1.一種發(fā)光裝置的發(fā)光控制方法，所述發(fā)光裝置包括主光源，所述發(fā)光裝置在開啟所述主光源時出射包含三基色光的第一光，所述第一光在色坐標圖上形成第一色域區(qū)域；
所述發(fā)光裝置還包括用于發(fā)射補償光的補償光源，所述發(fā)光裝置在所述主光源和所述補償光源均開啟時出射包含三基色光的第二光，所述補償光與所述第一光中的至少一種基色光合光形成所述第二光中的一種基色光，所述第二光包含的三基色光中至少有一種基色光的色坐標與所述第一光包含的三基色光中的任意一種基色光的色坐標均不同，所述第二光在色坐標圖上形成第二色域區(qū)域；
其特征在于，所述方法包括：
獲取將要進行投影的當前幀投影圖像的所有像素的色坐標，判斷所述所有像素的色坐標是否都處于所述第一色域區(qū)域；
若所述所有像素的色坐標全部處于所述第一色域區(qū)域，則控制所述主光源開啟，并控制所述補償光源不發(fā)光；
若存在色坐標位于所述第一色域區(qū)域之外的像素，則控制所述主光源和所述補償光源均開啟，使所述所有像素的色坐標均處于所述第二色域區(qū)域。
2.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述若存在色坐標位于所述第一色域區(qū)域之外的像素，則控制所述主光源和所述補償光源均開啟具體包括：
調(diào)節(jié)所述主光源發(fā)光強度與所述補償光源發(fā)光強度的比例，使所述所有像素的色坐標均處于所述第二色域區(qū)域內(nèi)。
3.如權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，所述調(diào)節(jié)所述主光源發(fā)光強度與所述補償光源發(fā)光強度的比例，使所述所有像素的色坐標均處于所述第二色域區(qū)域具體包括：
調(diào)節(jié)所述主光源發(fā)光強度與所述補償光源發(fā)光強度的比例，使所述所有像素的色坐標均處于所述第二色域區(qū)域，且至少有一個像素的色坐標處于所述第二色域區(qū)域的邊線上。
4.如權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，所述控制所述主光源和所述補償光源均開啟包括：
根據(jù)色坐標位于所述第一色域區(qū)域之外的像素的分布控制所述補償光源發(fā)射第一補償光和/或第二補償光，所述第一補償光與所述第一光中的第一基色光合光形成所述第二光中的第一基色光，所述第二補償光與所述第一光中的第二基色光合光形成所述第二光中的第二基色光。
5.如權(quán)利要求4所述的方法，其特征在于，所述根據(jù)色坐標位于所述第 一色域區(qū)域之外的像素的分布控制所述補償光源發(fā)射第一補償光和/或第二補償光具體包括：
當所述色坐標位于所述第一色域區(qū)域之外的像素中存在分布在第三色域區(qū)域中的像素時，控制所述補償光源發(fā)射第一補償光，所述第三色域區(qū)域為所述第一補償光的色坐標、所述第一光中的第一基色光的色坐標以及所述第一光中的第三基色光的色坐標所圍成的色域區(qū)域；
當所述色坐標位于所述第一色域區(qū)域之外的像素中存在分布在第四色域區(qū)域中的像素時，控制所述補償光源發(fā)射第二補償光，所述第四色域區(qū)域為所述第二補償光的色坐標、所述第一光中的第二基色光的色坐標以及所述第一光中的第三基色光的色坐標所圍成的色域區(qū)域。
6.如權(quán)利要求5所述的方法，其特征在于，所述調(diào)節(jié)所述主光源發(fā)光強度與所述補償光源發(fā)光強度的比例，使所述所有像素的色坐標均處于所述第二色域區(qū)域內(nèi)具體包括：
當所述色坐標位于所述第一色域區(qū)域之外的像素均分布在第三色域區(qū)域中時，調(diào)節(jié)所述主光源發(fā)光強度與所述補償光源發(fā)射第一補償光的發(fā)光強度的比例，使所述第一補償光與所述第一光中的第一基色光的合光的色坐標為第一線與第二線的交點中與所述第一補償光的色坐標距離最近的色坐標，所述第二色域區(qū)域為所述第一補償光與所述第一光中的第一基色光的合光的色坐標、所述第一光中的第二基色光的色坐標以及所述第一光中的第三基色光的色坐標所圍成的色域區(qū)域；
當所述色坐標位于所述第一色域區(qū)域之外的像素均分布在第四色域區(qū)域中時，調(diào)節(jié)所述主光源發(fā)光強度與所述補償光源發(fā)射第二補償光的發(fā)光強度的比例，使所述第二補償光與所述第一光中的第二基色光的合光的色坐標為第三線與第四線的交點中與所述第二補償光的色坐標距離最近的色坐標，所述第二色域區(qū)域為所述第二補償光與所述第一光中的第二基色光的合光的色坐標、所述第一光中的第一基色光的色坐標以及所述第一光中的第三基色光的色坐標所圍成的色域區(qū)域；
當所述色坐標位于所述第一色域區(qū)域之外的像素中即存在分布在第三色域區(qū)域中的像素，又存在分布在第四色域區(qū)域中的像素時，調(diào)節(jié)所述主光源發(fā)光強度與所述補償光源發(fā)射第一補償光的發(fā)光強度的比例，使所述第一補償光與所述第一光中的第一基色光的合光的色坐標為第一線與第二線的交點中與所述第一補償光的色坐標距離最近的色坐標，同時調(diào)節(jié)所述主光源發(fā)光強度與所述補償光源發(fā)射第二補償光的發(fā)光強度的比例，使所述第二補償光與所述第一光 中的第二基色光的合光的色坐標為第三線與第四線的交點中與所述第二補償光的色坐標距離最近的色坐標，所述第二色域區(qū)域為所述第一補償光與所述第一光中的第一基色光的合光的色坐標、所述第二補償光與所述第一光中的第二基色光的合光的色坐標、以及所述第一光中的第三基色光的色坐標所圍成的色域區(qū)域；
其中所述第一線為所述第二光中的第三基色光的色坐標與分布在第三色域區(qū)域的像素的色坐標的連線的延長線，所述第二線為所述第一補償光的色坐標與所述第一光中的第一基色光的色坐標的連線，所述第三線為所述第一光中的第三基色光的色坐標與分布在第四色域區(qū)域的像素的色坐標的連線的延長線，所述第四線為所述第二補償光的色坐標與所述第一光中的第二基色光的色坐標的連線。
7.如權(quán)利要求1-6任一項所述的方法，其特征在于，所述發(fā)光裝置以光序列的方式發(fā)射第一基色光、第二基色光和第三基色光，控制所述補償光源開啟并發(fā)射補償光的方式為：在所述發(fā)光裝置發(fā)射被補償?shù)幕馄陂g，控制所述補償光源發(fā)射相應的補償光，在所述發(fā)光裝置發(fā)射其它光期間，控制所述補償光源不發(fā)射相應的補償光。
8.如權(quán)利要求1-6任一項所述的方法，其特征在于，所述控制所述主光源開啟，并控制所述補償光源不發(fā)光還包括：調(diào)節(jié)所述第一光中的三基色光的比例，使得所述第一光達到預設的亮度和/或白平衡。
9.如權(quán)利要求1-6任一項所述的方法，其特征在于，所述控制所述主光源和所述補償光源均開啟還包括：調(diào)節(jié)所述第二光中的三基色光的比例，使得所述第二光達到預設的亮度和/或白平衡。
10.一種發(fā)光裝置，其特征在于，包括：
主光源，用于發(fā)射激發(fā)光；
補償光源，用于發(fā)射補償光；
顏色光產(chǎn)生裝置，用于在所述激發(fā)光的照射下產(chǎn)生包含三基色光的第一光，所述第一光在色坐標圖上形成第一色域區(qū)域；
所述發(fā)光裝置在所述主光源和所述補償光源均開啟時出射包含三基色光的第二光，所述補償光與所述第一光中的至少一種基色光合光形成所述第二光中的一種基色光，所述第二光在色坐標圖上形成第二色域區(qū)域；
控制器，分別與所述主光源以及所述補償光源連接，用于獲取將要進行投影的當前幀投影圖像的所有像素的色坐標，判斷所述所有像素的色坐標是否都處于所述第一色域區(qū)域；
若所述所有像素的色坐標全部處于所述第一色域區(qū)域，則控制所述主光源開啟，并控制所述補償光源不發(fā)光；
若存在色坐標位于所述第一色域區(qū)域之外的像素，則控制所述主光源和所述補償光源均開啟，使所述所有像素的色坐標均處于所述第二色域區(qū)域。
11.如權(quán)利要求10所述的裝置，其特征在于，所述控制器判斷存在色坐標位于所述第一色域區(qū)域之外的像素，則控制所述主光源和所述補償光源均開啟，具體包括：
所述控制器調(diào)節(jié)所述主光源發(fā)光強度與所述補償光源發(fā)光強度的比例，使所述所有像素的色坐標均處于所述第二色域區(qū)域內(nèi)。
12.如權(quán)利要求11所述的裝置，其特征在于，所述控制器調(diào)節(jié)所述主光源發(fā)光強度與所述補償光源發(fā)光強度的比例，使所述所有像素的色坐標均處于所述第二色域區(qū)域具體包括：
所述控制器調(diào)節(jié)所述主光源發(fā)光強度與所述補償光源發(fā)光強度的比例，使所述所有像素的色坐標均處于所述第二色域區(qū)域，且至少有一個像素的色坐標處于所述第二色域區(qū)域的邊線上。
13.如權(quán)利要求10-12任一項所述的裝置，其特征在于，
所述補償光源包括第一補償光源和/或第二補償光源；所述第一補償光源用于發(fā)射第一補償光，所述第二補償光源用于發(fā)射第二補償光；
所述控制器控制所述主光源和所述補償光源均開啟包括：
所述控制器根據(jù)色坐標位于所述第一色域區(qū)域之外的像素的分布控制所述補償光源發(fā)射第一補償光和/或第二補償光，所述第一補償光與所述第一光中的第一基色光合光形成所述第二光中的第一基色光，所述第二補償光與所述第一光中的第二基色光合光形成所述第二光中的第二基色光。
14.一種投影設備，其特征在于，包括如權(quán)利要求10-13任一項所述的發(fā)光裝置。