曝光視場(chǎng)113)。

相應(yīng)的，本發(fā)明的面形測(cè)量方法，采用所述的光斑布局結(jié)構(gòu)，包括：步驟1：控制工件臺(tái)300進(jìn)行曝光掃描運(yùn)動(dòng)，讀取所述光斑布局結(jié)構(gòu)中有效光斑的光斑讀數(shù)，獲得各個(gè)時(shí)刻各個(gè)光斑100的高度值和水平位置；步驟2，將各個(gè)光斑讀數(shù)轉(zhuǎn)換為工件臺(tái)坐標(biāo)系中的坐標(biāo)值，所述坐標(biāo)值為光斑掃描測(cè)量的原始面形數(shù)據(jù)。

作為一種實(shí)施例，采用本方法可在曝光過程中進(jìn)行實(shí)時(shí)調(diào)焦調(diào)平。具體包括：在基板200的曝光視場(chǎng)101中形成至少包括一組正交直線的光斑布局結(jié)構(gòu)，實(shí)時(shí)讀取所述光斑布局結(jié)構(gòu)中有效光斑的光斑讀數(shù)，通過平面擬合得到基板200面形的高度值和傾斜值，根據(jù)所述高度值和傾斜值進(jìn)行調(diào)焦調(diào)平曝光。

作為一種實(shí)施例，采用本方法通過多個(gè)光斑100測(cè)量基板200的原始面形數(shù)據(jù)，再對(duì)原始面形數(shù)據(jù)進(jìn)行處理，獲得曝光運(yùn)動(dòng)控制值，然后再進(jìn)行調(diào)焦調(diào)平曝光。如圖3所示，包括：

步驟1，參照?qǐng)D4，在基板200的曝光視場(chǎng)101中形成至少包括一組正交直線的光斑布局結(jié)構(gòu)，保證工件臺(tái)300的高度和傾斜值不變，使工件臺(tái)300進(jìn)行掃描運(yùn)動(dòng)，讀取所述光斑布局結(jié)構(gòu)中光斑的光斑讀數(shù)，獲得各個(gè)時(shí)刻各個(gè)光斑100的高度值和水平位置；其中，所述掃描運(yùn)動(dòng)的路徑采用柵格線方式(參照?qǐng)D5所示)、繞圈方式(參照?qǐng)D6所示)、交叉線方式(參照?qǐng)D7所示)或其他方式，在基板200上形成光斑路徑103。所述柵格線方式為工件臺(tái)300以格柵線方向逐行向前行進(jìn)，至掃描完成基板200上所有的曝光視場(chǎng)101。所述繞線方式為工件臺(tái)300以繞圈方式向前行進(jìn)，至掃描完成基板200上所有的曝光視場(chǎng)101。所述交叉線方式為工件臺(tái)300按傾斜方向向前行進(jìn)，至掃描完成基板200上所有的曝光視場(chǎng)101。

其中，根據(jù)所述測(cè)量光斑100的有效性，指定為有效光斑，所述光斑讀數(shù)選取于所述有效光斑。所述光斑100有效性的設(shè)定方法采用硬件配置或軟件設(shè)定。

步驟2，將各個(gè)所述光斑讀數(shù)轉(zhuǎn)換為工件臺(tái)坐標(biāo)系中的坐標(biāo)值，所述坐標(biāo)值為光斑100掃描測(cè)量的原始面形數(shù)據(jù)。圖8所示為基板200的所述原始面形數(shù)據(jù)的三維效果圖。

通過公式1和2將所述光斑讀數(shù)的水平位置轉(zhuǎn)換為工件臺(tái)坐標(biāo)系中的水平坐標(biāo)值，

公式1：x[n][i]＝xws[n]+xspot[i]；

公式2：y[n][i]＝y(tǒng)ws[n]+yspot[i]；

其中，xws[n]、yws[n]分別為第n時(shí)刻工件臺(tái)曝光視場(chǎng)的x向、y向水平位置，xspot[i]、yspot[i]分別為第i個(gè)光斑相對(duì)于曝光視場(chǎng)中心的x向、y向水平位置，x[n][i]、y[n][i]分別為第n時(shí)刻第i光斑在工件臺(tái)坐標(biāo)系的水平位置。

通過公式3或4將所述光斑讀數(shù)的高度值轉(zhuǎn)換為工件臺(tái)坐標(biāo)系中的高度坐標(biāo)值，如果步驟1中工件臺(tái)300的傾斜值為零，轉(zhuǎn)換關(guān)系式為：

公式3：z[n][i]＝zws[n]+z[n]spot[i]；

如果步驟1中工件臺(tái)300的傾斜值不為零，轉(zhuǎn)換關(guān)系式為：

公式4：z[n][i]＝zws[n]+z[n]spot[i]+rxws[n]×yspot[i]-ryws[n]×xspot[i]；

其中，zws[n]為第n時(shí)刻工件臺(tái)曝光視場(chǎng)的高度值，z【n】spot[i]為第n時(shí)刻第i個(gè)光斑測(cè)量高度值，rxws[n]、ryws[n]分別為第n時(shí)刻工件臺(tái)曝光視場(chǎng)的x向、y向傾斜值，xspot[i]、yspot[i]分別為第i個(gè)光斑相對(duì)于曝光視場(chǎng)中心的x向、y向水平位置，z[n][i]為第n時(shí)刻第i光斑在工件臺(tái)坐標(biāo)系的高度測(cè)量值。

采用這種方法測(cè)量面形，不需要考慮光斑100讀數(shù)是否有效，可以從邊緣視場(chǎng)以外向內(nèi)進(jìn)行掃描測(cè)量，掃描速度可以更快，在邊緣視場(chǎng)附近掃描時(shí)速度不必減為零，測(cè)量效率更高，邊緣適應(yīng)性強(qiáng)。

步驟3，對(duì)所述原始面形數(shù)據(jù)進(jìn)行處理，獲得工件臺(tái)300的曝光視場(chǎng)101控制值，根據(jù)所述曝光視場(chǎng)101控制值進(jìn)行調(diào)焦調(diào)平曝光。

具體的，參照?qǐng)D9，通過如下方法對(duì)所述原始面形數(shù)據(jù)進(jìn)行處理，獲得工件臺(tái)300的曝光視場(chǎng)101控制值，包括：

1、對(duì)所述原始面形數(shù)據(jù)進(jìn)行預(yù)處理，所述預(yù)處理包括過濾跳變點(diǎn)等。

2、使用數(shù)學(xué)擬合模型對(duì)所述原始面形數(shù)據(jù)進(jìn)行擬合，得到允許誤差范圍內(nèi)的密集點(diǎn)面形數(shù)據(jù)；所謂允許誤差是指通過該方式獲得的面形，與實(shí)際密集采樣獲取的面形之間的偏差值在可以接受的范圍之內(nèi)。

其中，所述數(shù)學(xué)擬合模型采用線性插值、多次曲面或澤爾尼克擬合模型。

3、根據(jù)平面擬合設(shè)定的閾值，對(duì)密集點(diǎn)面形數(shù)據(jù)進(jìn)行平面擬合。如果曝光視場(chǎng)101的有效密集點(diǎn)數(shù)量大于設(shè)定的閾值，通常為內(nèi)部曝光視場(chǎng)或較靠近內(nèi)部的邊緣視場(chǎng)，直接使用所述密集點(diǎn)面形數(shù)據(jù)進(jìn)行平面擬合。如果曝光視場(chǎng)101的有效密集點(diǎn)數(shù)量小于設(shè)定的閾值，通常為邊緣視場(chǎng)，通過向內(nèi)偏移曝光視場(chǎng)或擴(kuò)大附近選區(qū)，再使用數(shù)學(xué)擬合模型對(duì)所述原始面形數(shù)據(jù)進(jìn)行擬合，直到有效密集點(diǎn)數(shù)量達(dá)到設(shè)定的閾值，再使用所述密集點(diǎn)面形數(shù)據(jù)進(jìn)行平面擬合。

所述平面擬合公式為：

z＝z0-ry×x+rx×y

其中，x，y，z為密集點(diǎn)面形數(shù)據(jù)，z0為曝光視場(chǎng)面形的高度值，rx為曝光視場(chǎng)面形的x向傾斜值，ry為曝光視場(chǎng)面形的y向傾斜值，z0、rx、ry經(jīng)過適當(dāng)轉(zhuǎn)換得到曝光視場(chǎng)的控制值。

圖10所示為所述原始面形數(shù)據(jù)經(jīng)過上述方法處理后的三維效果圖。

采用這種方法獲得工件臺(tái)300曝光視場(chǎng)101控制值，沒有直接使用原始面形數(shù)據(jù)，而是使用基于原始面形數(shù)據(jù)利用數(shù)學(xué)擬合模型產(chǎn)生的更精細(xì)的面形，可以有效減小由于空間采樣點(diǎn)分布不均勻?qū)е碌恼`差，使得計(jì)算控制值的偏差更小，同時(shí)使得面形掃描路徑的選擇更加自由，可以選擇更高效的掃描路徑。 解決了可用焦深有限的情況下或邊緣翹曲的情況下，邊緣視場(chǎng)曝光離焦問題，減小了曝光視場(chǎng)101內(nèi)的離焦量。增強(qiáng)了對(duì)基板200面形的適應(yīng)性，提高了曝光效果的一致性和穩(wěn)定性，改善工藝適應(yīng)性。

本發(fā)明提供的技術(shù)方案采用至少包括一組正交直線的光斑布局結(jié)構(gòu)，既可以實(shí)時(shí)測(cè)量多個(gè)光斑100讀數(shù)，通過平面擬合得到基板200面形的高度值和傾斜值，進(jìn)行實(shí)時(shí)調(diào)焦調(diào)平曝光，通過設(shè)定所述光斑布局結(jié)構(gòu)中各個(gè)光斑100的有效性，適用于多種大小不同的曝光視場(chǎng)101，還可以通過工件臺(tái)300的掃描運(yùn)動(dòng)，讀取有效光斑讀數(shù)，將各個(gè)光斑讀數(shù)轉(zhuǎn)換為工件臺(tái)坐標(biāo)系中的坐標(biāo)值，所述坐標(biāo)值為光斑100掃描測(cè)量的原始面形數(shù)據(jù)，對(duì)所述原始面形數(shù)據(jù)進(jìn)行處理，獲得工件臺(tái)300的曝光視場(chǎng)101控制值，進(jìn)行調(diào)焦調(diào)平曝光，在對(duì)邊緣視場(chǎng)進(jìn)行掃描時(shí)，無須考慮光斑100的有效性，運(yùn)動(dòng)速度可以進(jìn)一步提高，提高了掃描測(cè)量效率。因此，本發(fā)明的技術(shù)方案同時(shí)具有實(shí)時(shí)測(cè)量和掃描測(cè)量面形的功能，使得本發(fā)明技術(shù)方案具有更好的通用性和適用性。