本發(fā)明涉及液體材料滴下裝置及方法，詳細而言，涉及可進行能變更滴下點間的距離的多點同時涂布的液體材料滴下裝置及方法。

背景技術(shù)：

在液晶面板的制造步驟中，作為形成液晶層的方法之一，具有被稱為滴下注入法(ODF)的方法。該方法為在貼合前將液晶材料定量滴下至進行貼合的2片基板的一者之后，在真空中進行貼合的方法。

液晶材料的朝基板71的滴下采用以下的方式進行，即、將多個液晶材料的小滴(液滴72)配置成矩陣狀，以使液晶材料收納于用于攔阻液晶材料而形成為矩形框狀的密封材料73的框內(nèi)(參照圖7)?；旧贤ㄟ^一臺滴下裝置各一滴地滴下，但為了提高處理速度，也可同時滴下多個液滴。例如，作為利用一臺裝置同時進行多個滴吐出的吐出裝置，具有如下的裝置。

專利文獻1公開一種噴注式分配器，其具有可連結(jié)于液體材料源的分配器主體，分配器主體具備流體通道、與流體通道連通的流體通道出口、及設于流體通道出口附近的閥座，且具有可選擇性地接觸于閥座而可活動地設于流體通道內(nèi)的閥構(gòu)件，且具有閥驅(qū)動裝置，其能使閥構(gòu)件動作地結(jié)合，選擇性地使閥構(gòu)件移動而可使閥構(gòu)件接觸或脫離閥座，且具有與通道出口相鄰而結(jié)合于分配器主體的噴出噴嘴，噴出噴嘴具有噴嘴主體、及設于噴嘴主體且與流體通道出口連通的多個噴嘴出口，當閥構(gòu)件與閥座接觸時，對流體通道出口內(nèi)的液體材料提供能充分使多個液滴自多個噴嘴出口同時且迅速地噴出的運動量。

專利文獻2公開一種線型噴頭，其特征在于具有多個噴頭單元，噴頭單元排列有多個朝紙張吐出墨水的噴嘴，且在該多個噴頭單元形成一體化的線型噴頭中，各噴頭單元中的至少一部分的噴嘴具有相對于紙張的法線方向的傾斜，且該傾斜為朝向使自該噴嘴吐出的墨水降落于與鄰接的噴頭單元的邊界附近的方向。

現(xiàn)有技術(shù)文獻

專利文獻

專利文獻1：日本專利特開2007-167844號公報

專利文獻2：日本專利特開2003-25565號公報

技術(shù)實現(xiàn)要素：

發(fā)明所要解決的問題

現(xiàn)有技術(shù)中，在使用具有多個噴嘴的滴下裝置進行多滴的同時涂布的情況下，為了變更滴下點間的距離或涂布圖案形狀，需要交換配置有噴嘴的噴嘴部本身，但對噴嘴部本身進行交換是困難的。另一方面，若不交換噴嘴部本身而進行滴下涂布，會有對質(zhì)量產(chǎn)生很大的影響的情況。尤其是，在呈矩陣狀地涂布液晶滴以使液晶材料收納于用于攔阻液晶材料而形成為矩形框狀的密封材料的框內(nèi)的情況下，若滴下點間的距離或圖案形狀不能容易進行改變，當密封材料的框的大小有變化時，則無法適宜地保持密封材料與液晶滴的距離，在貼合時可能會有對液晶的擴散產(chǎn)生不均的問題。

如專利文獻2，若采用使噴嘴本身的形狀變形的結(jié)構(gòu)，則在各噴嘴間吐出條件相異，恐有對于量及位置無法進行高精度的涂布的問題。

因此，本發(fā)明的目的在于提供一種液體材料滴下裝置及方法，在進行多點同時涂布時，能容易變更滴下點間的距離。

解決問題的技術(shù)手段

涉及滴下裝置的本發(fā)明，其特征在于：具備計量液體材料的計量部、往返移動于計量部內(nèi)的柱塞、具備多個具有吐出口的噴嘴的噴嘴部、朝計量部供給液體材料的供給流路、以及對計量部與噴嘴部及計量部與供給流路的連通進行切換的切換閥，在上述噴嘴部，以使一個噴嘴與鄰接的噴嘴的間隔均相同的方式配置上述噴嘴，并以使一個噴嘴與垂直線構(gòu)成的角度θ均相同的方式傾斜配置上述噴嘴。

上述滴下裝置中，其特征也可為：上述噴嘴包含n²(n為2以上的自然數(shù))個的噴嘴，此外，其特征也可為：在上述噴嘴部，以使上述噴嘴的吐出口相對于上述噴嘴部的鉛垂方向中心朝向外側(cè)的方式，配置上述噴嘴，或者，在上述噴嘴部，以使上述噴嘴的吐出口相對于上述噴嘴部的鉛垂方向中心朝向內(nèi)側(cè)的方式，配置上述噴嘴。

上述滴下裝置中，其特征也可為：上述噴嘴部具備噴嘴塊，該噴嘴塊形成有一個流入流路、及連通流入流路與上述吐出口的分歧流路，在該噴嘴塊安裝上述噴嘴。

涉及涂布裝置的本發(fā)明，其特征在于：具備：上述滴下裝置；工件臺，其載置有基板；XYZ驅(qū)動裝置，其使上述滴下裝置與工件臺相對地移動；及控制部，其具有存儲裝置。

在上述涂布裝置中，其特征也可為：具備多個上述滴下裝置，一個滴下裝置的噴嘴數(shù)、噴嘴的間隔或噴嘴的角度θ，與其他滴下裝置的噴嘴的間隔或噴嘴的角度θ不同，或者，其特征也可為，具備多個上述滴下裝置，全部的滴下裝置的噴嘴數(shù)、噴嘴的間隔及噴嘴的角度θ相同。

涉及滴下方法的本發(fā)明，使用上述涂布裝置的滴下方法，其特征在于：基于輸入值調(diào)節(jié)上述工件臺與上述滴下裝置的垂直距離，由此對自上述噴嘴吐出的液滴的滴下點間距離(L1、L2)進行調(diào)節(jié)，在將上述工件臺與上述滴下裝置的垂直距離保持一定的狀態(tài)下，一邊使上述滴下裝置與上述工件臺在水平方向相對移動，一邊將液體材料滴下至工件。

上述滴下方法中，其特征也可為：在上述控制部的存儲裝置存儲有多個上述工件臺及上述滴下裝置的垂直距離與液滴的滴下點間距離(L1、L2)的相關(guān)關(guān)系模型，上述輸入值為上述相關(guān)關(guān)系模型的選擇值。

自其他的觀點的滴下方法的本發(fā)明，為使用涂布裝置的滴下方法，該涂布裝置的特征在于：具備多個上述滴下裝置，全部的滴下裝置的噴嘴數(shù)、噴嘴的間隔及噴嘴的角度θ相同，該滴下方法的特征在于：利用上述多個滴下裝置的所有滴下裝置進行相同的滴下涂布，由此進行多重涂布。在此，其特征也可為：上述工件為液晶面板基板，上述液體材料為液晶。

發(fā)明效果

根據(jù)本發(fā)明，在進行多點同時涂布時，可容易變更滴下點間的距離。

附圖說明

圖1為第1實施方式的滴下裝置的概略側(cè)視圖。

圖2(a)為在第1實施方式的滴下裝置中使用的噴嘴部的仰視圖，(b)為沿A-A線所作的剖面圖，及(c)為沿B-B線所作的剖面圖。

圖3為說明使用第1實施方式的滴下裝置進行滴下時的滴下高度與滴下點間距離的關(guān)系的說明圖。(a)為顯示滴下高度Ha時的俯視圖，(b)為顯示滴下高度Hb時的俯視圖，及(c)為顯示滴下高度Hc時的俯視圖。

圖4為第1實施方式的涂布裝置的概略立體圖。

圖5(a)為第2實施方式的噴嘴部的仰視圖，(b)為沿C-C線所作的剖面圖，及(c)為沿D-D線所作的剖面圖。

圖6(a)為第3實施方式的噴嘴部的仰視圖，及(b)為沿E-E線所作的剖面圖。

圖7為說明于液晶面板的制造步驟中將液體滴下至基板時的狀態(tài)的說明圖。

具體實施方式

以下，對用以實施本發(fā)明的形態(tài)例進行說明。

《第1實施方式》

第1實施方式的滴下裝置1具備自噴嘴部6的鉛垂方向中心等間隔配置的4個噴嘴4，且通過調(diào)節(jié)噴嘴4與基板46的距離，可調(diào)節(jié)降落于基板46的4個滴下點的距離。該滴下裝置1安裝于具有XYZ驅(qū)動裝置(52、53、54)的涂布裝置51，其一邊相對于載置有涂布對象物的工件臺進行相對移動一邊進行涂布作業(yè)。

以下，對滴下裝置1及涂布裝置51的結(jié)構(gòu)及動作進行詳細說明。

<滴下裝置>

圖1為顯示第1實施方式的滴下裝置1的概略側(cè)視圖。

第1實施方式的滴下裝置1為柱塞式滴下裝置，其具備：管狀的計量部2；柱塞3，其內(nèi)接于計量部2；噴嘴部6，其具有多個噴嘴4；切換閥7，其切換計量部2與噴嘴部6、及計量部2與供給流路15的連通；及側(cè)視L字形的主體9，其內(nèi)置有柱塞驅(qū)動裝置。

計量部2在內(nèi)部具有圓柱狀的空間即計量孔，柱塞3能滑動自如地插入計量孔。

柱塞3為在端部具有大徑部8的棒狀構(gòu)件，與大徑部8相反側(cè)的端部朝計量部2內(nèi)插入。柱塞3通過柱塞驅(qū)動構(gòu)件10把持大徑部8的附近，且通過使柱塞驅(qū)動構(gòu)件10移動的柱塞驅(qū)動裝置而可朝符號11方向移動。通過使柱塞3密接滑動于計量部2的內(nèi)壁，可朝計量部2內(nèi)吸入液體19，或自計量部2推出液體19。

切換閥7具備與供給流路15連通的流路A12、與計量部2連通的流路B13、及與噴嘴部6連通的流路C14，且可選擇性地對連通供給流路15與計量部2的第一位置、或連通計量部2與噴嘴部6的第二位置進行切換。其中，切換閥7既可作為旋轉(zhuǎn)閥而構(gòu)成，也可作為滑閥而構(gòu)成。再者，優(yōu)選地，流路B13及流路C14配置為與柱塞移動方向(符號11)為相同方向。這是為了在吐出時無浪費地向液體19傳遞柱塞3所產(chǎn)生的力。

供給流路15為與用以供給貯存于容器17的液體19的液體配管18連通的流路，且內(nèi)設于延伸構(gòu)件16。延伸構(gòu)件16固設于主體9，以使供給流路15與流路A12氣密性地連通。在供給流路15與液體配管18之間設置有氣泡除去機構(gòu)20。作為氣泡除去機構(gòu)20，例如，可使用具有連通于液體材料供給部側(cè)的第1流路、連通于計量部側(cè)的第2流路、及連通第1流路與第2流路且寬度較第1流路寬的主體，且第1流路的排出口配置于較第2流路的吸入口上方的位置的機構(gòu)(參照申請人的專利第4898778號)。再者，也可不設置氣泡除去機構(gòu)20。

在貯存液體19的容器17連接有供給用以壓送液體19的工作氣體的工作氣體供給配管23。

主體9安裝于基座板25，在該基座板25的上部安裝有固定容器17的容器支撐構(gòu)件24?；?5安裝于用以與后述的XYZ驅(qū)動裝置(52、53、54)或固定支架等連接的連接構(gòu)件26。

<噴嘴部>

在圖2，分別顯示第1實施方式的滴下裝置中使用的噴嘴部6的仰視圖，暨沿A-A線所作的剖面圖及沿B-B線所作的剖面圖。

第1實施方式的噴嘴部6具備剖面為五邊形的噴嘴塊27、及配置于噴嘴塊27的下表面即噴嘴連接面28的4個噴嘴4而構(gòu)成。該噴嘴部6可裝卸自如地裝設于主體9的下表面。

以下為方便說明，稱4個噴嘴4為噴嘴A～D(34～37)，稱4個噴嘴的吐出口5為吐出口A～D(38～41)。

在噴嘴塊27的內(nèi)部形成有與滴下裝置1的流路C14連通的流入流路29、及自流入流路29朝噴嘴A～D(34～37)分歧的分歧流路A～D(30～33)。

噴嘴塊27的斜面即下表面被劃分成4個區(qū)塊，分別在一個區(qū)塊內(nèi)安裝一個噴嘴4(符號34～37)。第1實施方式中，如圖2所示，通過使4個相同大小的方形平面以下面的中心為頂點的配置，形成噴嘴連接面28。也即，自底面觀察時，噴嘴塊27為正方形。噴嘴塊27的下表面的區(qū)塊數(shù)，不限于例示的區(qū)塊數(shù)，例如可設定2～16等任意的多個區(qū)塊，但優(yōu)選為，區(qū)塊數(shù)的數(shù)量為n²(n為2以上的自然數(shù))。優(yōu)選為，噴嘴塊27的下表面的區(qū)塊數(shù)與噴嘴4的數(shù)量設定為相同。

安裝于斜面的各噴嘴4，以自底面觀察時構(gòu)成為正方形的方式等間隔地配置。也即，噴嘴A34、噴嘴B35、噴嘴C36及噴嘴D37配置為矩陣狀。無論選擇哪個噴嘴4，一個噴嘴4與相鄰的其他噴嘴4的間隔均相同。

此外，各噴嘴4具有一個吐出口，吐出口中心軸43以相對于噴嘴連接面28成為垂直的方式安裝。第1實施方式中，噴嘴連接面28的各面相對于噴嘴塊27的垂直軸42分別傾斜既定的角度，因此吐出口A～D(38～41)分別相對于噴嘴塊27的鉛垂方向中心朝向外側(cè)。噴嘴連接面28的各面的傾斜角度為均等。也即，圖2所示的θa、θb、θc、θd設為全部相同(θa＝θb＝θc＝θd)。換言的，一個噴嘴4與垂直線構(gòu)成的角度θ(例如為5～60度)，無論選擇哪一個噴嘴4均相同。

此外，吐出口A～D(38～41)配置為朝向噴嘴塊27的各個角。也即，配置為使吐出口A～D(38～41)位于底面28的對角線上(參照圖2(c))。由此，連結(jié)自吐出口A～D(38～41)吐出的4個液滴45而形成的四邊形，成為與噴嘴塊27的噴嘴A～D(34～37)的配置為相似形狀的四邊形。優(yōu)選地，分歧流路A～D(30～33)形成為與噴嘴A～D(34～37)的各中心軸(吐出口中心軸43)同軸，以使液體19的吐出能圓滑地進行。

<吐出動作>

對以上說明的滴下裝置1的吐出動作，概述如下。

(1)準備(初期填充工序)

首先，在不將柱塞3插入計量部2內(nèi)的狀態(tài)下，將液體19填充至計量部2的上端。然后將柱塞3插入計量部2內(nèi)，且固定于柱塞驅(qū)動構(gòu)件10。接著，通過切換閥7連通計量部2與噴嘴部6，使柱塞3自吐出口5朝噴嘴部6的方向(進入方向)移動至吐出液體19為止。

(2)吐出工序

通過切換閥7連通計量部2與噴嘴部6，且使柱塞3朝進入方向高速移動，由此自4個吐出口5飛射吐出相同量的液體19。

(3)吸引工序

通過切換閥7連通供給流路15與計量部2，使柱塞3朝與進入方向相反的方向(后退方向)移動，將液體19朝計量部2內(nèi)吸引。

通過反復地進行上述(2)及(3)的步驟，而可進行連續(xù)定量吐出的涂布作業(yè)。再者，上述(2)及(3)的步驟，無論哪一者先開始都可以。

<滴下點間距離的調(diào)節(jié)>

圖3為顯示說明使用第1實施方式的滴下裝置1進行滴下時的噴嘴部6的高度(H)與滴下點間距離(L)的關(guān)系的說明圖。圖3中，上側(cè)的圖顯示自側(cè)面觀察時的圖，下側(cè)的圖顯示自上面觀察基板46時的俯視圖。再者，圖3僅對噴嘴部6簡略描述。

自噴嘴4的吐出口5排出的液滴45，由于噴嘴4傾斜既定的角度，因此一邊描繪拋物線狀的飛翔軌跡44，一邊到達涂布面即基板46。由于離噴嘴部6的中心等間隔配置的4個噴嘴4呈放射狀均等地傾斜，因此涂布于基板46的液滴45成為配置于正方形的角部的矩形圖案。也即，如圖3下側(cè)所示，縱向的滴下點距離(L1)與橫向的滴下點距離(L2)相同(L1＝L2)。

此外，由于噴嘴4傾斜既定的角度而描繪拋物線狀的飛翔軌跡44，因此通過改變噴嘴部6(吐出口5)與基板46之間的距離(換言之，噴嘴部6的高度(H))，即可改變縱向及橫向的滴下點間距離(L1、L2)。

在此，以描繪于中央的(b)為基準。(b)的情況中，在自基板46至吐出口5的距離為Hb時，縱向的滴下點距離為L1b，橫向的滴下點距離為L2b。若如(a)那樣降低噴嘴部6，由于液滴45在呈拋物線狀擴展之前到達基板46，因此與(b)的情況比較，滴下點間距離變短(La<Lb)。

另一方面，若如(c)那樣升高噴嘴部6，液滴45在呈拋物線狀擴展之后到達基板46，因此與(b)的情況比較，滴下點間距離變長(Lc>Lb)。

如此，由于各噴嘴4傾斜既定的角度，因此只要改變噴嘴部6的高度(H)，即可改變縱向及橫向的滴下點間距離(L1、L2)。

與噴嘴4的傾斜(θ)、噴嘴部6的高度(H)、以及縱向及橫向的滴下點間距離(L1、L2)的關(guān)系，可根據(jù)預先的實驗制作成表或曲線圖，且預先存儲于控制部(未圖示)的存儲裝置。根據(jù)這種結(jié)構(gòu)，可基于顯示于顯示設備(未圖示)的表或曲線圖，通過變更設定即可容易實現(xiàn)希望的縱向及橫向的滴下點間距離(L1、L2)。根據(jù)發(fā)明者的實驗，例如將噴嘴4傾斜10度時，若自高度15mm進行吐出，則滴下點間距離(L1、L2)各為7.5mm，若自高度10mm進行吐出，則滴下點間距離(L1、L2)各為6.5mm，若自高度20mm進行吐出，則滴下點間距離(L1、L2)各為8.5mm。

<涂布裝置>

在圖4顯示具備第1實施方式的滴下裝置1的涂布裝置51的概略立體圖。

實施方式的涂布裝置51主要包括：Z軸驅(qū)動裝置54，其可使滴下裝置1朝上下方向(符號57)移動；X軸驅(qū)動裝置52，其安裝有Z軸驅(qū)動裝置54，可朝左右方向(符號55)移動；Y軸驅(qū)動裝置53，其可使設置有X軸驅(qū)動裝置52的梁61朝前后方向(符號56)移動；工件臺58，其載置基板46；架臺63，其配置有上述各驅(qū)動裝置(52、53、54)及工件臺58；及未圖示的控制部。該涂布裝置51可實施以下的滴下方法：通過使控制部基于用戶的輸入值，對工件臺58與滴下裝置1的垂直距離進行調(diào)節(jié)，而調(diào)節(jié)自各噴嘴4吐出的液滴的滴下點間距離(L1、L2)，將工件臺58與滴下裝置1的垂直距離保持為一定后，一邊使滴下裝置1及工件臺58在水平方向相對移動一邊滴下液體材料。其中，滴下至工件上的滴下點，由m1列×m2行的行列所設定，且優(yōu)選為，將m1及m2的任一者均設定為噴嘴數(shù)n的倍數(shù)(自然數(shù))。

在X軸驅(qū)動裝置52設置有夾隔其的X軸滑塊59，可使Z軸驅(qū)動裝置54及滴下裝置1移動。并且，在Y軸驅(qū)動裝置53的內(nèi)側(cè)分別設置有Y滑塊60，在其上設置有X軸驅(qū)動裝置52的梁61被支撐于梁支撐構(gòu)件62上而移動。通過如上述那樣構(gòu)成XYZ驅(qū)動裝置，可使滴下裝置1相對于基板46相對地移動。本發(fā)明中優(yōu)選為采用以下的機構(gòu)作為XYZ驅(qū)動裝置，即，通過調(diào)節(jié)垂直方向(Z方向)的吐出口位置，對滴下點間距離(L1、L2)進行調(diào)節(jié)，因而可高精度地進行Z方向的定位。作為此種XYZ驅(qū)動裝置，可使用滾珠螺桿與馬達的組合機構(gòu)、使用線性馬達的機構(gòu)，利用皮帶或煉條等傳達動力的機構(gòu)等。

再者，本實施方式中，將驅(qū)動裝置作為所謂高架型而構(gòu)成，但只要為能使滴下裝置1與基板46(工件臺58)相對移動，則可為任何的結(jié)構(gòu)。例如，也可為在工件臺58的下部設置X軸驅(qū)動裝置52及Y軸驅(qū)動裝置53而構(gòu)成。

第1實施方式中，例示了設置4臺滴下裝置1的結(jié)構(gòu)，但設置臺數(shù)不限于這些，也可為1臺，也可為2臺、3臺等的多臺。

在設置多臺的滴下裝置1的結(jié)構(gòu)中，具有設定為全部相同種類的滴下裝置1的情況、及組合不同種類的滴下裝置1的情況。在設置多臺相同的滴下裝置1的情況，可對應于在基板46內(nèi)制作多個面板的所謂多重涂布。在組合不同種類的滴下裝置1的情況(例如，在設置按每個滴下裝置1改變噴嘴4的傾斜角度等的噴嘴部6的情況)，與一種類的滴下裝置1比較，可更多種多樣地調(diào)整滴下點間距離(L1、L2)。

根據(jù)以上說明的第1實施方式的涂布裝置51，在進行數(shù)十個以上的多點同時涂布時，可容易變更滴下點間的距離(L1、L2)。尤其是在滴下注入法(ODF)中，涂布裝置51通過適宜地保持用于攔阻液晶材料而形成為矩形框狀的密封材料與液晶滴的距離，而可使液晶的擴散始終保持均勻。

《第2實施方式》

圖5分別顯示第2實施方式的滴下裝置1中使用的噴嘴部6的仰視圖、沿C-C線所作的剖面圖及沿D-D線所作的剖面圖。以下的說明中，對與第1實施方式相同的部分(噴嘴部6以外的部分)，省略說明，只對不同的部分進行說明。

第2實施方式的噴嘴部6以使4個噴嘴(34～37)的各吐出口(38～41)朝向內(nèi)側(cè)(噴嘴部6的中心側(cè))的方式配置各噴嘴，在此點上，與第1實施方式相異。

第2實施方式中，構(gòu)成噴嘴連接面28的4個平面，以使噴嘴部6的中心在仰視時成為最里面部的方式，相對于噴嘴塊27的垂直軸42傾斜既定的角度。也即，從底面觀察時的噴嘴A～D(34～37)的吐出口A～D(38～41)成為分別朝向噴嘴塊27的垂直軸42。

在噴嘴塊27的內(nèi)部形成有與滴下裝置1的流路C14連通的流入流路29、及自流入流路29朝噴嘴A～D(34～37)分歧的分歧流路A～D(30～33)的點，與第1實施方式相同。然而，于分歧流路A～D(30～33)在途中被彎曲形成的點，與第1實施方式相異。也即，分歧流路A～D(30～33)在與流入流路29連通的上游部分朝自垂直軸42放射的方向形成有流路，且在與噴嘴A～D(34～37)連通的下游部分形成有與噴嘴A～D(34～37)的吐出口中心軸43同軸的流路，上游部分及下游部分經(jīng)由彎曲部而連接。

第2實施方式中，也通過調(diào)節(jié)噴嘴與基板的距離，而可調(diào)節(jié)降落于基板的4個滴下點的距離(L1、L2)。由于第2實施方式將4個噴嘴(34～37)的各吐出口(38～41)朝向內(nèi)側(cè)，因此較第1實施方式適合于在狹窄的范圍內(nèi)調(diào)節(jié)滴下點間距離(L1、L2)的情況。

《第3實施方式》

圖6分別顯示于第3實施方式的滴下裝置1中使用的噴嘴部6的仰視圖、及沿E-E線所作的剖面圖。以下的說明中，對與第1實施方式相同的部分(噴嘴部6以外的部分)，省略說明，只對不同的部分進行說明。

第3實施方式的噴嘴部6，在將平方數(shù)的噴嘴4配置成矩陣狀的點與第1實施方式相同，但于噴嘴4的數(shù)量為9個的點與第1實施方式相異。第3實施方式的噴嘴部6中，將噴嘴塊27的下表面即噴嘴連接面28劃分成9個區(qū)塊，分別在一個區(qū)塊安裝一個噴嘴4。構(gòu)成噴嘴連接面28的9個區(qū)塊，由相同大小的方形狀平面構(gòu)成，且配置為使下表面的中心為頂點。其中，中心的區(qū)塊為水平配置。中心以外的8個區(qū)塊，以使噴嘴4的吐出口5朝向外側(cè)的方式，相對于噴嘴塊27的垂直軸42傾斜既定的角度。該角度以使涂布的液滴45被配置于四邊形的角或邊的中點的方式，成為均等。

自底面觀察時，噴嘴塊27為正方形。中心以外的8個噴嘴4，被配置于繞噴嘴塊27一周的仰視為小正方形的邊的中央或頂點。在該正方形的對角線的交點配置有位于中心的噴嘴4。也即，水平方向鄰接的各噴嘴4的距離相等。

第3實施方式中，通過9個噴嘴4構(gòu)成噴嘴部6，但噴嘴4的數(shù)量不限于此，可由n²(n為2以上的自然數(shù))個噴嘴構(gòu)成噴嘴部6。也即，例如，通過將噴嘴4的數(shù)量設定為2以上的平方(即，4、9、16、25、36…)，可一邊維持矩陣狀的滴下圖案，一邊均勻地調(diào)整滴下點間距離(L1、L2)。

第3實施方式中，也通過調(diào)節(jié)噴嘴與基板的距離，而可調(diào)節(jié)降落至基板的9個滴下點的距離(L1、L2)。第3實施方式中，可同時進行9個的滴下，因而相較于第1實施方式，可提高生產(chǎn)性。

符號說明

1 滴下裝置

2 計量部

3 柱塞

4 噴嘴

5 吐出口

6 噴嘴部

7 切換閥

8 大徑部

9 主體

10 柱塞驅(qū)動構(gòu)件

11 柱塞移動方向

12 流路A

13 流路B

14 流路C

15 供給流路

16 延伸構(gòu)件

17 容器

18 液體配管

19 液體

20 氣泡除去機構(gòu)

21 液體的液流

22 氣體的氣流

23 工作氣體供給配管

24 容器支撐構(gòu)件

25 基座板

26 連接構(gòu)件

27 噴嘴塊

28 噴嘴連接面

29 流入流路

30 分歧流路A

31 分歧流路B

32 分歧流路C

33 分歧流路D

34 噴嘴A

35 噴嘴B

36 噴嘴C

37 噴嘴D

38 吐出口A

39 吐出口B

40 吐出口C

41 吐出口D

42 噴嘴塊的垂直軸

43 吐出口中心軸

44 飛翔軌跡

45 液滴

46 基板(涂布面)

47 分歧流路

51 涂布裝置

52 X軸驅(qū)動裝置

53 Y軸驅(qū)動裝置

54 Z軸驅(qū)動裝置

55 X移動方向(左右方向)

56 Y移動方向(前后方向)

57 Z移動方向(上下方向)

58 工件臺

59 X軸滑塊

60 Y軸滑塊

61 梁

62 梁支撐構(gòu)件

63 架臺

71 基板

72 液滴

73 密封材料