本發(fā)明涉及特種光纖領(lǐng)域,尤其是涉及一種橢圓保偏光纖及其制備方法。
背景技術(shù):
現(xiàn)高架電網(wǎng)的檢測(cè)設(shè)備笨重、陳舊、精度低。困擾著全球的業(yè)界專家、學(xué)者。經(jīng)論證唯有圓保偏光纖能傳輸圓偏振光、抗干擾,有很強(qiáng)的法拉第效應(yīng)。用此光纖制成光纖電流傳器(OCT)可取代老式檢測(cè)儀表,且體積小,精度高。但是因?yàn)閳A保偏光纖的制備方法較為困難,我國(guó)的黃宏嘉院士自1990年就帶領(lǐng)團(tuán)隊(duì)進(jìn)行研發(fā),至今只做出極少量“圓保偏”光纖樣品。目前,絕大部分的圓保偏光纖均來源于進(jìn)口,價(jià)格極為昂貴。目前市場(chǎng)上,常以低雙折射光纖替代圓保偏光纖制備電流傳感器,但是低雙折射光纖對(duì)干擾極為敏感。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
本發(fā)明的目的就是為了克服上述現(xiàn)有技術(shù)存在的缺陷而提供一種抗輻射的橢圓保偏光纖及其制備方法。
本發(fā)明的目的可以通過以下技術(shù)方案來實(shí)現(xiàn):
一種橢圓保偏光纖,該保偏光纖的截面結(jié)構(gòu)從里到外依次為呈橢圓形的纖芯層,包裹所述纖芯層的內(nèi)包層,包裹所述內(nèi)包層的應(yīng)力作用區(qū)層,以及包裹所述應(yīng)力作用區(qū)層的外包層,所述的纖芯層中還摻雜有800~1000ppm的Tb2O3和250~300ppm的CeO2。
所述的纖芯層的圓度為60~90%。
所述的橢圓保偏光纖的直徑為120~130μm,其中,纖芯層的長(zhǎng)軸長(zhǎng)以及內(nèi)包層、應(yīng)力作用區(qū)層和外包層的直徑之比為4:40:100:125。
一種橢圓保偏光纖的制備方法,包括以下步驟:
(1)往石英基管內(nèi)通入SiCl4和O2,加熱反應(yīng),并沉積得到SiO2預(yù)制棒外包 層;
(2)預(yù)制棒外包層沉積好后,通入SiCl4、BBr3和O2,加熱進(jìn)行反應(yīng),在預(yù)制棒外包層上沉積SiO2/B2O3預(yù)制棒應(yīng)力區(qū)層;
(3)通入刻蝕氣體,以石英基管圓心為對(duì)稱點(diǎn),刻蝕除去預(yù)制棒應(yīng)力區(qū)層對(duì)稱兩邊的部分應(yīng)力區(qū),使得剩余部分的預(yù)制棒應(yīng)力區(qū)層的對(duì)稱兩邊互不連接;
(4)刻蝕完成后,通入SiCl4、POCl3、SF6和O2,加熱反應(yīng),沉積得到預(yù)制棒內(nèi)包層,預(yù)制棒內(nèi)包層在沉積過程中先將刻蝕除去的應(yīng)力區(qū)層部分填充滿,然后在未刻蝕除去的應(yīng)力區(qū)層表面上沉積;
(5)預(yù)制棒內(nèi)包層沉積完成后,通入SiCl4、GeCl4、TbCl3、CeCl4和O2,加熱進(jìn)行反應(yīng),沉積得到棒芯層;
(6)沉積完成后,加熱石英基管對(duì)各層進(jìn)行燒結(jié),即收縮得到橢圓光纖預(yù)制棒;
(7)將制得的橢圓光纖預(yù)制棒在旋轉(zhuǎn)拉絲機(jī)上固定,并使其下旋端偏差Ri<50μm,運(yùn)行旋轉(zhuǎn)拉絲機(jī)對(duì)橢圓光纖預(yù)制棒拉制,即得到橢圓保偏光纖。
步驟(1)中所述的SiCl4和O2的通入量的摩爾比為(1~1.2):1,反應(yīng)溫度為1850℃;
步驟(2)中所述的SiCl4、BBr3和O2的通入量的摩爾比為(78~80):(32~33):150,其反應(yīng)溫度為1650~1850℃;
步驟(3)中所述的刻蝕氣體為SF6,刻蝕溫度為1450~1850℃,刻蝕后的預(yù)制棒應(yīng)力區(qū)層呈蝶結(jié)型或熊貓型;
步驟(4)中所述的SiCl4、POCl3、SF6和O2的通入量的摩爾比為(30~40):(3~5):1:(80~100),其加熱反應(yīng)溫度為1850~2050℃;
步驟(5)中所述的SiCl4、GeCl4、TbCl3、CeCl4和O2的通入量的摩爾比為(2~3):1:(0.1~0.2):(0.035~0.06):(10~20),其加熱反應(yīng)溫度為1850~2050℃;
步驟(6)中所述的燒結(jié)溫度為2250~2450℃。
當(dāng)刻蝕后的預(yù)制棒應(yīng)力區(qū)層呈蝶結(jié)型時(shí);制得的橢圓光纖預(yù)制棒的直徑為15~18mm,旋轉(zhuǎn)拉絲機(jī)的旋轉(zhuǎn)速度為1000r/min,旋轉(zhuǎn)截距為5~6mm,拉絲速度為5~6m/min;
當(dāng)刻蝕后的預(yù)制棒應(yīng)力區(qū)層呈熊貓型時(shí),制得的橢圓光纖預(yù)制棒的直徑為40~45mm,旋轉(zhuǎn)拉絲機(jī)的旋轉(zhuǎn)速度為2000r/min,旋轉(zhuǎn)截距為4~5mm,拉絲速度為 8~10m/min。
步驟(1)~(2)和步驟(4)~(5)中,沉積的預(yù)制棒外包層、預(yù)制棒應(yīng)力區(qū)層、預(yù)制棒內(nèi)包層和棒芯層的厚度之比為(1.2~1.5):(3~5):2:(0.3~0.4)。
本發(fā)明在制備過程中,通過先制備蝶結(jié)型應(yīng)力區(qū)或熊貓型應(yīng)力區(qū)的光纖預(yù)制棒,且預(yù)制棒的內(nèi)包層為SiO2/P2O5/F內(nèi)包層,與特殊結(jié)構(gòu)的應(yīng)力區(qū)層的楊氏模量差別相對(duì)較大,從而使得光纖預(yù)制棒在收縮成型過程中,棒芯層依舊能保持較高的圓度,通過在制備過程中通入Tb3+和Ce4+,從而在棒芯層沉積相應(yīng)的氧化物Tb2O3和CeO2,有效的加大拉制得到的橢圓保偏光纖的費(fèi)爾德常數(shù),提高橢圓保偏光纖的順磁性,進(jìn)而提高采用該橢圓保偏光纖制得的檢測(cè)儀表的精度,同時(shí)讓保偏光纖產(chǎn)生一定的抗輻射能力。
與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明制得的光纖具有較高的法拉第效應(yīng)和很強(qiáng)的抗輻射性能,制成的電磁場(chǎng)檢測(cè)儀精度高,用纖短,適用強(qiáng)輻射環(huán)境下工作。
附圖說明
圖1為實(shí)施例1中制得的橢圓保偏光纖的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2為實(shí)施例1制得的橢圓保偏光纖的費(fèi)爾德常數(shù)與波長(zhǎng)的關(guān)系圖;
圖3為實(shí)施例1制得的橢圓保偏光纖的費(fèi)爾德常數(shù)與溫度的關(guān)系圖;
圖中,1-外包層,2-應(yīng)力作用區(qū)層,3-內(nèi)包層,4-纖芯層。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合附圖和具體實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)說明。
實(shí)施例1
一種橢圓保偏光纖,其結(jié)構(gòu)如圖1所示,該保偏光纖的截面結(jié)構(gòu)從里到外依次為呈橢圓形的纖芯層4,包裹所述纖芯層4的內(nèi)包層3,包裹所述內(nèi)包層3的應(yīng)力作用區(qū)層2,以及包裹所述應(yīng)力作用區(qū)層2的外包層1,所述的纖芯層4中還摻雜有800ppm的Tb2O3和250ppm的CeO2,所述的纖芯層4的圓度為60%,所述的橢圓保偏光纖的直徑為120μm,其中,纖芯層4的長(zhǎng)軸長(zhǎng)以及內(nèi)包層3、應(yīng)力作用區(qū)層2和外包層1的直徑之比為4:40:100:125。
上述橢圓保偏光纖的制備方法,包括以下步驟:
(1)往石英基管內(nèi)按摩爾比1:1通入SiCl4和O2,加熱至反應(yīng),并沉積得到 SiO2預(yù)制棒外包層;
(2)預(yù)制棒外包層沉積好后,按摩爾比78:32:150通入SiCl4、BBr3和O2,加熱至1650℃進(jìn)行反應(yīng),在預(yù)制棒外包層上沉積SiO2/B2O3預(yù)制棒應(yīng)力區(qū)層;
(3)通入刻蝕氣體SF6,以石英基管圓心為對(duì)稱點(diǎn),在1450~1850℃刻蝕除去預(yù)制棒應(yīng)力區(qū)層對(duì)稱兩邊的部分應(yīng)力區(qū),使得剩余部分的預(yù)制棒應(yīng)力區(qū)層的對(duì)稱兩邊互不連接并呈熊貓型;
(4)刻蝕完成后,按摩爾比30:3:1:80通入SiCl4、POCl3、SF6和O2,加熱至1850℃反應(yīng),沉積得到SiO2/P2O5/F預(yù)制棒內(nèi)包層;
(5)預(yù)制棒內(nèi)包層沉積完成后,按摩爾比2:1:0.1:0.035:10通入SiCl4、GeCl4、TbCl3、CeCl4和O2,加熱至1850℃進(jìn)行反應(yīng),沉積得到棒芯層;
(6)沉積完成后,此時(shí),預(yù)制棒外包層、預(yù)制棒應(yīng)力區(qū)層、預(yù)制棒內(nèi)包層和棒芯層的厚度之比為1.2:3:2:0.3,加熱石英基管至2250℃對(duì)各層進(jìn)行燒結(jié),即收縮得到橢圓光纖預(yù)制棒,其直徑為40mm,;
(7)將制得的橢圓光纖預(yù)制棒在旋轉(zhuǎn)拉絲機(jī)上固定,并使其下旋端偏差Ri<50μm,運(yùn)行旋轉(zhuǎn)拉絲機(jī),使得旋轉(zhuǎn)拉絲機(jī)的旋轉(zhuǎn)速度為2000r/min,旋轉(zhuǎn)截距為4mm,拉絲速度為8m/min,對(duì)橢圓光纖預(yù)制棒拉制,即得到熊貓型的橢圓保偏光纖。
對(duì)制得的熊貓型的橢圓保偏光纖測(cè)試其在不同溫度與波長(zhǎng)下的應(yīng)用性能,結(jié)果如圖2和圖3所示,可知,為了增強(qiáng)保偏光纖的faraday(法拉第)效應(yīng),應(yīng)盡可能在短波和低溫下使用。
實(shí)施例2
一種橢圓保偏光纖,該保偏光纖的截面結(jié)構(gòu)從里到外依次為呈橢圓形的纖芯層4,包裹所述纖芯層4的內(nèi)包層3,包裹所述內(nèi)包層3的應(yīng)力作用區(qū)層2,以及包裹所述應(yīng)力作用區(qū)層2的外包層1,所述的纖芯層4中還摻雜有1000ppm的Tb2O3和300ppm的CeO2,所述的纖芯層4的圓度為90%,所述的橢圓保偏光纖的直徑為130μm,其中,纖芯層4的長(zhǎng)軸長(zhǎng)以及內(nèi)包層3、應(yīng)力作用區(qū)層2和外包層1的直徑之比為4:40:100:125。
上述橢圓保偏光纖的制備方法,包括以下步驟:
(1)往石英基管內(nèi)按摩爾比1.2:1通入SiCl4和O2,加熱至反應(yīng),并沉積得到SiO2預(yù)制棒外包層;
(2)預(yù)制棒外包層沉積好后,按摩爾比80:32:150通入SiCl4、BBr3和O2,加熱至1850℃進(jìn)行反應(yīng),在預(yù)制棒外包層上沉積SiO2/B2O3預(yù)制棒應(yīng)力區(qū)層;
(3)通入刻蝕氣體SF6,以石英基管圓心為對(duì)稱點(diǎn),在1850℃刻蝕除去預(yù)制棒應(yīng)力區(qū)層對(duì)稱兩邊的部分應(yīng)力區(qū),使得剩余部分的預(yù)制棒應(yīng)力區(qū)層的對(duì)稱兩邊互不連接并呈熊貓型;
(4)刻蝕完成后,按摩爾比40:5:1:100通入SiCl4、POCl3、SF6和O2,加熱至2050℃反應(yīng),沉積得到預(yù)制棒內(nèi)包層;
(5)預(yù)制棒內(nèi)包層沉積完成后,按摩爾比3:1:0.2:0.06:20通入SiCl4、GeCl4、TbCl3、CeCl4和O2,加熱至2050℃進(jìn)行反應(yīng),沉積得到棒芯層;
(6)沉積完成后,此時(shí),預(yù)制棒外包層、預(yù)制棒應(yīng)力區(qū)層、預(yù)制棒內(nèi)包層和棒芯層的厚度之比為1.5:3:2:0.4,加熱石英基管至2450℃對(duì)各層進(jìn)行燒結(jié),即收縮得到橢圓光纖預(yù)制棒,其直徑為42mm,;
(7)將制得的橢圓光纖預(yù)制棒在旋轉(zhuǎn)拉絲機(jī)上固定,并使其下旋端偏差Ri<50μm,運(yùn)行旋轉(zhuǎn)拉絲機(jī),使得旋轉(zhuǎn)拉絲機(jī)的旋轉(zhuǎn)速度為2000r/min,旋轉(zhuǎn)截距為5mm,拉絲速度為10m/min,對(duì)橢圓光纖預(yù)制棒拉制,即得到熊貓型的橢圓保偏光纖。
實(shí)施例3
一種橢圓保偏光纖,該保偏光纖的截面結(jié)構(gòu)從里到外依次為呈橢圓形的纖芯層4,包裹所述纖芯層4的內(nèi)包層3,包裹所述內(nèi)包層3的應(yīng)力作用區(qū)層2,以及包裹所述應(yīng)力作用區(qū)層2的外包層1,所述的纖芯層4中還摻雜有900ppm的Tb2O3和275ppm的CeO2,所述的纖芯層4的圓度為75%,所述的橢圓保偏光纖的直徑為125μm,其中,纖芯層4的長(zhǎng)軸長(zhǎng)以及內(nèi)包層3、應(yīng)力作用區(qū)層2和外包層1的直徑之比為4:40:100:125。
上述橢圓保偏光纖的制備方法,包括以下步驟:
(1)往石英基管內(nèi)按摩爾比1.1:1通入SiCl4和O2,加熱至反應(yīng),并沉積得到SiO2預(yù)制棒外包層;
(2)預(yù)制棒外包層沉積好后,按摩爾比79:32.5:150通入SiCl4、BBr3和O2,加熱至1750℃進(jìn)行反應(yīng),在預(yù)制棒外包層上沉積SiO2/B2O3預(yù)制棒應(yīng)力區(qū)層;
(3)通入刻蝕氣體SF6,以石英基管圓心為對(duì)稱點(diǎn),在1650℃刻蝕除去預(yù)制棒應(yīng)力區(qū)層對(duì)稱兩邊的部分應(yīng)力區(qū),使得剩余部分的預(yù)制棒應(yīng)力區(qū)層的對(duì)稱兩邊互 不連接并呈熊貓型;
(4)刻蝕完成后,按摩爾比35:4:1:90通入SiCl4、POCl3、SF6和O2,加熱至1850~2050℃反應(yīng),沉積得到預(yù)制棒內(nèi)包層;
(5)預(yù)制棒內(nèi)包層沉積完成后,按摩爾比2.5:1:0.15:0.045:15通入SiCl4、GeCl4、TbCl3、CeCl4和O2,加熱至2000℃進(jìn)行反應(yīng),沉積得到棒芯層;
(6)沉積完成后,此時(shí),預(yù)制棒外包層、預(yù)制棒應(yīng)力區(qū)層、預(yù)制棒內(nèi)包層和棒芯層的厚度之比為1.4:4:2:0.35,加熱石英基管至2350℃對(duì)各層進(jìn)行燒結(jié),即收縮得到橢圓光纖預(yù)制棒,其直徑為45mm,;
(7)將制得的橢圓光纖預(yù)制棒在旋轉(zhuǎn)拉絲機(jī)上固定,并使其下旋端偏差Ri<50μm,運(yùn)行旋轉(zhuǎn)拉絲機(jī),使得旋轉(zhuǎn)拉絲機(jī)的旋轉(zhuǎn)速度為2000r/min,旋轉(zhuǎn)截距為4.5mm,拉絲速度為9m/min,對(duì)橢圓光纖預(yù)制棒拉制,即得到熊貓型的橢圓保偏光纖。
實(shí)施例4
一種橢圓保偏光纖,其結(jié)構(gòu)如圖1所示,該保偏光纖的截面結(jié)構(gòu)從里到外依次為呈橢圓形的纖芯層4,包裹所述纖芯層4的內(nèi)包層3,包裹所述內(nèi)包層3的應(yīng)力作用區(qū)層2,以及包裹所述應(yīng)力作用區(qū)層2的外包層1,所述的纖芯層4中還摻雜有800ppm的Tb2O3和250ppm的CeO2,所述的纖芯層4的圓度為60%,所述的橢圓保偏光纖的直徑為120μm,其中,纖芯層4的長(zhǎng)軸長(zhǎng)以及內(nèi)包層3、應(yīng)力作用區(qū)層2和外包層1的直徑之比為4:40:100:125。
上述橢圓保偏光纖的制備方法,包括以下步驟:
(1)往石英基管內(nèi)按摩爾比1:1通入SiCl4和O2,加熱至反應(yīng),并沉積得到SiO2預(yù)制棒外包層;
(2)預(yù)制棒外包層沉積好后,按摩爾比78:32:150通入SiCl4、BBr3和O2,加熱至1650℃進(jìn)行反應(yīng),在預(yù)制棒外包層上沉積SiO2/B2O3預(yù)制棒應(yīng)力區(qū)層;
(3)通入刻蝕氣體SF6,以石英基管圓心為對(duì)稱點(diǎn),在1450~1850℃刻蝕除去預(yù)制棒應(yīng)力區(qū)層對(duì)稱兩邊的部分應(yīng)力區(qū),使得剩余部分的預(yù)制棒應(yīng)力區(qū)層的對(duì)稱兩邊互不連接并呈蝶結(jié)型;
(4)刻蝕完成后,按摩爾比30:3:1:80通入SiCl4、POCl3、SF6和O2,加熱至1850℃反應(yīng),沉積得到SiO2/P2O5/F預(yù)制棒內(nèi)包層;
(5)預(yù)制棒內(nèi)包層沉積完成后,按摩爾比2:1:0.1:0.035:10通入SiCl4、 GeCl4、TbCl3、CeCl4和O2,加熱至1850℃進(jìn)行反應(yīng),沉積得到棒芯層;
(6)沉積完成后,此時(shí),預(yù)制棒外包層、預(yù)制棒應(yīng)力區(qū)層、預(yù)制棒內(nèi)包層和棒芯層的厚度之比為1.2:3:2:0.3,加熱石英基管至2250℃對(duì)各層進(jìn)行燒結(jié),即收縮得到橢圓光纖預(yù)制棒,其直徑為15mm,;
(7)將制得的橢圓光纖預(yù)制棒在旋轉(zhuǎn)拉絲機(jī)上固定,并使其下旋端偏差Ri<50μm,運(yùn)行旋轉(zhuǎn)拉絲機(jī),使得旋轉(zhuǎn)拉絲機(jī)的旋轉(zhuǎn)速度為1000r/min,旋轉(zhuǎn)截距為5mm,拉絲速度為5m/min,對(duì)橢圓光纖預(yù)制棒拉制,即得到蝶結(jié)型的橢圓保偏光纖。
實(shí)施例5
一種橢圓保偏光纖,該保偏光纖的截面結(jié)構(gòu)從里到外依次為呈橢圓形的纖芯層4,包裹所述纖芯層4的內(nèi)包層3,包裹所述內(nèi)包層3的應(yīng)力作用區(qū)層2,以及包裹所述應(yīng)力作用區(qū)層2的外包層1,所述的纖芯層4中還摻雜有1000ppm的Tb2O3和300ppm的CeO2,所述的纖芯層4的圓度為90%,所述的橢圓保偏光纖的直徑為130μm,其中,纖芯層4的長(zhǎng)軸長(zhǎng)以及內(nèi)包層3、應(yīng)力作用區(qū)層2和外包層1的直徑之比為4:40:100:125。
上述橢圓保偏光纖的制備方法,包括以下步驟:
(1)往石英基管內(nèi)按摩爾比1.2:1通入SiCl4和O2,加熱至反應(yīng),并沉積得到SiO2預(yù)制棒外包層;
(2)預(yù)制棒外包層沉積好后,按摩爾比80:32:150通入SiCl4、BBr3和O2,加熱至1850℃進(jìn)行反應(yīng),在預(yù)制棒外包層上沉積SiO2/B2O3預(yù)制棒應(yīng)力區(qū)層;
(3)通入刻蝕氣體SF6,以石英基管圓心為對(duì)稱點(diǎn),在1850℃刻蝕除去預(yù)制棒應(yīng)力區(qū)層對(duì)稱兩邊的部分應(yīng)力區(qū),使得剩余部分的預(yù)制棒應(yīng)力區(qū)層的對(duì)稱兩邊互不連接并呈蝶結(jié)型;
(4)刻蝕完成后,按摩爾比40:5:1:100通入SiCl4、POCl3、SF6和O2,加熱至2050℃反應(yīng),沉積得到預(yù)制棒內(nèi)包層;
(5)預(yù)制棒內(nèi)包層沉積完成后,按摩爾比3:1:0.2:0.06:20通入SiCl4、GeCl4、TbCl3、CeCl4和O2,加熱至2050℃進(jìn)行反應(yīng),沉積得到棒芯層;
(6)沉積完成后,此時(shí),預(yù)制棒外包層、預(yù)制棒應(yīng)力區(qū)層、預(yù)制棒內(nèi)包層和棒芯層的厚度之比為1.5:3:2:0.4,加熱石英基管至2450℃對(duì)各層進(jìn)行燒結(jié),即收縮得到橢圓光纖預(yù)制棒,其直徑為18mm,;
(7)將制得的橢圓光纖預(yù)制棒在旋轉(zhuǎn)拉絲機(jī)上固定,并使其下旋端偏差Ri<50μm,運(yùn)行旋轉(zhuǎn)拉絲機(jī),使得旋轉(zhuǎn)拉絲機(jī)的旋轉(zhuǎn)速度為1000r/min,旋轉(zhuǎn)截距為6mm,拉絲速度為6m/min,對(duì)橢圓光纖預(yù)制棒拉制,即得到蝶結(jié)型的橢圓保偏光纖。
實(shí)施例6
一種橢圓保偏光纖,該保偏光纖的截面結(jié)構(gòu)從里到外依次為呈橢圓形的纖芯層4,包裹所述纖芯層4的內(nèi)包層3,包裹所述內(nèi)包層3的應(yīng)力作用區(qū)層2,以及包裹所述應(yīng)力作用區(qū)層2的外包層1,所述的纖芯層4中還摻雜有900ppm的Tb2O3和275ppm的CeO2,所述的纖芯層4的圓度為75%,所述的橢圓保偏光纖的直徑為125μm,其中,纖芯層4的長(zhǎng)軸長(zhǎng)以及內(nèi)包層3、應(yīng)力作用區(qū)層2和外包層1的直徑之比為4:40:100:125。
上述橢圓保偏光纖的制備方法,包括以下步驟:
(1)往石英基管內(nèi)按摩爾比1.1:1通入SiCl4和O2,加熱至反應(yīng),并沉積得到SiO2預(yù)制棒外包層;
(2)預(yù)制棒外包層沉積好后,按摩爾比79:32.5:150通入SiCl4、BBr3和O2,加熱至1750℃進(jìn)行反應(yīng),在預(yù)制棒外包層上沉積SiO2/B2O3預(yù)制棒應(yīng)力區(qū)層;
(3)通入刻蝕氣體SF6,以石英基管圓心為對(duì)稱點(diǎn),在1650℃刻蝕除去預(yù)制棒應(yīng)力區(qū)層對(duì)稱兩邊的部分應(yīng)力區(qū),使得剩余部分的預(yù)制棒應(yīng)力區(qū)層的對(duì)稱兩邊互不連接并呈蝶結(jié)型;
(4)刻蝕完成后,按摩爾比35:4:1:90通入SiCl4、POCl3、SF6和O2,加熱至1850~2050℃反應(yīng),沉積得到預(yù)制棒內(nèi)包層;
(5)預(yù)制棒內(nèi)包層沉積完成后,按摩爾比2.5:1:0.15:0.045:15通入SiCl4、GeCl4、TbCl3、CeCl4和O2,加熱至2000℃進(jìn)行反應(yīng),沉積得到棒芯層;
(6)沉積完成后,此時(shí),預(yù)制棒外包層、預(yù)制棒應(yīng)力區(qū)層、預(yù)制棒內(nèi)包層和棒芯層的厚度之比為1.4:4:2:0.35,加熱石英基管至2350℃對(duì)各層進(jìn)行燒結(jié),即收縮得到橢圓光纖預(yù)制棒,其直徑為16mm,;
(7)將制得的橢圓光纖預(yù)制棒在旋轉(zhuǎn)拉絲機(jī)上固定,并使其下旋端偏差Ri<50μm,運(yùn)行旋轉(zhuǎn)拉絲機(jī),使得旋轉(zhuǎn)拉絲機(jī)的旋轉(zhuǎn)速度為1000r/min,旋轉(zhuǎn)截距為5.5mm,拉絲速度為5.5m/min,對(duì)橢圓光纖預(yù)制棒拉制,即得到蝶結(jié)型的橢圓保偏光纖。
制得的橢圓保偏光纖的規(guī)格如下表1所示:
上述的對(duì)實(shí)施例的描述是為便于該技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員能理解和使用發(fā)明。熟悉本領(lǐng)域技術(shù)的人員顯然可以容易地對(duì)這些實(shí)施例做出各種修改,并把在此說明的一般原理應(yīng)用到其他實(shí)施例中而不必經(jīng)過創(chuàng)造性的勞動(dòng)。因此,本發(fā)明不限于上述實(shí)施例,本領(lǐng)域技術(shù)人員根據(jù)本發(fā)明的揭示,不脫離本發(fā)明范疇所做出的改進(jìn)和修改都應(yīng)該在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。